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차례로 적층된 금속패턴, 절연층 및 비정질실리콘층이 구비된 기판을 제공하는 단계와;상기 비정질실리콘층에 교번자기장을 인가하여 결정질실리콘층을 형성하는 단계와;상기 결정질실리콘층을 패터닝하여 액티브층을 형성하는 단계와;상기 액티브층을 가진 기판상에 소스전극 및 드레인전극을 형성하는 단계와;상기 소스전극 및 드레인전극을 가진 기판상에 보호막을 형성하는 단계와;상기 보호막을 패터닝하여 상기 드레인전극을 노출하는 콘택홀을 형성하는 단계와;상기 콘택홀을 채워 상기 드레인전극과 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 액정표시소자 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속패턴을 형성하는 것은상기 기판 상에 금속막을 형성하고, 상기 금속막을 패터닝하는 것을 포함하는 액정표시소자의 제조방법
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제2항에 있어서,상기 금속막은 녹는점이 700℃ 이상인 금속을 사용하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제2항에 있어서,상기 금속막은 크롬 및 몰리브덴 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제2항에 있어서,상기 금속막은 두께가 50Å~1㎛인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 소스전극 및 드레인전극을 형성하는 단계 이전에,상기 액티브층을 가진 기판 상에 게이트절연막을 개재하는 단계와;상기 게이트절연막 상에 게이트전극을 형성하는 단계와;상기 게이트전극을 포함한 게이트절연막 상에 층간절연층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속패턴은 게이트전극으로서 역할하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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차례로 적층된 비정질실리콘층, 절연층 및 금속패턴이 구비된 기판을 제공하는 단계와;상기 비정질실리콘층에 교번자기장을 인가하여 결정질실리콘층을 형성하는 단계와;상기 결정질실리콘층을 패터닝하여 액티브층을 형성하는 단계와;상기 액티브층을 가진 기판 상에 절연막을 형성하는 단계와;상기 절연막과 그 아래의 절연층을 패터닝하여, 상기 액티브층을 노출시키는 단계와;상기 절연막 상에 노출된 상기 액티브층과 접촉하는 소스전극 및 드레인전극을 형성하는 단계와;상기 소스전극 및 드레인전극을 가진 기판상에 보호막을 형성하는 단계와;상기 보호막을 패터닝하여 상기 드레인전극을 노출하는 콘택홀을 형성하는 단계와;상기 콘택홀을 채워 상기 드레인전극과 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 액정표시소자의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 금속패턴을 형성하는 것은상기 기판 상에 금속막을 형성하고, 상기 금속막을 패터닝하는 것을 포함하는 액정표시소자의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 금속막은 녹는점이 700℃ 이상인 금속을 사용하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 금속막은 크롬 및 몰리브덴 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 금속막은 두께가 50Å~1㎛인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 금속패턴은 게이트전극으로서 역할하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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