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다단 구조를 가지는 하프톤 마스크 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015042806
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요약 본 발명은 하프톤 마스크에 관한 것으로, 투명기판 상에 형성되는 차광물질막을 다단 구조로 패터닝함으로써, 광차단부, 광투과부 및 반투과부를 형성시킬 수 있는 다단 구조를 가지는 하프톤 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다.본 발명의 다단 구조를 가지는 하프톤 마스크를 이루는 구성수단은, 투명기판, 상기 투명기판 상에 형성되어 조사되는 소정 파장대의 광을 투과시키는 광투과부, 상기 투명기판 상에 형성되어 조사되는 소정 파장대의 광을 차단시키는 광차단부, 상기 투명기판 상에 형성되어 조사되는 소정 파장대의 광의 일부만을 투과시키는 반투과부를 포함하여 이루어지되, 상기 광투과부, 광차단부 및 반투과부는 상기 투명기판 상에 형성되는 차광물질막을 다단 구조로 패터닝하여 형성되는 것을 특징으로 한다.하프톤, 포토마스크
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 1/38(2013.01) G03F 1/38(2013.01) G03F 1/38(2013.01)
출원번호/일자 1020060032419 (2006.04.10)
출원인 엘지마이크론 주식회사
등록번호/일자 10-0822296-0000 (2008.04.08)
공개번호/일자 10-2007-0101439 (2007.10.17) 문서열기
공고번호/일자 (20080415) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.04.19)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지마이크론 주식회사 대한민국 경상북도 구미시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김도식 대한민국 경북 구미시
2 강갑석 대한민국 경북 구미시
3 박재우 대한민국 경북 구미시
4 백승호 대한민국 경북 구미시
5 강승한 대한민국 경상북도 경주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김희곤 대한민국 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2 김인한 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 강서구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.04.10 수리 (Accepted) 1-1-2006-0248298-36
2 출원심사청구서
Request for Examination
2006.04.19 수리 (Accepted) 1-1-2006-0272576-32
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.02.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.03.13 수리 (Accepted) 9-1-2007-0012753-85
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0351891-77
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.08.27 수리 (Accepted) 1-1-2007-0619794-18
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2007-0678386-10
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.10.16 수리 (Accepted) 1-1-2007-0740563-84
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.10.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0740571-49
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2008.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0040755-05
11 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2008.03.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2008-0011769-13
12 등록결정서
Decision to grant
2008.04.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0190489-83
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번호 청구항
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투명기판 상에 차광물질막 및 포토레지스트를 순차적으로 형성하고, 상기 포토레지스트에 대하여 풀(full) 노광과 하프(half) 노광을 수행한 후, 상기 노광된 포토레지스트 부분을 현상함으로써, 풀(full) 노광 영역과 하프(half) 노광 영역을 형성하는 단계;상기 풀(full) 노광 영역에 노출된 상기 차광물질막을 에칭하여 광투과부를 형성하는 단계;상기 포토레지스트에 대하여 에싱(ashing) 처리를 수행함으로써, 상기 하프(half) 노광 영역에 위치한 상기 차광물질막을 외부로 노출시키는 단계;상기 외부로 노출된 차광물질막을 드라이 에칭하여, 상기 차광물질막의 높이를 낮추어 반투과부를 형성시키고, 상기 차광물질막 상에 잔존하는 포토레지스트를 박리하는 단계를 포함하여 이루어지되,상기 포토레지스트의 에싱과 상기 차광물질막의 에칭은 동일한 가스를 사용하여 연속적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 다단 구조를 가지는 하프톤 마스크의 제조방법
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청구항 6에 있어서,상기 가스는 상기 투명기판에 영향을 미치지 않는 가스로서, O2, CO2 및 Cl 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 다단 구조를 가지는 하프톤 마스크의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.