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2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법에 있어서, a) 폴리이미드막 표면을 KOH, 에틸렌글리콜 및 KOH 혼합 용액, NaOH, 피롤리돈 및 NaOH 혼합 수용액, 또는 무수크롬산 및 황산 혼합 용액으로 구성된 군으로부터 선택된 에칭 용액으로 에칭하는 단계;b) 상기 폴리이미드막에 촉매를 흡착시키는 단계;c) 상기 촉매가 흡착된 폴리이미드막에 전류를 인가함 없이 제 1 전도성 금속막을 형성하는 제 1 도금 단계; d) 상기 제 1 도금된 폴리이미드막을 불활성 가스의 분위기 하에서 110 ℃ 내지 200 ℃의 온도 범위 내에서 5 분 내지 30 분 동안 건조시키는 단계; 및 e) 상기 건조된 제 1 도금된 폴리이미드막에 전류를 인가하여 제 2 전도성 금속막을 형성하는 제 2 도금 단계를 포함하는 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제1 전도성 금속막이 금, 니켈 또는 구리로 형성되는 것을 특징으로 하는 상기 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제2 전도성 금속막이 금, 또는 구리로 형성되는 것을 특징으로 하는 상기 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 d) 단계에 있어서, 상기 불활성 가스가 Ar 가스인 것을 특징으로 하는 상기 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 d) 단계에 있어서, 150 ℃ 내지 200 ℃의 온도 범위 내에서 5 분 내지 30 분 동안 건조시키는 특징으로 하는 상기 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 c) 단계에 있어서, 상기 촉매가 팔라듐 또는 주석인 것을 특징으로 하는 상기 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 에칭된 폴리이미드막 표면을 소정의 커플링 에이전트를 포함하는 커플링제로 커플링하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 커플링 에이전트가 실란기 또는 아민기인 것을 특징으로 하는 상기 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 커플링제가 아미노프로필 트리에톡시 실란을 함유하는 실란 커플링제, 산화 나트륨 및 모노메탈아민을 포함하는 알칼리 계 커플링제, 또는 에틸렌 디아민 및 염산을 포함하는 산계 커플링제인 것을 특징으로 하는 상기 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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10
제 1 항에 있어서, 상기 각 단계중 하나 이상의 단계에서, 상기 폴리이미드막 전체에 초음파를 가하여 연속적인 반응을 유도하는 것을 특징으로 하는 상기 2 층 구조를 가지는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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