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복수 개의 화소 영역이 정의된 기판;상기 기판 상에, 적어도 한번 꺽인 형태로 각각 형성되는 복수 개의 전극 패턴;상기 기판 상에, 상기 복수 개의 전극 패턴 중 상기 기판 내의 일측 가장자리 영역에서 분리되는 일부 각각을 메우도록 형성되는 제 1 더미 패턴; 및상기 기판 상에, 상기 복수 개의 전극 패턴 중 상기 기판 내의 타측 가장자리 영역에서 분리되는 다른 일부 각각을 메우도록 형성되는 제 2 더미 패턴을 포함하고,상기 제 1 더미 패턴의 테두리 중 일측 가장자리는 상기 일부의 전극 패턴에 매칭되도록 적어도 한번 꺾인 형태이며, 다른 일측 가장자리는 상기 기판의 일측 가장자리에 매칭되고,상기 제 2 더미 패턴의 테두리 중 일측 가장자리는 상기 기판의 타측 가장자리에 매칭되며, 다른 일측 가장자리는 상기 다른 일부의 전극 패턴에 매칭되도록 적어도 한번 꺾인 형태임을 특징으로 하는 분할 노광을 위한 마스크
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제 1 항에 있어서,상기 전극 패턴은 공통 전극 패턴, 데이터 라인 패턴 및 화소 전극 패턴 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 분할 노광을 위한 마스크
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복수 개의 화소 영역이 정의된 기판;상기 기판 상에, 일방향으로 형성되는 게이트라인 패턴;상기 기판 상에, 상기 게이트라인 패턴으로부터 돌출되어 형성되는 게이트전극 패턴;상기 기판 상에, 상기 게이트라인 패턴과 평행하게 형성되는 공통라인 패턴; 상기 기판 상에, 상기 복수 개의 화소영역에 대응하여 상기 공통라인 패턴으로부터 돌출되고 가운데가 적어도 한번 꺾인 형태로 각각 형성되는 복수 개의 공통전극 패턴; 상기 기판 상에, 상기 복수 개의 공통전극 패턴 중 상기 기판 내의 일측 가장자리 영역에서 분리되는 일부 각각을 메우도록 형성되는 제 1 더미 패턴; 및 상기 기판 상에, 상기 복수 개의 공통전극 패턴 중 상기 기판 내의 타측 가장자리 영역에서 분리되는 다른 일부 각각을 메우도록 형성되는 제 2 더미 패턴을 포함하고,상기 제 1 더미 패턴의 테두리 중 일측 가장자리는 상기 일부의 공통전극 패턴에 매칭되도록 적어도 한번 꺾인 형태이며, 다른 일측 가장자리는 상기 기판의 일측 가장자리에 매칭되고,상기 제 2 더미 패턴의 테두리 중 일측 가장자리는 상기 기판의 타측 가장자리에 매칭되며, 다른 일측 가장자리는 상기 다른 일부의 공통전극 패턴에 매칭되도록 적어도 한번 꺾인 형태임을 특징으로 하는 분할 노광을 위한 마스크
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 제 1 더미 패턴은 ◀ 모양을 갖고 상기 기판의 일측 가장자리를 따라 일렬로 나열되어 형성되고, 상기 제 2 더미 패턴은 모양을 갖고 상기 기판의 타측 가장자리를 따라 일렬로 나열되어 형성됨을 특징으로 하는 분할 노광을 위한 마스크
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 제 1 더미 패턴은 모양을 갖고 상기 기판의 일측 가장자리를 따라 일렬로 나열되어 형성되고, 상기 제 2 더미 패턴은 ▶ 모양을 갖고 상기 기판의 타측 가장자리를 따라 일렬로 나열되어 형성됨을 특징으로 하는 분할 노광을 위한 마스크
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6
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 일측은 좌측이고, 상기 타측은 우측인 것을 특징으로 하는 분할 노광을 위한 마스크
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7
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 일측은 상측이고, 상기 타측은 하측인 것을 특징으로 하는 분할 노광을 위한 마스크
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8
