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표면처리장치

기술번호 : KST2015045880
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명에 따른 표면처리장치는 플라즈마를 형성하여 하부방향으로 분사하는 플라즈마모듈; 상기 플라즈마모듈의 하부에 배치되어 대상물을 이동시키는 이동부; 상기 플라즈마모듈의 측면에 배치되어 상기 플라즈마모듈과 상기 이동부 사이로 유입되는 공기를 차단하는 차단부를 포함한다. 따라서, 발명에 따른 표면처리장치의 차단부는 처리영역 즉, 표면처리장치가 대상물을 처리하는 영역을 국부적으로 진공유사 상태로 형성하여 대상물의 표면처리효율의 극대화 및 안정성을 확보할 수 있게 되고, 상기 표면처리된 대상물 상에 신뢰성 있는 패턴을 형성할 수 있게 된다. 또한 표면처리장치는 플라즈마모듈 주변에 마련되는 차단부를 이용하여 상기 플라즈마모듈의 처리영역 주변으로 유입 및 유출되는 오염물질을 저감시킬 수 있기 때문에 유독한 가스를 사용할 수 있는 장점이 있다.
Int. CL	H01L 21/02 (2006.01)
CPC	H01L 21/3065(2013.01) H01L 21/3065(2013.01) H01L 21/3065(2013.01) H01L 21/3065(2013.01)
출원번호/일자	1020060116904 (2006.11.24)
출원인	엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자	10-1291877-0000 (2013.07.25)
공개번호/일자	10-2008-0047049 (2008.05.28) 문서열기
공고번호/일자	(20130731) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	소멸
심사진행상태	수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2011.11.18)
심사청구항수	14

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	엘지디스플레이 주식회사	대한민국	서울특별시 영등포구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	이명호	대한민국	경기 안양시 동안구
2	김봉철	대한민국	대구 북구
3	이승현	대한민국	경기 용인시 기흥구
4	구교용	대한민국	경상북도 구미시
5	서현진	대한민국	경상북도 구미시
6	이정훈	대한민국	경북 칠곡군
7	권당	대한민국	대전 서구
8	조항섭	대한민국	충청남도 태안군

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	서교준	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로 길, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	엘지디스플레이 주식회사		서울특별시 영등포구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서 Patent Application	2006.11.24	수리 (Accepted)	1-1-2006-0864903-44
2	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2008.04.18	수리 (Accepted)	4-1-2008-5061241-15
3	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2010.12.21	수리 (Accepted)	4-1-2010-5241074-12
4	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2011.10.04	수리 (Accepted)	4-1-2011-5199065-15
5	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)	2011.11.18	수리 (Accepted)	1-1-2011-0914254-90
6	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2011.12.29	수리 (Accepted)	4-1-2011-5262372-95
7	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2012.06.15	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
8	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2012.07.20	수리 (Accepted)	9-1-2012-0056457-57
9	[대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)	2012.09.04	수리 (Accepted)	1-1-2012-0711228-97
10	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2012.12.12	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0755806-33
11	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2013.02.07	수리 (Accepted)	1-1-2013-0115371-28
12	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2013.02.07	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2013-0115372-74
13	등록결정서 Decision to grant	2013.05.20	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0341591-03

