기술이전플랫폼 Tech-Bridge-이전대상기술

맞춤기술찾기

홈으로 가기

맞춤기술찾기

이전대상기술

프린트하기

이전대상기술

박막 패턴 제조 방법

기술번호 : KST2015041126
담당센터 :
전화번호 :

상담신청 PDF 받기

상세정보
공개전문
공고전문
등록사항
통합행정정보
기술정보
과제정보
관련기술
심판사항

서지정보
인명정보
행정처리
청구항
지정국
패밀리정보
국가R&D 연구정보

이전 슬라이드 보기 다음 슬라이드 보기

요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	요구된 형태의 패턴을 가지는 박막을 제조하기 적합한 박막 패턴 제조 방법이 개시된다.박막 패턴 제조 방법에서는, 박막이 표면에 형성된 기판상에 패턴의 형태를 결정하는 마스크 막이 인쇄된다. 이 마스크 막에 사이로 노출된 박막의 표면층이 제거된 후, 마스크에 의하여 노출된 박막의 표면에 나노 입자 수용액이 도포된다. 이렇게 도포된 나노 입자 수용액의 액체 성분을 제거됨으로써 나노 입자 막 패턴이 형성된다.이에 따라, 정해진 박막 패턴의 형성 영역의 상부 또는 하부에 잉여의 공간을 마련하여 나노 입자 수용액의 수용 공간이 확장된다. 이 결과, 요구된 폭을 균일하게 유지하는 박막 패턴이 형성될 수 있다.패턴, 박막, 나노, 친수성, 소수성, SAMs, 인쇄
Int. CL	B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/027 (2006.01)
CPC	H01L 21/0273(2013.01) H01L 21/0273(2013.01) H01L 21/0273(2013.01)
출원번호/일자	1020050129319 (2005.12.26)
출원인	엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자	10-1254825-0000 (2013.04.09)
공개번호/일자	10-2007-0067875 (2007.06.29) 문서열기
공고번호/일자	(20130415) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2010.12.20)
심사청구항수	18

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	엘지디스플레이 주식회사	대한민국	서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	이보현	대한민국	서울 성북구
2	채기성	대한민국	인천광역시 연수구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	서교준	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로 길, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	엘지디스플레이 주식회사		서울특별시 영등포구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서 Patent Application	2005.12.26	수리 (Accepted)	1-1-2005-0760180-90
2	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2008.04.18	수리 (Accepted)	4-1-2008-5061241-15
3	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)	2010.12.20	수리 (Accepted)	1-1-2010-0838663-54
4	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2010.12.21	수리 (Accepted)	4-1-2010-5241074-12
5	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2011.09.09	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
6	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2011.10.04	수리 (Accepted)	4-1-2011-5199065-15
7	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2011.10.18	수리 (Accepted)	9-1-2011-0081929-47
8	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2011.12.29	수리 (Accepted)	4-1-2011-5262372-95
9	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2012.05.21	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0295252-82
10	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2012.07.23	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2012-0583928-13
11	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2012.07.23	수리 (Accepted)	1-1-2012-0583927-78
12	[대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)	2012.09.04	수리 (Accepted)	1-1-2012-0711326-63
13	등록결정서 Decision to grant	2013.01.28	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0059075-62