기판 상에 금속 물질을 증착하고, 상기 기판 전면에 포토 레지스트를 도포하는 단계;가운데가 적어도 한번 꺾인 형태를 갖는 복수 개의 전극 패턴을 포함한 마스크를 상기 기판의 일측 영역에 대응시킨 상태에서, 상기 포토 레지스트를 노광하는 단계;상기 마스크를 상기 기판의 타측으로 쉬프트시켜 상기 기판의 타측 영역에 대응시킨 상태에서, 상기 포토 레지스트를 노광하는 단계;상기 노광된 포토 레지스트를 현상하는 단계; 및상기 현상된 포토 레지스트를 이용하여 상기 금속 물질을 식각하는 단계를 포함하고,상기 마스크는,상기 복수 개의 전극 패턴 중 상기 마스크 내의 일측 가장자리 영역에서 분리되는 일부 각각을 메우도록 형성되는 제 1 더미 패턴; 및상기 복수 개의 전극 패턴 중 상기 마스크 내의 타측 가장자리 영역에서 분리되는 다른 일부 각각을 메우도록 형성되는 제 2 더미 패턴을 더 포함하며,상기 제 1 더미 패턴의 테두리 중 일측 가장자리는 상기 일부의 전극 패턴에 매칭되도록 적어도 한번 꺾인 형태이고, 다른 일측 가장자리는 상기 마스크의 일측 가장자리에 매칭되며,상기 제 2 더미 패턴의 테두리 중 일측 가장자리는 상기 마스크의 타측 가장자리에 매칭되고, 다른 일측 가장자리는 상기 다른 일부의 전극 패턴에 매칭되도록 적어도 한번 꺾인 형태임을 특징으로 하는 패터닝 방법
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9
제 8 항에 있어서,상기 전극 패턴은 공통 전극 패턴, 데이터 라인 패턴 및 화소 전극 패턴 중 어느 하나인 것을 특징으로 패터닝 방법
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제 8 항에 있어서,상기 기판의 일측 영역과 상기 기판의 타측 영역은 적어도 일부 오버랩함을 특징으로 하는 패터닝 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 포토 레지스트를 현상하는 단계 이전에,상기 마스크를 상기 기판의 서로 다른 영역에 대응시킨 상태에서 상기 포토 레지스트를 노광하는 단계를 복수 회 더 포함함을 특징으로 하는 패터닝 방법
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삭제
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 더미 패턴은 ◀ 모양을 갖고 상기 마스크의 일측 가장자리를 따라 일렬로 나열되어 형성되고, 상기 제 2 더미 패턴은 모양을 갖고 상기 마스크의 타측 가장자리를 따라 일렬로 나열되어 형성됨을 특징으로 하는 패터닝 방법
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 더미 패턴은 모양을 갖고 상기 마스크의 일측 가장자리를 따라 일렬로 나열되어 형성되고, 상기 제 2 더미 패턴은 ▶ 모양이 마스크의 타측 가장자리를 따라 일렬로 나열되어 형성됨을 특징으로 하는 패터닝 방법
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제 8 항에 있어서,상기 일측은 좌측이고, 상기 타측은 우측인 것을 특징으로 하는 패터닝 방법
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제 8 항에 있어서,상기 일측은 상측이고, 상기 타측은 하측인 것을 특징으로 하는 패터닝 방법
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17
복수 개의 화소 영역이 정의된 기판 상에 제 1 금속물질을 증착하고, 기판 전면에 포토 레지스트를 도포하는 단계;일방향의 게이트라인 패턴, 상기 게이트라인 패턴으로부터 돌출되는 게이트 전극 패턴, 상기 게이트 라인 패턴에 평행한 공통라인 패턴, 및 상기 공통라인 패턴으로부터 돌출되고 가운데가 적어도 한번 꺾인 형태를 갖는 둘 이상의 공통전극 패턴을 포함한 마스크를 상기 기판의 일측 영역에 대응시킨 상태에서, 상기 포토 레지스트를 노광하는 단계;상기 마스크를 상기 기판의 타측으로 쉬프트시켜 상기 기판의 타측 영역에 대응시킨 상태에서, 상기 포토 레지스트를 노광하는 단계;상기 