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기판 상에 광화학적 물질인 포토레지스트를 도포하는 포토레지스트 도포공정, 상기 포토레지스트가 도포된 상기 기판과 일정 회로패턴이 형성된 노광마스크를 서로 정렬시킨 후 특정 파장의 빛을 노광마스크를 통과시켜 상기 기판 상의 상기 포토레지스트에 일정 회로패턴이 전사되도록 하는, 기판 이동방식 또는 마스크 이동방식의 노광공정, 상기 노광공정이 완료된 상기 기판의 상기 포토레지스트를 현상하여 상기 기판 상에 회로패턴을 형성하는 현상공정을 포함하는 박막트랜지스터의 제조방법에 있어서;상기 노광공정은 테일타임(셔터의 개폐작동 시간 또는, 플래시의 온오프 작동시간)동안 상기 기판과 상기 노광마스크가 동일 방향, 동일 속도로 서로 간의 상대적인 위치변동 없이 움직임으로써 테일현상이 발생하지 않도록 하는 디스테일(distail)작동을 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 디스테일작동은 패턴 디자인을 위해 사용된 캐드(Computer Aided Design)데이터를 이용하여 상기 기판 또는 상기 노광마스크의 위치값을 미리 파악하고, 이를 기준으로 셔터 내지는 플래시램프의 작동 시간 동안 기판 스테이지 내지는 마스크 스테이지가 동기되는 방식으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터의 제조방법
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기판 상에 광화학적 물질인 포토레지스트를 도포하는 포토레지스트 도포공정, 상기 포토레지스트가 도포된 상기 기판과 일정 회로패턴이 형성된 노광마스크를 서로 정렬시킨 후 특정 파장의 빛을 노광마스크를 통과시켜 상기 기판 상의 상기 포토레지스트에 일정 회로패턴이 전사되도록 하는, 기판 이동방식 또는 마스크 이동방식의 노광공정, 상기 노광공정이 완료된 상기 기판의 상기 포토레지스트를 현상하여 상기 기판 상에 회로패턴을 형성하는 현상공정을 포함하는 박막트랜지스터의 제조방법에 있어서;상기 노광공정은 테일타임(셔터의 개폐작동 시간 또는, 플래시의 온오프 작동시간)동안 상기 기판과 상기 노광마스크가 동일 방향, 동일 속도로 서로 간의 상대적인 위치변동 없이 움직임으로써 테일현상이 발생하지 않도록 하는 디스테일(distail)작동을 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 디스테일 작동은 기판 이동방식 노광공정의 경우, 마스크 스테이지에 셔터의 작동을 감지하는 작동센서가 구비되어, 상기 작동센서가 보내는 신호에 의해 테일타임 동안 마스크 스테이지가 동기되는 방식으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 기판 이동방식 노광공정의 경우, 상기 마스크 스테이지에 셔터의 작동을 감지하는 작동센서가 구비되는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 디스테일 작동은 상기 마스크 이동방식 노광공정의 경우, 상기 기판 스테이지에 셔터의 작동을 감지하는 작동센서가 구비되는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터 제조방법
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제1항 및 제 3 항 중 선택된 한 항에 있어서, 상기 디스테일 작동은 상기 기판 이동방식 노광공정의 경우, 상기 마스크 스테이지에 상기 플래시램프의 조도변화를 감지하는 조도센서가 구비되어, 상기 조도센서가 보내는 신호에 의해 테일타임 동안 상기 마스크 스테이지가 동기되는 방식으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터 제조방법
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제1항 및 제 3 항 중 선택된 한 항에 있어서, 상기 디스테일 작동은 상기 마스크 이동방식 노광공정의 경우, 상기 기판 스테이지에 상기 플래시램프의 조도변화를 감지하는 조도센서가 구비되어, 상기 조도센서가 보내는 신호에 의해 테일타임 동안 상기 기판 스테이지가 동기되는 방식으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터 제조방법
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