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 삭제
2	2 삭제
3	3 삭제
4	4 삭제
5	5 삭제
6	6 삭제
7	7 삭제
8	8 삭제
9	9 삭제
10	10 박막이 표면에 형성된 기판을 마련하는 단계;상기 박막 상에 패턴의 형태를 결정하는 제1 마스크 막을 인쇄하는 단계;상기 제1 마스크 상에 상기 패턴과 인접한 제2 마스크 막의 가장자리가 노출되게 제2 마스크 막을 인쇄하는 단계;상기 제1 마스크 막에 의하여 노출된 상기 박막의 표면층을 제거하는 단계;상기 제2 마스크 사이로 상기 박막의 표면 및 상기 제2 마스크 막의 가장자리에 나노 입자 수용액을 도포하는 단계; 및상기 나노 입자 수용액의 액체 성분을 제거하여 나노 입자 막 패턴이 형성되게 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
11	11 제 10 항에 있어서, 상기 박막이 친수성을 가지는 물질로 그리고 상기 제1 및 제2 마스크 막이 소수성을 가지는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
12	12 제 10 항에 있어서, 상기 박막이 절연막을 형성하고 그리고 상기 박막 패턴이 배선을 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
13	13 제 10 항에 있어서, 상기 박막의 표면층 제거 단계는 상기 박막의 표면층이 상기 박막의 두께의 1/4 내지 1/3 정도가 식각되게 하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
14	14 제 13 항에 있어서, 상기 박막이 2~3㎛ 의 두께로 형성되고 상기 박막의 표면층이 0
15	15 기판상에 패턴의 형태를 결정하는 제1 마스크 막을 인쇄하는 단계;상기 제1 마스크 막에 상기 패턴과 인접하는 상기 제1 마스크 막의 가장자리가 노출되게 제2 마스크 막을 형성하는 단계;상기 제1 마스크 막에 의하여 노출된 상기 기판의 표면층을 제거하는 단계; 상기 제2 마스크 사이로 노출된 상기 기판의 표면 및 상기 제1 마스크 막의 가장자리에 나노 입자 수용액을 도포하는 단계; 및상기 나노 입자 수용액의 액체 성분을 제거하여 나노 입자 막 패턴이 형성되게 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
16	16 제 15 항에 있어서, 상기 기판이 친수성을 가지는 물질로 그리고 상기 제1 및 제2 마스크 막이 소수성을 가지는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
17	17 제 15 항에 있어서, 상기 박막 패턴이 트랜지스터의 확산 영역 및 소자들을 분리하는 분리막 중 어느 하나를 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
18	18 제 17 항에 있어서, 상기 기판의 표면층 제거 단계는 상기 박막의 표면층이 0
19	19 박막이 표면에 형성된 기판을 마련하는 단계;상기 박막 상에 패턴의 형태를 결정하는 제1 마스크 막을 인쇄하는 단계;상기 제1 마스크 상에 상기 패턴과 인접한 제2 마스크 막의 가장자리가 노출되게 제2 마스크 막을 인쇄하는 단계;상기 제2 마스크 사이로 상기 박막의 표면 및 상기 제2 마스크 막의 가장자리에 나노 입자 수용액을 도포하는 단계; 및상기 나노 입자 수용액의 액체 성분을 제거하여 나노 입자 막 패턴이 형성되게 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
20	20 제 19 항에 있어서, 상기 박막이 친수성을 가지는 물질로 그리고 상기 제1 및 제2 마스크 막이 소수성을 가지는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
21	21 제 19 항에 있어서, 상기 박막이 절연막을 형성하고 그리고 상기 박막 패턴이 배선을 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
22	22 제 19 항에 있어서, 상기 박막의 표면층 제거 단계는 상기 박막의 표면층이 상기 박막의 두께의 1/4 내지 1/3 정도가 식각되게 하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
23	23 제 22 항에 있어서, 상기 박막이 2~3㎛ 의 두께로 형성되고 상기 박막의 표면층이 0
24	24 기판상에 패턴의 형태를 결정하는 제1 마스크 막을 인쇄하는 단계;상기 제1 마스크 막에 상기 패턴과 인접하는 상기 제1 마스크 막의 가장자리가 노출되게 제2 마스크 막을 형성하는 단계;상기 제2 마스크 사이로 노출된 상기 기판의 표면 및 상기 제1 마스크 막의 가장자리에 나노 입자 수용액을 도포하는 단계; 및상기 나노 입자 수용액의 액체 성분을 제거하여 나노 입자 막 패턴이 형성되게 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
25	25 제 24 항에 있어서, 상기 기판이 친수성을 가지는 물질로 그리고 상기 제1 및 제2 마스크 막이 소수성을 가지는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
26	26 제 24 항에 있어서, 상기 박막 패턴이 트랜지스터의 확산 영역 및 소자들을 분리하는 분리막 중 어느 하나를 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 제조 방법
27	27 제 26 항에 있어서, 상기 기판의 표면층 제거 단계는 상기 박막의 표면층이 0

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허 등록번호 표입니다.
특허 등록번호	10-1254825-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20051226 출원 번호 : 1020050129319 공고 연월일 : 20130415 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130128 청구범위의 항수 : 18 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 박막 패턴 제조 방법 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	747,000 원	2013년 04월 09일	납입
제 4 년분	금 액	436,000 원	2016년 03월 29일	납입
제 5 년분	금 액	436,000 원	2017년 03월 20일	납입
제 6 년분	금 액	436,000 원	2018년 03월 15일	납입
제 7 년분	금 액	784,000 원	2019년 03월 18일	납입
제 8 년분	금 액	784,000 원	2020년 03월 19일	납입

본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서	2005.12.26	수리 (Accepted)	1-1-2005-0760180-90
2	출원인정보변경(경정)신고서	2008.04.18	수리 (Accepted)	4-1-2008-5061241-15
3	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서	2010.12.20	수리 (Accepted)	1-1-2010-0838663-54
4	출원인정보변경(경정)신고서	2010.12.21	수리 (Accepted)	4-1-2010-5241074-12
5	선행기술조사의뢰서	2011.09.09	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
6	출원인정보변경(경정)신고서	2011.10.04	수리 (Accepted)	4-1-2011-5199065-15
7	선행기술조사보고서	2011.10.18	수리 (Accepted)	9-1-2011-0081929-47
8	출원인정보변경(경정)신고서	2011.12.29	수리 (Accepted)	4-1-2011-5262372-95
9	의견제출통지서	2012.05.21	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0295252-82
10	[명세서등 보정]보정서	2012.07.23	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2012-0583928-13
11	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2012.07.23	수리 (Accepted)	1-1-2012-0583927-78
12	[대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서	2012.09.04	수리 (Accepted)	1-1-2012-0711326-63
13	등록결정서	2013.01.28	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0059075-62