노광된 포토 레지스트를 현상하는 단계;상기 기판 상에, 일방향의 게이트라인, 상기 게이트라인으로부터 돌출되는 게이트전극, 상기 게이트라인과 평행한 공통라인, 및 상기 복수 개의 화소 영역에 대응하여 상기 공통라인으로부터 돌출되고 가운데가 적어도 한번 꺾인 형태를 갖는 복수 개의 공통전극이 형성되도록, 상기 현상된 포토 레지스트를 이용하여 상기 제 1 금속물질을 식각하는 단계;상기 게이트라인, 게이트 전극, 공통라인 및 공통전극을 포함한 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계;상기 게이트 절연막 상의 게이트 전극 상부에 반도체층을 형성하는 단계;상기 게이트 라인과 교차하여 화소 영역을 정의하는 데이터 라인 및 이로부터 반도체층 상부로 돌출된 소스 전극 및 이와 이격된 드레인 전극을 형성하는 단계;상기 소스 및 드레인 전극을 포함한 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계;상기 보호막에 콘택홀을 형성하는 단계; 및상기 콘택홀을 통해 드레인 전극과 전기적으로 연결되고, 공통전극과 교번하도록 화소전극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 마스크는,상기 둘 이상의 공통전극 패턴 중 상기 마스크 내의 일측 가장자리 영역에서 분리되는 일부 각각을 메우도록 형성되는 제 1 더미 패턴; 및상기 둘 이상의 공통전극 패턴 중 상기 마스크 내의 타측 가장자리 영역에서 분리되는 다른 일부 각각을 메우도록 형성되는 제 2 더미 패턴을 더 포함하며,상기 제 1 더미 패턴의 테두리 중 일측 가장자리는 상기 일부의 공통전극 패턴에 매칭되도록 적어도 한번 꺾인 형태이고, 다른 일측 가장자리는 상기 마스크의 일측 가장자리에 매칭되며,상기 제 2 더미 패턴의 테두리 중 일측 가장자리는 상기 마스크의 타측 가장자리에 매칭되고, 다른 일측 가장자리는 상기 다른 일부의 공통전극 패턴에 매칭되도록 적어도 한번 꺾인 형태임을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 마스크가 대응되는 부위는 기판의 액티브 영역인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 기판의 일측을 노광하는 단계와 상기 기판의 타측을 노광하는 단계는 오버랩되어 일어나는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서, 상기 마스크를 쉬프트시켜 노광하는 단계는 복수 회 쉬프트 시켜 노광하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 기판의 일측을 노광하는 단계에서 사용하는 마스크와 상기 기판의 타측을 노광하는 단계에서 사용하는 마스크는 동일한 마스크인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 기판의 일측을 노광하는 단계에서 사용하는 마스크와 상기 기판의 타측을 노광하는 단계에서 사용하는 마스크는 서로 다른 패턴을 가진 마스크인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 제 1 더미 패턴은 ◀ 모양이 마스크의 일측 가장자리를 따라 일렬로 형성되고, 상기 제 2 더미 패턴은 모양이 마스크의 타측 가장자리를 따라 일렬로 형성된 마스크를 사용하여 노광하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 제 1 더미 패턴은 모양이 마스크의 일측 가장자리를 따라 일렬로 형성되고, 상기 제 2 더미 패턴은 ▶ 모양이 마스크의 타측 가장자리를 따라 일렬로 형성된 마스크를 사용하여 노광하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 일측은 좌측이고, 상기 타측은 우측인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 일측은 상측이고, 상기 타측은 하측인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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