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알루미늄막을 이용한 포토마스크 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015042679
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 포토마스크 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 차광물질막으로 알루미늄막을 사용하여, 감광된 포토레지스트를 제거하는 현상액으로 상기 알루미늄막도 동시에 에칭되게 함으로써, 공정을 감소시킬 수 있는 알루미늄막을 이용한 포토마스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다.본 발명인 알루미늄막을 이용한 포토마스크를 이루는 구성수단은, 투명기판, 상기 투명기판 상에 형성되어 조사되는 소정 파장대의 광을 투과시키는 광투과부, 상기 투명기판 상에 형성되어 조사되는 소정 파장대의 광을 차단시키는 광차단부를 포함하여 이루어지되, 상기 광차단부와 광투과부는 상기 투명기판 상에 형성되는 알루미늄막이 패터닝되어 형성되고, 상기 알루미늄막은 알루미늄(Al)에 COx 또는 Nx가 결합된 화합물이며, 상기 알루미늄막의 두께는 10㎚ ~ 500㎚ 사이의 범위인 것을 특징으로 한다.포토마스크
Int. CL G03F 1/38 (2006.01) G03F 1/54 (2006.01)
CPC G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01)
출원번호/일자 1020060035333 (2006.04.19)
출원인 엘지마이크론 주식회사
등록번호/일자 10-0822298-0000 (2008.04.08)
공개번호/일자 10-2007-0103583 (2007.10.24) 문서열기
공고번호/일자 (20080415) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.04.19)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지마이크론 주식회사 대한민국 경상북도 구미시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강승한 대한민국 경북 경주시
2 강갑석 대한민국 경북 구미시
3 김도식 대한민국 경북 구미시
4 박재우 대한민국 경북 구미시
5 백승호 대한민국 경북 구미시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김희곤 대한민국 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2 김인한 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 강서구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.04.19 수리 (Accepted) 1-1-2006-0271935-52
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.12.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.01.15 수리 (Accepted) 9-1-2007-0003438-07
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.03.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0148848-17
5 의견서
Written Opinion		 2007.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0374385-12
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2007.05.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0374410-77
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0526284-22
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2007.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2007-0853992-74
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2007.11.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0854003-23
10 등록결정서
Decision to grant		 2008.03.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0158072-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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투명기판 상에 조사되는 소정 파장대의 광을 차단할 수 있는 두께를 가지는 알루미늄막을 형성하고, 그 상부에 포토레지스트를 형성하는 단계;상기 알루미늄막 중, 제거될 부분의 상부에 형성된 포토레지스트의 부분을 노광시키는 단계;상기 노광된 포토레지스트 부분을 소정의 현상액에 의하여 현상함과 동시에, 상기 포토레지스트의 현상으로 노출되는 상기 알루미늄막을 에칭하여 상기 투명기판을 노출시키는 단계;상기 에칭되지 않고 잔존하는 알루미늄막 상부에 존재하는 상기 포토레지스트를 박리하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 알루미늄막을 이용한 포토마스크의 제조 방법
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청구항 5에 있어서,상기 노광된 포토레지스트를 현상하는 현상액은 상기 알루미늄막을 반응시켜 에칭시키는 것을 특징으로 하는 알루미늄막을 이용한 포토마스크의 제조 방법
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청구항 6에 있어서,상기 현상액은 알칼리계 현상액으로서, TMAH, KOH 및 NaOH 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 알루미늄막을 이용한 포토마스크의 제조 방법
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청구항 5에 있어서,상기 포토레지스트의 박리는 상기 알루미늄막이 제거되지 않는 현상액을 이용하는 것을 특징으로 하는 알루미늄막을 이용한 포토마스크의 제조 방법
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청구항 8에 있어서,상기 현상액은 아세톤 또는 신나(thinner)인 것을 특징으로 하는 알루미늄막을 이용한 포토마스크의 제조 방법
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.