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마스터 몰드(Master Mold)의 표면을 거칠게 하는 단계와;상기 마스터 몰드 위에 소프트 몰드(Soft Mold)의 홈과 동일한 형상의 구조물을 형성하는 단계와;상기 구조물과 동일한 형상의 홈 및 상기 마스터 몰드의 거친 표면에 의하여 그 표면이 거친 돌출부를 가지는 소프트 몰드를 형성하는 단계와;기판 위에 박막 패턴이 형성될 영역과 대응되는 영역에 상기 돌출부 및 그외 영역에 상기 홈이 위치하도록 상기 소프트 몰드를 정렬시키는 단계와;상기 기판과 상기 소프트 몰드의 돌출부를 접촉시켜 상기 소프트 몰드의 돌출부와 대응되는 상기 기판을 소수화시키는 단계와;상기 기판 위에 소수성 용매에 용해된 박막 물질을 도포하여 상기 기판 위의 소수화된 영역에 상기 박막 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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마스터 몰드(Master Mold)의 표면을 거칠게 하는 단계와;상기 마스터 몰드 위에 소프트 몰드(Soft Mold)의 홈과 동일한 형상의 구조물을 형성하는 단계와;상기 구조물과 동일한 형상의 홈 및 상기 마스터 몰드의 거친 표면에 의하여 그 표면이 거친 돌출부를 가지는 소프트 몰드를 형성하는 단계와;기판 위에 박막 패턴이 형성될 영역과 대응되는 영역에 상기 홈 및 그외 영역에 상기 돌출부가 위치하도록 상기 소프트 몰드를 정렬시키는 단계와;상기 기판과 상기 소프트 몰드의 돌출부를 접촉시켜 상기 소프트 몰드의 돌출부와 대응되는 상기 기판을 소수화시키는 단계와;상기 기판 위에 친수성 용매에 용해된 박막 물질을 도포하여 상기 기판 위의 소수화된 영역을 제외한 영역에 상기 박막 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 그 표면이 거친 돌출부를 가지는 소프트 몰드를 형성하는 단계는,상기 마스터 몰드에 상기 소프트 몰드의 재료를 부어서 열로 큐어링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 마스터 몰드의 표면을 거칠게 하는 단계는,상기 마스터 몰드의 표면에 알루미늄(Al)을 포함하는 금속 물질을 증착하는 단계와;상기 금속 물질을 고온에서 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 금속 물질은 5㎚ 이상 20㎚ 이하로 성장하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 소프트 몰드는 PDMS(Polydimethylsiloxane) 소프트 몰드인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 박막 물질은 상기 박막 패턴이 될 물질을 나노(nano) 크기를 가지도록 분해한 나노 파우더인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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거친 표면을 가지며 상기 거친 표면 위에 소프트 몰드(Soft Mold)의 홈과 동일한 형상의 구조물이 형성된 마스터 몰드(Master Mold)와;상기 마스터 몰드의 구조물과 동일한 형상의 홈 및 상기 마스터 몰드의 거친 표면에 의하여 그 표면이 거친 돌출부를 가지는 소프트 몰드를 구비하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조장치
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제 8 항에 있어서,상기 소프트 몰드는 상기 마스터 몰드에 상기 소프트 몰드의 재료를 부어서 열로 큐어링하여 형성하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조장치
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제 8 항에 있어서,상기 마스터 몰드의 거친 표면은 상기 마스터 몰드의 표면에 알루미늄(Al)을 포함하는 금속 물질을 증착하고 상기 금속 물질을 고온에서 성장시켜 형성하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조장치
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제 10 항에 있어서,상기 금속 물질은 5㎚ 이상 20㎚ 이하로 성장하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조장치
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제 8 항에 있어서,상기 소프트 몰드는 PDMS(Polydimethylsiloxane) 소프트 몰드인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조장치
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