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표시소자 제조용 건식 식각 장치

  • 기술번호 : KST2015041094
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요약 본 발명은 파워 손실을 최소화하여 식각 공정시 식각 불량을 미연에 방지하도록 한 건식 식각 장치에 관한 것으로서, 고주파 파워를 발생하는 고주파 파워 발생기와, 내부에 밀폐공간을 형성하고 식각 대상물을 수용하고 식각 공정이 진행되는 진공챔버와, 상기 진공챔버내의 유입되는 식각가스를 이용하여 플라즈마를 형성하기 위해 방전 공간을 형성하는 상부 플레이트 전극 및 샤워 헤드와, 상기 상부 플레이트 전극과 소정의 간격을 유지하여 글로우 방전 공간을 형성하는 하부 플레이트 전극과, 상기 고주파 파워 발생기로부터 상기 샤워 헤드로 파워를 공급하기 위한 파워공급라인과, 상기 파워공급라인을 통해 파워가 공급되는 샤워 헤드에 체결되어 파워를 측면으로 전달하는 고주파 콘택 블록을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.건식 식각, 플라즈마, 플레이트 전극, 샤워 헤드, 파워
Int. CL G02F 1/13 (2006.01) H01L 21/3065 (2006.01)
CPC G02F 1/1303(2013.01) G02F 1/1303(2013.01) G02F 1/1303(2013.01)
출원번호/일자 1020050121841 (2005.12.12)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1147103-0000 (2012.05.10)
공개번호/일자 10-2007-0062102 (2007.06.15) 문서열기
공고번호/일자 (20120517) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.02)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유광종 대한민국 경상북도 칠곡군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 심창섭 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 **, 현대빌딩 *층 (잠실동)(KBK특허법률사무소)
2 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2005-0725492-64
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2010.12.02 수리 (Accepted) 1-1-2010-0794075-07
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.07.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2011-0064489-16
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0565822-73
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0939269-04
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.11.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0939268-58
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
12 등록결정서
Decision to grant
2012.04.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0231892-04
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번호 청구항
1 1
고주파 파워를 발생하는 고주파 파워 발생기와,내부에 밀폐공간을 형성하고 식각 대상물을 수용하고 식각 공정이 진행되는 진공챔버와,상기 진공챔버내의 유입되는 식각가스를 이용하여 플라즈마를 형성하기 위해 방전 공간을 형성하는 상부 플레이트 전극 및 샤워 헤드와,상기 상부 플레이트 전극과 소정의 간격을 유지하여 글로우 방전 공간을 형성하는 하부 플레이트 전극과,상기 고주파 파워 발생기로부터 상기 샤워 헤드로 파워를 공급하기 위한 파워공급라인과,상기 파워공급라인을 통해 파워가 공급되는 샤워 헤드에 체결되어 파워를 측면으로 전달하는 고주파 콘택 블록을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 표시소자 제조용 건식 식각 장치
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 고주파 콘택 블록은 알루미늄 등의 전도체로 이루어짐을 특징으로 하는 표시소자 제조용 건식 식각 장치
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 상부 플레이트 전극 및 샤워 헤드 사이의 방전 공간을 관통하여 샤워 헤드에 연결되는 파워공급라인의 주위에 피복되는 절연물질을 더 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 표시소자 제조용 건식 식각 장치
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 고주파 콘택 블록 및 그에 인접한 샤워 헤드에 구성되는 세라믹을 더 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 표시소자 제조용 건식 식각 장치
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 파워공급라인으로부터 발생되는 열을 제거하기 위한 쿨링챔버를 더 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 표시소자 제조용 건식 식각 장치
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 진공챔버 내부로 상기 가스를 유입시키기 위한 가스공급부와, 상기 고주파 파워 발생기 및 진공챔버 내의 상기 상부 플레이트 전극 사이에 설치되어 상기 고주파 파워 발생기로부터 발생되는 고주파 교류전압의 임피던스 및 위상과 상기 진공챔버 내의 상기 샤워 헤드로 공급되는 고주파 교류전압의 임피던스 및 위상을 일치시키기 위한 고주파 매치박스를 더 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 표시소자 제조용 건식 식각 장치
8 8
제 1 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 파워공급라인은 상기 고주파 파워 발생기로부터 발생된 파워를 상기 고주파 매치 박스로 전달하기 위한 제 1 파워라인과, 상기 고주파 매치 박스로부터 상기 샤워 헤드에 상기 파워를 전달하기 위한 제 2 파워 라인으로 이루어짐을 특징으로 하는 표시소자 제조용 건식 식각 장치
9 9
제 6 항에 있어서, 상기 쿨링챔버는 팬(fan)을 이용하여 구동되는 것을 특징으로 하는 표시소자 제조용 건식 식각 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.