맞춤기술찾기

이전대상기술

러빙장치 및 이를 이용한 배향막 러빙 방법

  • 기술번호 : KST2015043851
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 저전압 구동에 의해 양호한 직진성을 갖는 이온빔을 형성하여 배향막의 파손 및 러빙불량을 방지할 수 있는 배향막 러빙장치 및 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 배향막 러빙장치는, 하우징의 내부로 불활성 가스를 공급하는 가스 공급부; 하우징의 상면에 삽입 고정되는 캐소드 전극; 캐소드 전극과 연동하여 상기 불활성 가스에 대한 플라즈마 방전을 수행하여 이온빔을 형성하는 애노드 전극; 및 이온빔의 진행 방향에 수직방향으로 자계를 형성하여 배향막이 형성된 기판방향으로 이온빔을 직진시키는 자석 어셈블리를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
Int. CL G02F 1/13 (2006.01) G02F 1/1337 (2006.01)
CPC G02F 1/133784(2013.01) G02F 1/133784(2013.01) G02F 1/133784(2013.01)
출원번호/일자 1020060058942 (2006.06.28)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1318022-0000 (2013.10.07)
공개번호/일자 10-2008-0000981 (2008.01.03) 문서열기
공고번호/일자 (20131014) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.06.24)
심사청구항수 9

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 양준영 대한민국 경기도 부천시 원미구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서교준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.06.28 수리 (Accepted) 1-1-2006-0464901-82
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2007.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0607742-18
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2011-0481142-40
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.02.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.03.15 수리 (Accepted) 9-1-2012-0017357-31
10 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2012.09.03 수리 (Accepted) 1-1-2012-0710825-66
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.10.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0617758-36
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.12.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-1045227-86
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.12.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-1045226-30
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0292835-10
15 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2013.05.28 수리 (Accepted) 7-1-2013-0021228-76
16 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.06.13 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2013-0023536-70
17 등록결정서
Decision to grant
2013.07.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0497717-27
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판상에 형성된 배향막에 액정 배향을 위한 배향홈을 형성하는 배향막 러빙장치에 있어서,하우징의 내부로 불활성 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 하우징의 상면에 삽입 고정되는 캐소드 전극;상기 캐소드 전극과 연동하여 상기 불활성 가스에 대한 플라즈마 방전을 수행하여 이온빔을 형성하는 애노드 전극; 및 상기 이온빔의 진행 방향에 수직방향으로 자계를 형성하여 상기 배향막이 형성된 기판방향으로 이온빔을 직진시키는 자석 어셈블리를 포함하여 구성되고,상기 자석 어셈블리는,상기 가스 공급부의 중심부에 형성된 홈에 삽입 고정되는 요크부; 및 상기 요크부에 고정되는 다수의 영구자석을 구비하고, 상기 영구자석은, 상기 이온빔의 진행방향에 수직방향으로 자계를 형성하여 상기 이온빔의 분산을 방지하고, 상기 이온빔을 기판 방향으로 직진시키고, 상기 가스 공급부로부터 공급되는 불활성 가스를 상기 캐소드 전극 및 애노드 전극 사이에 트랩시키는 것을 특징으로 하는 배향막 러빙장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 하우징의 상면에는 상기 이온빔을 출사시키기 위한 가스홈이 형성된 것을 특징으로 하는 배향막 러빙장치
3 3
제 2 항에 있어서,상기 가스홈은 외주면을 따라 슬릿 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 배향막 러빙장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 하우징의 후면에는 상기 불활성 가스가 공급되는 가스 주입공이 형성된 것을 특징으로 하는 배향막 러빙장치
5 5
제 2 항에 있어서, 상기 가스 공급부의 상면에는 상기 불활성 가스를 상기 하우징의 내부로 토출시키기 위한 가스홀이 형성된 것을 특징으로 하는 배향막 러빙장치
6 6
제 5 항에 있어서,상기 가스홀은 상기 하우징의 가스홈과 대응되도록 외주면을 따라 형성된 것을 특징으로 하는 배향막 러빙장치
7 7
제 1 항에 있어서,상기 이온빔을 가속시키기 위해 상기 캐소드 전극과 애노드 전극 사이에 인가되는 가속전압은 1keV이하의 저전압이 인가되는 것을 특징으로 하는 배향막 러빙장치
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
기판상에 형성된 배향막에 액정 배향을 위한 배향홈을 형성하는 배향막 러빙 방법에 있어서, 이송수단을 통해 상기 배향막이 형성된 기판을 러빙장치가 위치한 방향으로 이송시키는 단계;상기 러빙장치에 구동전압을 인가하여 배향막 러빙시 이용되는 이온빔을 형성하는 단계;상기 이온빔을 상기 기판 방향으로 가속시켜 상기 배향막을 순차 조사하는 단계; 및 상기 이온빔의 순차 조사에 연동하여 상기 배향막 상에 균일한 배향홈을 형성하는 단계를 포함하고,상기 러빙장치는, 하우징의 내부로 불활성 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 하우징의 상면에 삽입 고정되는 캐소드 전극;상기 캐소드 전극과 연동하여 상기 불활성 가스에 대한 플라즈마 방전을 수행하여 이온빔을 형성하는 애노드 전극; 및 상기 이온빔의 진행 방향에 수직방향으로 자계를 형성하여 상기 배향막이 형성된 기판방향으로 이온빔을 직진시키는 자석 어셈블리를 포함하여 구성되고,상기 자석 어셈블리는,상기 가스 공급부의 중심부에 형성된 홈에 삽입 고정되는 요크부; 및 상기 요크부에 고정되는 다수의 영구자석을 구비하고, 상기 영구자석은, 상기 이온빔의 진행방향에 수직방향으로 자계를 형성하여 상기 이온빔의 분산을 방지하고, 상기 이온빔을 기판 방향으로 직진시키고, 상기 가스 공급부로부터 공급되는 불활성 가스를 상기 캐소드 전극 및 애노드 전극 사이에 트랩시키는 것을 특징으로 하는 배향막 러빙방법
11 11
제 10 항에 있어서,상기 이온빔을 가속시키기 위해 상기 러빙장치에 인가되는 가속전압은 1keV 이하의 저전압인 것을 특징으로 하는 배향막 러빙방법
12 12
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.