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플라즈마를 이용한 광학 필름의 전처리 방법 및 이를이용한 광학 필름 적층체 제조방법 및 제조설비

  • 기술번호 : KST2015043303
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요약 본 발명은 플라즈마를 이용한 광학필름의 전처리 방법 및 이를 이용한 광학필름 적층체 제조방법 및 제조설비에 관한 것으로, 보다 상세하게는 편광판용 보호필름, 플라즈마 디스플레이용 필름 또는 유기 EL 디스플레이용 필름과 같은 복수매의 광학필름을 서로 접착시켜 적층체를 제조하기 전에 기재와 광학필름 사이의 접착성을 향상시키기 위하여 알칼리 용매를 사용하여 보호필름의 표면을 활성화시키는 종래의 전처리 방법 대신에 플라즈마를 이용하여 폐액 등의 환경 문제를 일으키지 않으면서도 간단한 설비 구성에 의해 이를 구현할 수 있는 전처리 방법과 이를 이용한 편광판 적층체의 제조방법 및 장치에 관한 것이다. 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 첫번째 측면으로서 본 발명의 전처리 방법은 대기압 플라즈마 발생 장치를 이용하여 필름 표면에 산소 라디칼을 공급하는 것을 특징으로 한다. 대기압 플라즈마, 전처리, 편광판, 적층체, 산소 라디칼
Int. CL G02B 5/30 (2006.01)
CPC G02B 5/3041(2013.01) G02B 5/3041(2013.01) G02B 5/3041(2013.01) G02B 5/3041(2013.01) G02B 5/3041(2013.01) G02B 5/3041(2013.01)
출원번호/일자 1020060044341 (2006.05.17)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1072372-0000 (2011.10.05)
공개번호/일자 10-2007-0111228 (2007.11.21) 문서열기
공고번호/일자 (20111011) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.12.11)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이대희 대한민국 대전 서구
2 채승훈 대한민국 대전 유성구
3 박문수 대한민국 대전 대덕구
4 윤창훈 대한민국 전남 목포시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.05.17 수리 (Accepted) 1-1-2006-0344695-89
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.08.25 수리 (Accepted) 4-1-2006-0019818-11
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2008.12.11 수리 (Accepted) 1-1-2008-0854540-64
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.01.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.02.19 수리 (Accepted) 9-1-2010-0011167-54
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.07.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0306151-58
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.09.17 수리 (Accepted) 1-1-2010-0607227-10
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.09.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0607229-01
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.01.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0028794-86
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.03.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0189141-22
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.03.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0189142-78
12 등록결정서
Decision to grant
2011.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0554252-01
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
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번호 청구항
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롤형태로 감겨진 필름 뭉치를 회전시켜 필름을 공급하는 복수의 필름공급수단; 상기 필름공급수단의 필름공급경로 후방에 위치하는 하나 또는 그 이상의 대기압 플라즈마 장치; 상기 플라즈마 장치의 필름공급경로 후방에 위치하여 각 필름 사이에 접착수단을 공급하는 접착수단 공급수단; 및 상기 접착수단이 공급된 각 계면이 충분히 접착될 수 있도록 각 필름 적층부위를 압착하는 압착롤;을 포함하는 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 20 항에 있어서, 상기 압착롤 후방에는 상기 적층된 필름을 권취하는 권취롤이 더 포함된 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 20 항에 있어서, 상기 접착수단은 접착제 또는 점착제인 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 20항에 있어서 상기 플라즈마 처리 장치는 주 가스로 헬륨, 아르곤 또는 질소를 사용하는 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 23 항에 있어서, 상기 플라즈마 처리 장치는 작동 주파수 영역을 1kHz~100MHz 범위로 하는 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 24 항에 있어서, 상기 주 가스가 헬륨 또는 아르곤일 경우에는 작동 주파수 영역을 1MHz~100MHz 범위로 하는 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 24 항에 있어서, 상기 주 가스가 질소일 경우에는 작동 주파수 영역을 1kHz~1MHz 범위로 하는 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 24 항에 있어서, 상기 주 가스의 유량은 1m2 당 1~50 스탠더드 리터(1 standard liter : 0℃ 1기압에서의 1 liter)인 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 20 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 플라즈마 처리 장치는 반응 가스로 산소 또는 건조공기(CDA)를 사용하는 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 28 항에 있어서, 상기 반응 가스의 유량은 주가스 유량의 1/1000 ~ 1/10인 것을 특징으로 하는 필름 적층체 제조설비
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제 20 항에 있어서, 상기 플라즈마 처리 장치의 플라즈마 배출 면과 처리할 필름 면 사이의 간격은 0
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제 30항에 있어서, 상기 플라즈마 처리 장치의 플라즈마 배출 면과 처리할 필름 면 사이의 간격은 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.