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증착 챔버;상기 증착 챔버 내에 위치하고 가스를 분사시킬 수 있는 샤워 헤드;상기 샤워 헤드에 연결되어 가스를 공급하는 가스 공급관; 및상기 샤워 헤드에 대향하여 위치하는 자외선 램프를 포함하고,상기 자외선 램프는 적어도 둘 이상이고 서로 다른 자외선 파장을 이용하는 것을 특징으로 하는 산화막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 자외선 램프는 수은(Hg)의 자외선 파장을 이용하는 것을 특징으로 하는 산화막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 가스는 산소를 포함하는 것을 특징으로 하는 산화막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 증착 챔버 내에 RF플라즈마 가스가 충진되는 것을 특징으로 하는 산화막 증착 장치
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(a) 증착 챔버 내로 산소를 주입하는 단계;(b) 상기 산소를 자외선 램프를 이용하여 해리하는 단계; 및(c) 상기 해리된 산소와 산화물을 목표물에 증착하는 단계를 포함하고,상기 (b) 단계는 두 개의 산소분자(O2)가 오존(O3) 및 산소원자(O)로 해리하는 단계 및 오존(O3)이 산소원자(O)로 해리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 산화막 증착 방법
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제 7 항에 있어서,상기 자외선 램프는 수은(Hg)의 자외선 파장을 이용하는 것을 특징으로 하는 산화막 증착 방법
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제 7 항에 있어서,상기 해리된 산소와 상기 산화물이 혼합하여 상기 목표물에 증착되는 것을 특징으로 하는 산화막 증착 방법
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제 7 항에 있어서,상기 증착 챔버 내에 형성된 자외선 램프는 서로 다른 자외선 파장을 내보는 것을 특징으로 하는 산화막 증착 방법
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