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작업대상물인 기판이 안착되는 테이블과,
상기 테이블의 상부에 위치되고 그 하면으로 개구되게 플라즈마형성부가 형성되는 프레임과,
상기 플라즈마형성부로 작업가스를 공급하는 주입노즐을 구비하는 작업가스공급부와,
상기 기판 상에 박막이 형성되는 부분을 외부와 차폐하도록 상기 프레임의 하면으로 개구되는 차단포트를 구비하는 차단가스공급부와,
상기 차단가스공급부에 의해 외부와 차폐된 공간 내에서 작업완료된 작업가스와 상기 차단가스를 배출하는 상기 프레임의 하면으로 개구된 배기포트를 구비하는 배기부와,
상기 프레임의 하면 최 외측을 둘러서는 누설감지포트가 형성되고, 상기 누설감지포트를 통해 흡입된 가스를 통해 프레임과 기판 사이의 가스 누설과 압력상태를 감지하는 감지부를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 박막형성장치에 있어서,
상기 배기포트는, 상기 프레임의 하면 중 상기 플라즈마형성부의 가장자리를 둘러 2중 이상의 궤적을 구성하도록 형성되고,
상기 차단포트는, 상기 프레임의 하면 중 상기 배기포트보다 더 외측을 따라 적어도 2중 이상의 궤적을 구성하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형성장치
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제 1 항에 있어서, 상기 플라즈마형성부는 상기 프레임의 중앙에 형성되는 것으로, 상기 플라즈마형성부 내부에 있는 제1전극과 상기 테이블에 설치된 제2전극에 의해 플라즈마가 형성되는 부분임을 특징으로 하는 박막형성장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 플라즈마형성부의 내면에는 쉴드층이 형성됨을 특징으로 하는 박막형성장치
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제 2 항에 있어서, 상기 제1전극 및 제2전극은, 상기 플라즈마형성부와 대응되는 부분에서 박막이 형성되도록 상기 프레임이 이동됨에 따라 함께 이동하는 것을 특징으로 하는 박막형성장치
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제 2 항에 있어서, 상기 제2전극은, 기판 전체에 대응되는 면적으로 형성됨을 특징으로 하는 박막형성장치
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박막이 형성될 기판 상의 영역을 둘러 적어도 2중 이상의 궤적을 구성하도록 차단가스를 공급하여 박막이 형성될 영역을 주변과 차폐하는 차폐단계와,
플라즈마형성부에 작업가스를 공급하면서 플라즈마를 형성하여 상기 기판의 주변과 차폐된 영역에 작업가스에 의해 박막을 형성하는 박막형성단계와,
상기 박막형성단계의 진행중에 사용되고 남은 작업가스와 상기 차단가스를 상기 차단가스에 의해 형성된 영역 외부로 적어도 2중 이상의 궤적을 구성하도록 배출하는 배출단계와,
상기 박막이 형성될 기판상의 영역을 벗어난 영역으로 작업가스가 누출되는 것과 압력상태를 감지하는 누설감지단계를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 박막형성방법
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제 8 항에 있어서, 상기 박막형성단계는, 상기 플라즈마형성부 내부에 있는 제1전극과 테이블에 설치된 제2전극에 의해 형성된 플라즈마에 의해 박막이 형성됨으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제 9 항에 있어서, 상기 기판 상에 박막을 형성함에 있어서 상기 기판을 이동시켜 기판의 원하는 영역에 박막을 형성함을 특징으로 하는 박막형성방법
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제 9 항에 있어서, 상기 기판에 박막을 형성함에 있어서 상기 차단가스가 공급되는 영역과 상기 플라즈마형성부를 이동시켜 기판의 원하는 영역에 박막을 형성함을 특징으로 하는 박막형성방법
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제 11 항에 있어서, 상기 플라즈마 형성부와 대응되는 부분에서 박막이 형성되도록, 상기 플라즈마형성부가 형성되는 프레임이 이동됨에 따라 상기 제1전극 및 제2전극이 함께 이동하는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제 11 항에 있어서, 상기 제2전극은, 기판 전체에 대응되는 면적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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