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무선태그용 안테나 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015040456
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 소형화한 RFID 안테나 및 이를 제조하기 위한 제조방법을 제공하기 위한 것이다.상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명은 도체 패턴이 형성된 고투자율 박막 쉬트를 다층으로 적층시키고, 상기 박막 쉬트에 형성된 도체 패턴들이 전기적으로 접속되는 무선태그용 안테나에 있어서: 상기 박막 쉬트 중 적어도 하나에는 캐퍼시터를 형성하기 위한 유전층이 형성되는 기술구성으로 이루어진다.도체패턴, 페라이트, 고투자율, 박막 쉬트, 캐패시터
Int. CL H01Q 7/00 (2006.01) G06K 19/077 (2006.01)
CPC H01Q 7/005(2013.01) H01Q 7/005(2013.01) H01Q 7/005(2013.01) H01Q 7/005(2013.01) H01Q 7/005(2013.01)
출원번호/일자 1020050108662 (2005.11.14)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-0674820-0000 (2007.01.20)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070125) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.12.14)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오태성 대한민국 광주광역시 광산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영철 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)
2 정현영 대한민국 서울특별시 금천구 벚꽃로 ***, ****호-** (가산동, 대륭포스트타워*차)(정특허법률사무소)
3 임평섭 대한민국 서울특별시 영등포구 당산로 ***-*, *층(당산동*가, 정우빌딩)(임특허법률사무소)
4 홍승규 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.11.14 수리 (Accepted) 1-1-2005-0653809-22
2 출원심사청구서
Request for Examination		 2005.12.14 수리 (Accepted) 1-1-2005-0731449-07
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2006.05.16 수리 (Accepted) 4-1-2006-5066791-07
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2006.05.19 수리 (Accepted) 4-1-2006-5068944-32
5 등록결정서
Decision to grant		 2007.01.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0027981-11
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.07.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5146412-87
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.02.24 수리 (Accepted) 4-1-2010-5032116-06
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
도체패턴이 형성된 고투자율 박막 쉬트를 다층으로 적층시키고, 상기 박막 쉬트에 형성된 도체패턴들이 전기적으로 접속되는 무선태그용 안테나에 있어서:상기 박막 쉬트 중 적어도 하나에는 캐패시터를 형성하기 위한 유전층이 형성되어 있는 무선태그용 안테나
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 유전층의 상, 하면에는 도체 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 무선태그용 안테나
3 3
도체패턴이 형성된 고투자율 박막 쉬트를 다층으로 적층시키고, 상기 박막 쉬트에 형성된 도체패턴들이 전기적으로 접속되는 무선태그용 안테나에 있어서:상기 박막 쉬트중 적어도 하나에는 저항을 갖는 저항층이 형성되어 있는 무선태그용 안테나
4 4
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 박막 쉬트는 페라이트분말이 함유되는 것을 특징으로 하는 무선태그용 안테나
5 5
고투자율 박막 쉬트를 형성하여 건조하는 단계;상기 박막 쉬트에 비아홀을 가공하고, 상기 비아홀을 충진하는 단계;상기 박막 쉬트의 일면에 안테나용 도체패턴과 캐패시터용 제 1 도체패턴을 형성하는 도체패턴 형성단계;상기 캐패시터용 도체패턴이 형성된 박막 쉬트에 유전체를 도포하여 유전체층을 형성하고, 상기 유전체층 상면에 캐패시터용 제 2 도체패턴을 형성하는 캐패시터 형성단계;상기 박막 쉬트를 적층하여 가열, 가압시키는 적층단계;상기 적층된 박막 쉬트를 소성시키는 소성단계를 포함하는 무선태그용 안테나 제조방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 소성단계는 950℃ 이하로 소성되는 것을 특징으로 하는 무선태그용 안테나 제조방법
7 7
제 5 항에 있어서,상기 박막 쉬트는 페라이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 무선태그용 안테나 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.