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양전하를 띠는 재료와 음전하를 띠는 재료를 동시에 연마시 사용되는 선택비 조절제로서,a) 양전하를 띠는 재료에 흡착하여 음전하를 띠는 재료에 대한 연마 선택성을 높이는 중합체산; b) 염기성 물질; 및c) 불소계 화합물을 포함하는 것이 특징인 선택비 조절제
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제1항에 있어서, 상기 중합체산은 중량평균분자량이 2,000 내지 50,000인 선형의 중합체산, 중량평균분자량이 1,000 내지 20,000이고 주쇄 및 측쇄로 구성된 그라프트 형태(graft-type)의 중합체산, 또는 이들의 혼합물인 것이 특징인 선택비 조절제
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제2항에 있어서, 상기 선형의 중합체산은 카르복실기를 포함하는 화합물인 것이 특징인 선택비 조절제
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제3항에 있어서, 상기 카르복실기는 아크릴산, 메타아크릴산, 이타코닉산, 및 말레익산으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것이 특징인 선택비 조절제
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제2항에 있어서, 상기 그라프트형 중합체산에서 측쇄의 길이는 분자량이 500 내지 2,000이고, 주쇄의 길이는 분자량이 500 내지 15,000인 것이 특징인 선택비 조절제
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제2항에 있어서, 상기 그라프트형의 중합체산은 측쇄로 수산화기, 카르복실기, 및 술폰산기로 구성된 군에서 1종이상 선택된 작용기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체의 중합 또는 공중합으로부터 유래된 매크로 단위체(macro-unit) 및 주쇄로 카르복실기 함유 에틸렌성 불포화 단량체로부터 유래된 단위체(unit)를 포함하는 것이 특징인 선택비 조절제
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제2항에 있어서, 상기 그라프트형의 중합체산이 하기 화학식 1로 표시되는 알콕시폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산 에스테르 단량체를 함유하는 것이 특징인 선택비 조절제:[화학식 1]상기 화학식 1의 식에서,R1은 수소원자 또는 메틸이고,R2O는 탄소수 2∼4의 옥시알킬렌의 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물이되, 2 종 이상의 혼합물일 경우에는 블록상 또는 랜덤상으로 부가될 수 있고,R3는 탄소수 1∼4의 알킬이고,m은 옥시알킬렌기의 평균 부가 몰수고 1 내지 50의 정수이다
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제7항에 있어서, 상기 알콕시폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산 에스테르 단량체가 중합체산 내 10 내지 50 중량%로 함유되는 것이 특징인 선택비 조절제
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제6항에 있어서, 상기 그라프트형의 중합체산의 주쇄에 존재하는 카르복실기 함유 에틸렌성 불포화 단량체로부터 유래된 단위체는 메타크릴산 또는 아크릴산으로부터 유래된 것이 특징인 선택비 조절제
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제6항에 있어서, 상기 그라프트형의 중합체산의 주쇄에 존재하는 카르복실기 함유 에틸렌성 불포화 단량체로부터 유래된 단위체는 총 주쇄성분에 대하여 65 중량부 이상 100중량부 이하로 포함되어 있는 것이 특징인 선택비 조절제
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제1항에 있어서, 상기 염기성 물질은 수산화암모늄 또는 염기성 아민인 것이 특징인 선택비 조절제
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제1항에 있어서, pH가 4
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제1항에 있어서, 상기 불소계 화합물은 불산(HF), 포타슘 플루오라이드(KF), 소듐 플루오라이드(NaF), 플루오로실리식엑시드(H2SiF6), 플루오로보릭엑시드(HBF4), 불화암모늄(NH4F), 암모늄헥사플루오로실리케이트((NH4)2SiF6), 암모늄테트라플루오로보레이트(NH4BF4), 포타슘 테트라플루오로보레이트(KBF4), 암모늄 히드로겐디플루오라이드(NH4HF2), 테트라에틸불화암모늄(TEAF, (C2H5)4NFㅇxH2O), 및 테트라메틸불화암모늄(TMAF, (CH3)4NF)으로 구성된 군에서 1 종 이상 선택된 것이 특징인 선택비 조절제
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제1항에 있어서, 상기 불소계 화합물은 상기 중합체산 100 중량부에 대하여 0
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제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, CMP(chemical mechanical polishing) 슬러리용 첨가제로 사용하는 것이 특징인 선택비 조절제
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a) 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 선택비 조절제; b) 연마 입자; 및c) 물을 포함하는 CMP 슬러리
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제16항에 있어서, 선택비 조절제 0
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제16항에 있어서, 연마입자는 산화세륨인 것이 특징인 CMP 슬러리
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제16항에 기재된 CMP 슬러리를 사용한 얕은 트랜치 소자 분리(shallow trench isolation, STI) 방법
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