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 플라즈마를 형성하여 하부방향으로 분사하는 플라즈마모듈; 상기 플라즈마모듈의 하부에 배치되어 대상물을 이동시키는 이동부; 상기 플라즈마모듈의 측면에 배치되어 상기 플라즈마모듈과 상기 이동부 사이로 유입되는 공기를 차단하는 차단부를 포함하고,상기 차단부는,제1가스를 분사하는 제1차단부 및상기 제1차단부와 상기 플라즈마모듈 사이에 구비되어 제2가스를 배출하는 제2차단부를 포함하는 표면처리장치
2	2 제 1항에 있어서, 상기 플라즈마모듈과 상기 차단부는 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 표면처리장치
3	3 제 1항에 있어서, 상기 플라즈마모듈과 상기 차단부는 탈착이 가능한 것을 특징으로 하는 표면처리장치
4	4 제 1항에 있어서, 상기 차단부는 상기 플라즈마모듈이 대응되는 양측면에 구비되는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
5	5 제 1항에 있어서, 상기 차단부는 상기 플라즈마모듈의 모든 측면에 구비되는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
6	6 제 1항에 있어서, 상기 제1차단부는,상기 제1가스를 상기 플라즈마모듈의 하부방향으로 분사하고,상기 제2차단부는, 상기 제2가스를 상기 플라즈마모듈의 상부방향으로 배출하는 표면처리장치
7	7 제 1항에 있어서, 상기 제1가스는 불활성가스, 질소가스 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 표면처리장치
8	8 제 1항에 있어서, 상기 제2가스는 상기 대상물 처리 중에 잔류하는 오염물질인 것을 특징으로 하는 표면처리장치
9	9 제 1항에 있어서, 상기 제1차단부는 적어도 하나 이상의 제1관통홀을 구비하는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
10	10 제 9항에 있어서, 상기 제1관통홀의 하부 단부는 소정각도 경사진 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
11	11 제 10항에 있어서, 상기 제1관통홀의 형상은 상기 제1관통홀의 하부방향에서 외부방향으로 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 표면처리장치
12	12 제 1항에 있어서, 상기 제2차단부는 적어도 하나 이상의 제2관통홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
13	13 제 12항에 있어서, 상기 제2관통홀의 하부 단부는 소정각도로 경사진 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
14	14 제 13항에 있어서, 상기 제2관통홀의 형상은 상기 제2관통홀의 하부방향에서 상기 플라즈마모듈과 상기 이동부 사이에 형성된 대상물 표면 처리영역으로 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 표면처리장치

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허 등록번호 표입니다.
특허 등록번호	10-1291877-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20061124 출원 번호 : 1020060116904 공고 연월일 : 20130731 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130520 청구범위의 항수 : 14 유별 : H01L 21/02 발명의 명칭 : 표면처리장치 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	591,000 원	2013년 07월 25일	납입
제 4 년분	금 액	348,000 원	2016년 06월 30일	납입
제 5 년분	금 액	348,000 원	2017년 06월 15일	납입
제 6 년분	금 액	348,000 원	2018년 06월 15일	납입
제 7 년분	금 액	632,000 원	2019년 06월 17일	납입

본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서	2006.11.24	수리 (Accepted)	1-1-2006-0864903-44
2	출원인정보변경(경정)신고서	2008.04.18	수리 (Accepted)	4-1-2008-5061241-15
3	출원인정보변경(경정)신고서	2010.12.21	수리 (Accepted)	4-1-2010-5241074-12
4	출원인정보변경(경정)신고서	2011.10.04	수리 (Accepted)	4-1-2011-5199065-15
5	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서	2011.11.18	수리 (Accepted)	1-1-2011-0914254-90
6	출원인정보변경(경정)신고서	2011.12.29	수리 (Accepted)	4-1-2011-5262372-95
7	선행기술조사의뢰서	2012.06.15	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
8	선행기술조사보고서	2012.07.20	수리 (Accepted)	9-1-2012-0056457-57
9	[대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서	2012.09.04	수리 (Accepted)	1-1-2012-0711228-97
10	의견제출통지서	2012.12.12	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0755806-33
11	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2013.02.07	수리 (Accepted)	1-1-2013-0115371-28
12	[명세서등 보정]보정서	2013.02.07	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2013-0115372-74
13	등록결정서	2013.05.20	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0341591-03


기술번호	KST2015045880
자료제공기관	NTB
기술공급기관	LG그룹
기술명	표면처리장치
기술개요	본 발명에 따른 표면처리장치는 플라즈마를 형성하여 하부방향으로 분사하는 플라즈마모듈; 상기 플라즈마모듈의 하부에 배치되어 대상물을 이동시키는 이동부; 상기 플라즈마모듈의 측면에 배치되어 상기 플라즈마모듈과 상기 이동부 사이로 유입되는 공기를 차단하는 차단부를 포함한다. 따라서, 발명에 따른 표면처리장치의 차단부는 처리영역 즉, 표면처리장치가 대상물을 처리하는 영역을 국부적으로 진공유사 상태로 형성하여 대상물의 표면처리효율의 극대화 및 안정성을 확보할 수 있게 되고, 상기 표면처리된 대상물 상에 신뢰성 있는 패턴을 형성할 수 있게 된다. 또한 표면처리장치는 플라즈마모듈 주변에 마련되는 차단부를 이용하여 상기 플라즈마모듈의 처리영역 주변으로 유입 및 유출되는 오염물질을 저감시킬 수 있기 때문에 유독한 가스를 사용할 수 있는 장점이 있다.
개발상태
기술의 우수성
응용분야
시장규모 및 동향
희망거래유형
사업화적용실적
도입시고려사항

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