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ⅰ) 다음 화학식 2로 표시되는 옥사졸리디논 유도체와 다음 화학식 3으로 표시되는 방향족 할라이드 유도체를 결합반응한 후에, 하이드록시 보호기를 제거하여 다음 화학식 4b로 표시되는 페놀 유도체를 제조하는 과정; 상기에서, X는 할로겐원자를 나타내고, Pro는 하이드록시 보호기를 나타낸다:ⅱ) 다음 화학식 4b로 표시되는 화합물을 산화제 존재하에서 산화성 짝지움 (oxidative coupling) 반응하여 다음 화학식 5로 표시되는 스파이로 벤조 아제핀 유도체를 제조하는 과정;ⅲ) 다음 화학식 5로 표시되는 화합물을 모르폴린과 팔라듐 촉매를 사용하여 반응시켜 다음 화학식 6으로 표시되는 입체선택성의 하이드로퓨란 유도체를 제조하는 과정;ⅳ) 다음 화학식 6으로 표시되는 화합물의 C-6 위치 하이드록시기를 수소원자로 전환하여 다음 화학식 7b로 표시되는 화합물을 제조하는 과정;ⅴ) 다음 화학식 7b로 표시되는 화합물의 C-10 위치 케톤을 환원 반응하여 다음 화학식 8로 표시되는 화합물을 제조하는 과정;ⅵ) 다음 화학식 8로 표시되는 화합물을 염기 조건에서 가수분해하여 옥사졸리디논 고리를 개환한 후에, N-메틸화 반응하여 다음 화학식 9b로 표시되는 화합물을 제조하는 과정;ⅶ) 다음 화학식 9b로 표시되는 화합물을 산화 반응하여 다음 화학식 10으로 표시되는 화합물을 제조하는 과정;ⅷ) 다음 화학식 10으로 표시되는 화합물의 알데히드기를 옥심으로 전환한 후에, 탈수반응하여 다음 화학식 11로 표시되는 화합물을 제조하는 과정; 및ⅸ) 다음 화학식 11로 표시되는 화합물의 C-6 위치 케톤의 환원반응 및 C-10 위치의 카르보나이트릴기 제거반응을 수행하여 다음 화학식 1로 표시되는 갈란타민을 제조하는 과정; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 갈란타민의 제조방법:
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제 1 항에서, 상기 화학식 2로 표시되는 옥사졸리디논 유도체는 a) 다음 화학식 2-1로 표시되는 D-타이로신 메틸 에스터 하이드로클로라이드를 염기 조건하에 에틸 클로로 포메이트로 처리하여 다음 화학식 2-2로 표시되는 에톡시카르보닐 아미노 메틸 에스터를 제조하고,b) 다음 화학식 2-2로 표시되는 화합물의 하이드록시기를 보호기(protecting group)로 보호하여 다음 화학식 2-3으로 표시되는 화합물을 제조하고,c) 다음 화학식 2-3으로 표시되는 화합물을 환원하여 다음 화학식 2-4로 표시되는 알코올 유도체를 제조하고,d) 다음 화학식 2-4로 표시되는 화합물을 염기 조건하에서 가열 환류 반응하여 다음 화학식 2로 표시되는 옥사졸리디논 유도체를 제조하여 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법 : 상기에서, Pro는 하이드록시 보호기를 나타낸다
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제 1 항에서, 상기 화학식 3로 표시되는 방향족 할라이드 유도체는a) 다음 화학식 3-1로 표시되는 다이하이드록시메틸 에스터 유도체를 염기 조건하에 알릴브로마이드로 알킬화하여 다음 화학식 3-2로 표시되는 화합물을 제조하고,b) 다음 화학식 3-2로 표시되는 화합물을 환원반응하여 에스터를 알코올로 전환하여 다음 화학식 3-3으로 표시되는 다이알릴 알코올 유도체를 제조하고,c) 다음 화학식 3-3으로 표시되는 화합물을 브롬화하여 하이드록시기를 브롬으로 전환하여 다음 화학식 3으로 표시되는 알릴이 치환된 방향족 할라이드 유도체를 제조하여 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 ⅱ)산화성 짝지움 반응에는 페닐아이오딘(Ⅲ) 비스(트라이풀루오로 아세테이트)가 산화제로 사용되는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 ⅲ)반응은 모르폴린이 포함된 테트라하이드로퓨란 용매에서 테트라키스트라이페닐포스핀 팔라디움 [Pd(PPh3)4]를 사용하여 실온에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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다음 화학식 5로 표시되는 화합물
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다음 화학식 6으로 표시되는 화합물
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8
다음 화학식 7b로 표시되는 화합물
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다음 화학식 8로 표시되는 화합물
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다음 화학식 9b로 표시되는 화합물
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다음 화학식 11로 표시되는 화합물
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