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기판 상에 제 1 전극을 형성하는 단계;상기 제 1 전극 상에 유기물층을 형성하는 단계;상기 유기물층 상에 하부 금속층을 형성하는 단계;상기 하부 금속층 일부에 산화막을 형성하는 산화 공정 실시 단계; 및 상기 하부 금속층 상에 상부 금속층을 형성하는 단계를 포함하는 디스플레이 소자 제조 방법
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2 |
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제 1 항에 있어서, 상기 하부 금속층은 열 화학 기상 증착 또는 이-빔 증착 공정에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 하부 금속층은 1 nm 내지 100 nm 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자 제조 방법
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4 |
4
제 1 항에 있어서, 상기 하부 금속층 형성 단계는 적어도 2개의 단위 금속층을 형성하는 단계로 이루어지며, 상기 산화 공정 실시 단계는 상기 각 단위 금속층 형성 단계 후에 각각 실시되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자 제조 방법
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5 |
5
제 4 항에 있어서, 상기 하부 금속층의 최하층 단위 금속층은 1 nm 내지 100 nm 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자 제조 방법
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제 4 항에 있어서, 상기 하부 금속층의 상기 최하층 단위 금속층은 60 nm 내지 70 nm 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자 제조 방법
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7 |
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제 1 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 산화 공정은 불활성 가스 및 산소가 포함된 챔버 내에서 실시되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 불활성 가스는 아르곤 또는 질소이며, O2 의 비율은 2 내지 15 체적%인 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 하부 금속층과 상기 상부 금속층은 동일 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자 제조 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 하부 금속층 및 상부 금속층은 알루미늄, 마그네슘, 망간, 칼슘 및 그의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자 제조 방법
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기판;상기 기판에 형성된 제 1 전극 및 상기 제 1 전극 상에 형성된 유기물층; 및상기 유기물층 상에 형성된 하부 금속층 및 상기 하부 금속층 상에 형성된 상부 금속층으로 이루어진 제 2 전극을 포함하며, 상기 하부 금속층 일부에는 산화막이 형성되어 있는 디스플레이 소자
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제 11 항에 있어서, 상기 하부 금속층은 1 nm 내지 100 nm 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자
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제 11 항에 있어서, 상기 하부 금속층은 적어도 2개의 단위 금속층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자
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제 13 항에 있어서, 상기 하부 금속층의 상기 각 단위 금속층의 일부에는 산화막이 형성되어 있는 디스플레이 소자
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제 13 항에 있어서, 상기 각 단위 금속층은 1 nm 내지 100 nm 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자
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제 13 항에 있어서, 상기 각 단위 금속층은 60 nm 내지 70 nm 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자
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17
제 11 항에 있어서, 상기 하부 금속층과 상기 상부 금속층은 동일 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자
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18
제 11 항에 있어서, 상기 하부 금속층과 상기 상부 금속층은 알루미늄, 마그네슘, 망간, 칼슘 또는 그의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자
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제 11 항에 있어서, 상기 산화막은 알루미늄 옥사이드(Al2O3), 마그네슘 옥사이드(MgOx), 망간 옥사이드(MnOx) 또는 칼슘 옥사이드(CaOx)인 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자
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