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투명 기판;상기 투명 기판 상에 형성되는 광차단층;상기 투명 기판 상에서 상기 광차단층이 형성되지 않은 영역에 형성되는 제 1 광투과층; 및상기 투명 기판, 광차단층, 및 제 1 광투과층 중 적어도 어느 하나 상에 형성되는 제 2 광투과층을 포함하고,상기 제 2 광투과층은 상기 제 1 광투과층 보다 투과율이 높으며,상기 제 1 광투과층과 제2 광투과층은 서로 다른 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 포토 마스크
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제 1항에 있어서, 상기 광차단층은 크롬(Cr)을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크
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제 1항에 있어서, 상기 제 1 광투과층은 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크
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제3항에 있어서, 상기 유기 물질은 포토 아크릴을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크
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제 1항에 있어서, 상기 제 2 광투과층은 크롬 옥사이드(CrOx)를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크
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기판 상에 금속층, 절연층, 보호층 또는 반도체층 중 적어도 어느 두 개의 층을 형성하는 단계;높이가 서로 다른 적어도 둘 이상의 영역을 포함하는 상기 기판의 최상위층 상에 단차지지 않고 평평한 포토 레지스트를 도포하는 단계; 및상기 각 영역에 대응하며 광투과율이 서로 다른 적어도 둘 이상의 광투과층을 포함하는 포토 마스크를 이용하여 상기 각 영역의 경계에서 패턴이 단차지나 상기 각 영역에서 패턴의 두께는 동일한 포토 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 액정 표시 패널의 제조 방법
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제7항에 있어서,상기 기판의 최상위층은 제 1 높이를 갖는 제 1 영역과, 상기 제 1 높이 보다 낮은 제 2 높이를 갖는 제 2 영역을 포함하고, 상기 포토 마스크는 상기 제 1 영역과 대응하며 제 1 광투과율을 갖는 제 1 광투과층과, 상기 제 2 영역과 대응하며 상기 제 1 광투과율 보다 높은 제 2 광투과율을 갖는 제 2 광투과층을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 방법
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제8항에 있어서,상기 제 1 광투과층은 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 방법
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제9항에 있어서, 상기 유기 물질은 포토 아크릴을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크
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제8항에 있어서, 상기 제 2 광투과층은 크롬옥사이드(CrOx)를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 방법
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제7항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 2 광투과층은 상기 제 1 광투과층과 광을 차단하는 광차단층 중 적어도 어느 하나 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 방법
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