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기판;상기 기판 상에 일정한 간격을 갖고 일방향으로 형성되는 게이트 라인 및 상기 게이트 라인에서 돌출 형성되는 게이트 전극;상기 게이트 라인과 수직한 방향으로 상기 게이트 라인과 오버랩되지 않고 형성되는 리던던시 라인;상기 게이트 라인을 포함한 상기 기판 전면에 형성되는 게이트 절연막;상기 게이트 전극 상부의 상기 게이트 절연막 상에 나노와이어, 나노케이블 및 나노튜브 중 선택된 나노 물질로 이루어진 반도체층;상기 반도체층 상에 상기 반도체층의 양 측면을 노출시키도록 상기 반도체층의 중앙에 대응되도록 형성된 고정판;상기 리던던시 라인과 전기적으로 연결되면서 상기 게이트 라인과 수직한 방향으로 형성되어 화소영역을 정의하는 데이터 라인;상기 데이터 라인에서 돌출 형성된 소스 전극 및 상기 소스 전극과 일정 간격 이격 형성된 드레인 전극; 및상기 드레인 전극에 연결되고 상기 화소 영역에 형성되는 화소전극을 포함하며,상기 소스 전극과 상기 드레인 전극은 각각 노출된 상기 반도체층의 일 측면과 타 측면을 덮고, 동시에 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극이 상기 고정판의 양 측면까지 연장 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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제 1 항에 있어서, 상기 드레인 전극과 화소전극은 일체형인 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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제 1 항에 있어서, 상기 소스 전극 및 드레인 전극은 투명한 금속으로 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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기판 상에 일정한 간격을 갖고 일방향으로 게이트 라인, 이에 돌출된 게이트 전극을 형성하는 단계;상기 게이트 라인과 수직한 방향으로 상기 게이트 라인과 오버랩되지 않도록 리던던시 라인을 형성하는 단계;상기 게이트 라인을 포함한 상기 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계;상기 게이트 전극 상부의 상기 게이트 절연막 상에 나노와이어, 나노케이블 및 나노튜브 중 선택된 나노 물질로 반도체층을 형성하는 단계;상기 반도체층 상에 상기 반도체층의 양 측면을 노출시키도록 상기 반도체층의 중앙에 대응되도록 고정판을 형성하는 단계;상기 리던던시 라인의 표면이 소정부분 노출되도록 상기 게이트 절연막을 선택적으로 제거하여 콘택홀을 형성하는 단계; 상기 반도체층 일측면에 상기 콘택홀을 통해 상기 리던던시 라인과 전기적으로 연결되면서 상기 게이트 라인과 수직한 방향으로 화소영역을 정의하는 데이터 라인을 형성하고, 동시에 상기 데이터 라인에서 돌출되는 소스 전극 및 상기 소스 전극과 일정 간격 이격되는 드레인 전극을 형성하는 단계; 및상기 화소 영역에 상기 드레인 전극과 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하며,상기 소스 전극과 상기 드레인 전극은 각각 노출된 상기 반도체층의 일 측면과 타 측면을 덮고, 동시에 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극이 상기 고정판의 양 측면까지 연장 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 드레인 전극과 화소전극은 동일 물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 소스 전극과 드레인 전극은 투명한 금속으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 고정판은 상기 반도체층을 포함한 기판의 전면에 감광성 고분자층을 형성하는 단계; 및상기 감광성 고분자층을 노광 및 현상하여 패터닝하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 12 항에 있어서, 상기 감광성 고분자층은 포토 아크릴막을 사용하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 7 항에 있어서, 상기 게이트 라인과 리던던시 라인은 동일 물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 7 항에 있어서, 상기 게이트 라인과 리던던시 라인은 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 7 항에 있어서, 상기 데이터 라인 및 화소전극은 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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