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플라즈마 화학 기상 증착 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2015043894
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요약 본 발명은 기판에 박막을 균일하게 형성시킬 수 있도록 한 플라즈마 화학 기상 증착 장치 및 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 플라즈마 화학 기상 증착 장치는 공정 챔버; 상기 공정 챔버에 설치되어 기판을 지지하는 서셉터; 상기 서셉터에 형성되어 자기장을 발생하는 자기장 발생부; 상기 기판에 박막을 증착시키기 위한 반응가스를 상기 공정 챔버 내에 주입하는 가스 주입구; 및 상기 가스 주입구를 통해 주입되는 반응가스를 확산시키기 위해 상기 공정 챔버 내 상부에 형성된 가스확산기를 포함하는 것을 특징으로 한다.이러한 구성에 의하여, 본 발명은 서셉터에 자기장을 형성하여 라디칼을 균일하게 분포시킴으로써 금속 패턴의 경사면뿐만 아니라 기판 상에 균일한 증착막을 형성할 수 있다. PECVD, 자기장, 테이퍼
Int. CL H01L 21/205 (2006.01)
CPC C23C 16/513(2013.01) C23C 16/513(2013.01)
출원번호/일자 1020060060530 (2006.06.30)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1232169-0000 (2013.02.05)
공개번호/일자 10-2008-0002004 (2008.01.04) 문서열기
공고번호/일자 (20130212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.06.22)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 류원상 대한민국 부산 수영구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 심창섭 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 **, 현대빌딩 *층 (잠실동)(KBK특허법률사무소)
2 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2006-0471426-60
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.06.22 수리 (Accepted) 1-1-2011-0474002-03
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.06.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.07.20 수리 (Accepted) 9-1-2012-0056397-16
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0586253-75
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-0984722-65
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.11.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0984721-19
12 등록결정서
Decision to grant
2012.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0798858-48
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번호 청구항
1 1
공정 챔버와;상기 공정 챔버에 설치되어 기판을 지지하는 서셉터와;상기 서셉터 내에 형성되어 전류가 공급됨으로써 자기장을 발생하는 복수개의 도선을 포함하는 자기장 발생부와;상기 기판에 박막을 증착시키기 위한 반응가스를 상기 공정 챔버 내에 주입하는 가스 주입구와;상기 가스 주입구를 통해 주입되는 반응가스를 확산시키기 위해 상기 공정 챔버 내 상부에 형성된 가스확산기와;상기 공정 챔버 내에 고주파를 인가하여 상기 반응가스를 플라즈마 상태로 분해하여 라디칼을 형성하는 고주파 전원을 구비하고;상기 자기장 발생부는 상기 자기장의 세기를 조절하여 상기 라디칼의 나선 운동의 회전 반경을 조절하며, 자기 극성이 교차 배치되도록 하여 상기 라디칼의 회전 방향을 조절하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
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제 1 항에 있어서,상기 복수 개의 도선은 코일형태로 배치됨을 특징으로 하는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
6 6
공정챔버의 서셉터에 자기장 발생부를 배치하는 단계와;상기 서셉터에 기판을 로딩시키는 단계와;가스 주입구를 통해 상기 기판에 박막을 증착시키기 위한 반응가스를 상기 공정 챔버 내로 주입하는 단계와;상기 공정 챔버에 고주파를 인가하여 상기 반응가스를 플라즈마 상태로 분해하여 라디칼을 형성하고 상기 라디칼이 상기 자기장 발생부에서 발생된 자기장에 의해 나선형 운동을 하도록 하여 상기 기판 상에 증착시키는 단계와;상기 자기장 발생부가 상기 자기장의 세기를 조절하여 상기 라디칼의 나선 운동의 회전 반경을 조절하며, 자기 극성이 교차 배치되도록 하여 상기 라디칼의 회전 방향을 조절하는 단계를 포함하고;상기 자기장 발생부는 상기 서셉터 내에 형성되어 전류가 공급됨으로써 자기장을 발생하는 복수개의 도선을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학 기상 증착 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.