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열가소성 수지와, 금속과 비금속 화합물의 혼합물로 3차원의 사출성형물을 만드는 단계;상기 사출성형물의 일부분에 사출마스크를 형성하는 단계;상기 사출성형물을 산에 노출시켜 비금속재료를 제거하는 활성화 단계;상기 사출성형물에 무전해도금을 하는 단계;상기 사출성형물에 전기도금을 하는 단계; 그리고,상기 사출마스크를 사출성형물로부터 제거하는 단계를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 성형방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속은 팔라듐, 금, 은 또는 백금이고, 상기 비금속은 주석임을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 성형방법
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제 3 항에 있어서, 상기 사출마스크는 열에 의하여 사출성형물에서 제거 가능한 고무로 형성됨을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 성형방법
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제 3 항에 있어서,상기 사출마스크는 산성수용액에 의하여 사출성형물에서 제거 가능한 수용성수지로 형성됨을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 성형방법
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열가소성 수지와, 금속과 비금속 화합물의 혼합물로 3차원의 사출성형물을 만드는 단계;상기 사출성형물을 산에 노출시켜 비금속재료를 제거하는 활성화 단계;상기 사출성형물에 무전해도금을 하는 단계;상기 사출성형물의 일부분에 사출마스크를 형성하는 단계;상기 사출성형물에 전기도금을 하는 단계; 그리고상기 사출마스크를 사출성형물로부터 제거하는 단계를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 성형방법
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제 6 항에 있어서,상기 금속은 팔라듐, 금, 은 또는 백금이고, 상기 비금속은 주석임을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 성형방법
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제 8 항에 있어서,상기 사출마스크는 열에 의하여 사출성형물에서 제거 가능한 고무로 형성됨을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 성형방법
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제 8 항에 있어서,상기 사출마스크는 산성수용액에 의하여 사출성형물에서 제거 가능한 수용성수지로 형성됨을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 성형방법
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제 6 항, 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 사출마스크가 제거된 후에, 상기 사출마스크가 제거된 부분에 남아있는 무전해도금막을 제거하기 위한 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 성형방법
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