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플라즈마 발생 장치

  • 기술번호 : KST2015045313
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요약 본 발명의 플라즈마 발생 장치에 관한 것이다. 본 발명에서는 노즐헤드(50)에 한 쌍의 유전체플레이트(52,52')가 착탈가능하게 설치된다. 이를 위하여, 상기 유전체플레이트(52,52')의 상단은 챔버하우징(46)의 하부에 형성된 안착슬릿(49)에 끼워지며, 상기 유전체플레이트(52,52')의 하단은 전극커버(58)의 하단에 형성된 단차부(59)에 안착됨으로써 고정된다. 그리고 상기 유전체플레이트(52,52')의 사이 간극(53h)을 유지하기 위해 상기 간극(53h)의 양단부에는 스페이서(64)가 삽입된다. 이와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의하면 유전체플레이트의 사이 간극을 일정하게 유지할 수 있으므로 균일한 플라즈마를 형성할 수 있으며, 유전체플레이트의 교체 및 보수유지가 용이하게 되는 이점이 있다.플라즈마, 유전체, 전극
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020060100859 (2006.10.17)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-1254342-0000 (2013.04.08)
공개번호/일자 10-2008-0034640 (2008.04.22) 문서열기
공고번호/일자 (20130412) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.10.10)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태완 대한민국 부산광역시 사하구
2 이창헌 대한민국 경기 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인우린 대한민국 서울특별시 강남구 도곡로 ***, *층 (역삼동, 정호빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.10.17 수리 (Accepted) 1-1-2006-0748342-42
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.10.10 수리 (Accepted) 1-1-2011-0789869-58
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.08.22 수리 (Accepted) 9-1-2012-0066475-58
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0604805-91
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.11.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0956161-50
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.11.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0956160-15
11 등록결정서
Decision to grant
2013.01.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0030444-94
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
내부에 반응가스가 혼합되는 가스챔버가 형성되는 챔버하우징;상기 챔버하우징의 하부에서 서로 마주보는 한 쌍으로 구성되고, 그 사이 간극에서 반응가스가 플라즈마로 변화되며, 착탈 가능한 한 쌍의 유전체플레이트;상기 유전체플레이트의 이면에 서로 평행하게 구비되는 한 쌍의 전극;그리고 상기 전극을 둘러싸는 전극커버를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 유전체플레이트는,상기 챔버하우징의 하단에서부터 소정 깊이 요입되고, 상기 유전체플레이트의 상단과 대응되는 형상으로 형성된 안착슬릿에 상기 유전체플레이트의 상단이 끼워짐으로써 상기 챔버하우징과 결합됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 전극커버의 하부에는, 상기 유전체플레이트의 하단이 안착되는 단차부가 형성됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 유전체플레이트의 양단부에서 상기 간극에는, 상기 유전체플레이트의 간격을 유지시키는 스페이서가 삽입됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 스페이서는, 상기 전극커버의 양단에 결합되는 단부커버 중앙에 수직방향으로 형성된 안착홈에 삽입됨에 의해 고정됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
7 7
제 1 항, 제3항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 챔버하우징의 하부에는, 상기 가스챔버와 상기 유전체플레이트의 간극을 연결하는 연결슬릿이 형성되고, 상기 연결슬릿은 상기 챔버하우징을 종방향으로 길게 관통하도록 형성됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 전극에는 상기 전극에서 발생되는 열을 냉각시키위한 유체가 통과하는 냉각라인이 설치됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 전극커버는 울템 재질로 형성됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 전극커버의 외측에는 보강플레이트가 설치되고, 상기 보강플레이트를 관통하여서는 조절볼트가 나사결합되며, 상기 조절볼트의 선단이 상기 전극커버의 외측면과 접촉됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 챔버하우징의 상부에는, 외부에서 유입된 가스가 일시 저장되는 가스유입구가 내부에 형성되고 상기 가스유입구와 상기 가스챔버를 연결하는 연결통로가 형성되는 본체가 더 구비되며,상기 본체는 알루미늄으로 형성됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP20103323 JP 일본 FAMILY
2 US20080088217 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP2008103323 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 US2008088217 US 미국 DOCDBFAMILY
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