기술번호	KST2015041126
자료제공기관	NTB
기술공급기관	LG그룹
기술명	박막 패턴 제조 방법
기술개요	요구된 형태의 패턴을 가지는 박막을 제조하기 적합한 박막 패턴 제조 방법이 개시된다.박막 패턴 제조 방법에서는, 박막이 표면에 형성된 기판상에 패턴의 형태를 결정하는 마스크 막이 인쇄된다. 이 마스크 막에 사이로 노출된 박막의 표면층이 제거된 후, 마스크에 의하여 노출된 박막의 표면에 나노 입자 수용액이 도포된다. 이렇게 도포된 나노 입자 수용액의 액체 성분을 제거됨으로써 나노 입자 막 패턴이 형성된다.이에 따라, 정해진 박막 패턴의 형성 영역의 상부 또는 하부에 잉여의 공간을 마련하여 나노 입자 수용액의 수용 공간이 확장된다. 이 결과, 요구된 폭을 균일하게 유지하는 박막 패턴이 형성될 수 있다.패턴, 박막, 나노, 친수성, 소수성, SAMs, 인쇄
개발상태
기술의 우수성
응용분야
시장규모 및 동향
희망거래유형
사업화적용실적
도입시고려사항

중요키워드

이전대상기술 뷰 페이지 관련기술 표
[KST2015023574][LG그룹]	기판의 내장홈 형성방법	새창보기
[KST2015023601][LG그룹]	액정표시장치용 어레이기판 제조방법	새창보기
[KST2015026010][LG그룹]	디스크용 스핀코팅장비	새창보기
[KST2015027999][LG그룹]	레이저 조사 장비 및 그 응용 방법	새창보기
[KST2015032496][LG그룹]	청소기의 구동장치	새창보기
[KST2015036868][LG그룹]	노광 장치	새창보기
[KST2015023557][LG그룹]	액정 표시장치 및 그 제조방법	새창보기
[KST2015024231][LG그룹]	탄소나노튜브를 이용한 전계방출형 표시소자 및 그 제조방법	새창보기
[KST2015030986][LG그룹]	공기조화기의 실내기	새창보기
[KST2015023481][LG그룹]	액정 표시장치	새창보기
[KST2015025422][LG그룹]	포토레지스트의 제거장치 및 이를 이용한 포토레지스트제거방법	새창보기
[KST2015023618][LG그룹]	액정표시장치용 어레이기판 제조방법	새창보기
[KST2015026167][LG그룹]	액정 표시 소자 및 그 제조방법	새창보기
[KST2015026930][LG그룹]	종횡 노광이 가능한 정렬 키를 가지는 마스크 및 이를이용한 노광 방법	새창보기
[KST2015023512][LG그룹]	액정 표시장치	새창보기
[KST2015023585][LG그룹]	액정표시장치용 어레이기판 제조방법	새창보기
[KST2015025013][LG그룹]	노광장비의 요 가이드 휨 모니터링 장치 및 방법	새창보기
[KST2015023354][LG그룹]	노광기 초점 조절장치	새창보기
[KST2015032350][LG그룹]	분리형 공기조화기의 실내기	새창보기
[KST2015032939][LG그룹]	공기조화기	새창보기
[KST2015023413][LG그룹]	액정 표시장치	새창보기
[KST2015023414][LG그룹]	액정 표시장치	새창보기
[KST2015023543][LG그룹]	액정표시장치용 어레이기판 및 그의 제조방법	새창보기
[KST2015026785][LG그룹]	스캔 방식 노광 설비의 마스크	새창보기
[KST2015029696][LG그룹]	열교환기 및 그 제조방법	새창보기
[KST2014059867][LG그룹]	액정표시패널 및 그 제조 방법	새창보기
[KST2015024966][LG그룹]	액티브 매트릭스 평판 디스플레이 패널	새창보기
[KST2015029213][LG그룹]	얼라인마크 형성 장치 및 방법	새창보기
[KST2015030108][LG그룹]	냉음극 방전램프	새창보기
[KST2015032534][LG그룹]	분리형 공기조화기의 실내기	새창보기

의뢰할 수요기술을 선택합니다

담당자명, 주소, 이메일, 연락처, 내용, 파일선택의 정보를 제공하는 도입희망기술 뷰 페이지 의뢰하기 입력표입니다.
담당자명		활동구분※필수입력항목
이메일		연락처	- -
내용
파일선택	파일선택

기술이전 상담신청 드립니다.
기업명
신청자 성명		직책
연락처	- -
이메일	@
상담희망전담센터	※ 사업장(본점) 소재지가 속한 지역의 기술혁신센터를 지정해주세요.