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진공을 유지하기 위한 챔버와;상기 챔버의 일측에 구성되며, 상기 챔버내부를 진공으로 조성하기 위한 공기배출구와;상기 챔버의 일측에 구성되며, 상기 챔버내부로 불활성기체를 주입하는 제 1 가스주입구와;상기 챔버내에 구비되며, 기판을 이송하는 기판이송수단과;상기 챔버내에 구성되며, 상기 기판에 증착되는 박막물질인 타겟을 고정하는 백킹 플레이트와;상기 백킹 플레이트의 배면에 구성되며, 직류전압이 인가되는 음극판을 포함하며, 상기 타겟을 크리닝(cleaning)하기 위한 크리닝가스를 주입하기 위한 제 2 가스주입구를 포함하며, 상기 크리닝가스는 제논(Xe) 또는 크립톤(Kr) 중 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치
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진공을 유지하기 위한 챔버와; 상기 챔버의 일측에 구성되며, 상기 챔버 내부를 진공으로 조성하기 위한 공기배출구와; 상기 챔버의 일측에 구성되며, 상기 챔버 내부로 불활성기체를 주입하는 제 1 가스주입구와; 상기 챔버 내에 구비되며, 기판을 이송하는 기판이송수단과; 상기 챔버 내에 구성되며, 상기 기판에 증착되는 박막물질인 타겟을 고정하는 백킹 플레이트와; 상기 백킹 플레이트의 배면에 구성되며, 직류전압이 인가되는 음극판과; 상기 음극판의 배면에 위치하며, 탈부착이 가능한 마그넷을 포함하며, 상기 타겟을 크리닝(cleaning)하기 위한 크리닝가스를 주입하기 위한 제 2 가스주입구를 포함하며, 상기 마그넷은 상기 타겟 상부에 재증착된 타겟물질을 크리닝할 시 탈착하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치
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챔버와, 공기배출구 및 상기 챔버 내부로 불활성기체를 주입하는 제 1 가스주입구와, 크리닝(cleaning)가스를 주입하는 제 2 가스주입구와, 타겟과, 백킹 플레이트를 포함하는 스퍼터링장치를 크리닝 하는 방법에 있어서, 진공상태의 챔버내로 기판이송수단을 통해 더미유리기판(dummy glass substrat)을 이송하는 단계와;상기 제 2 가스주입구를 통해 상기 챔버내로 크리닝(cleaning)가스를 주입하는 단계와;상기 크리닝가스를 이온화하며, 음극(anode)판에 직류전압을 인가하는 단계와;상기 이온화된 크리닝가스가 타겟을 향해 가속되어, 상기 타겟으로부터 재증착된 타겟물질이 분리되는 단계와;상기 타겟물질을 상기 더미유리기판 상에 증착하는 단계와;상기 타겟물질이 증착된 상기 더미유리기판을 상기 챔버내에서 반출하는 단계를 포함하는 스퍼터링장치 크리닝방법
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제 5 항에 있어서, 상기 더미유리기판을 챔버내로 이송하기 전에 챔버의 배면에 부착된 마그넷을 탈착하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치 크리닝방법
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제 5 항에 있어서, 상기 크리닝가스는 제논(Xe) 또는 크립톤(Kr) 중 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치 크리닝방법
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