맞춤기술찾기

이전대상기술

지문 인식 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2015046130
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전처리 과정 없이 입력된 지문의 융선을 정규화한 후에 특징점을 추출하는 지문 인식 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명은 입력된 지문이미지의 융선을 상기 입력된 융선의 평균 폭으로 수정하여 융선 이미지를 생성하는 융선정규화부(40)와; 상기 융선정규화부(40)에서 계산된 평균 폭을 이용하여 마스크(53)를 생성하고, 상기 생성된 마스크(53)를 이용하여 상기 융선 이미지의 특징점을 검출하여 특징점이미지를 생성하는 특징점추출부(50)를 포함하여 구성된다. 이와 같이 구성되는 본 발명에 의하면 가버 필터링 및 세선화 단계를 포함하고 있지 않으므로 상기 가버 필터링 또는 세선화 처리를 위한 전처리 단계인 융선의 방향성 추출이나 융선 빈도 추출단계가 필요하지 않으므로 지문 인식 과정이 단순 해지고 따라서 오류 발생빈도가 낮아지는 장점이 있다.융선 정규화, 필터, 평균폭, 스캔
Int. CL A61B 5/117 (2006.01) G06T 1/00 (2006.01) G06K 9/00 (2006.01)
CPC G06K 9/0008(2013.01) G06K 9/0008(2013.01) G06K 9/0008(2013.01)
출원번호/일자 1020060119065 (2006.11.29)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-0795187-0000 (2008.01.09)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080116) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.11.29)
심사청구항수 21

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 유경덕 대한민국 경기 용인시 기흥구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인우린 대한민국 서울특별시 강남구 도곡로 ***, *층 (역삼동, 정호빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2006-0885333-66
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.06.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.07.11 수리 (Accepted) 9-1-2007-0040223-00
4 등록결정서
Decision to grant
2007.12.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0667396-55
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
입력된 지문이미지의 융선을 상기 입력된 융선의 평균 폭으로 수정하여 융선 이미지를 생성하는 융선 정규화부와;상기 융선 정규화부에서 계산된 평균 폭을 이용하여 마스크를 생성하고, 상기 생성된 마스크를 이용하여 상기 융선 이미지의 특징점을 검출하여 특징점이미지를 생성하는 특징점 추출부를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 지문 인식 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 융선 정규화부는,상기 입력된 지문이미지를 스캔하는 스캐닝부와;상기 스캔 된 지문이미지의 골간 거리 또는 융선간 거리를 측정하여 상기 융선의 평균폭을 산출하는 연산부; 그리고상기 입력된 지문이미지의 융선을 상기 산출된 평균폭으로 보정하여 융선이미지를 생성하는 보정부를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 지문 인식 장치
3 3
제 2 항에 있어서,상기 연산부는,상기 골의 중심 간 거리, 융선의 중심간 거리, 골의 넓이 또는 윤선의 넓이 중 어느 하나 이상을 측정하여 지문 융선의 넓이를 산출하고, 상기 산출된 융선 넓이의 평균값으로부터 상기 융선의 평균폭을 산출함을 특징으로 하는 지문 인식 장치
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 보정부는,입력된 지문의 융선을 상기 연산부에서 산출된 상기 평균폭과 동일한 폭을 갖도록 보정하여 융선이미지를 생성함을 특징으로 하는 지문 인식 장치
5 5
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 특징점 추출부는,융선의 위치 및 방향을 검사하여 특징점을 추출하기 위한 마스크를 생성하는 마스크 생성부와;상기 마스크 생성부에서 생성된 마스크를 이용하여 상기 융선의 위치 및 방향을 검사하여 상기 융선의 특징점을 검색하는 검색부; 그리고상기 검색부에 의해 검색된 특징점을 제외한 융선이미지를 제거하여 특징점이미지를 생성하는 필터부를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 지문 인식 장치
6 6
제 5 항에 있어서,상기 마스크 생성부는,상기 평균폭을 한 변의 길이로 하는 다수개의 픽셀로 이루어진 장방형의 마스크를 생성함을 특징으로 하는 지문 인식 장치
7 7
제 6 항에 있어서,상기 마스크는,n행 n열의 픽셀을 갖는 매트릭스 마스크임을 특징으로 하는 지문 인식 장치
8 8
제 7 항에 있어서,상기 변수 n은,3≤n≤32의 정수임을 특징으로 하는 지문 인식 장치
9 9
제 6 항에 있어서,상기 검색부는,상기 마스크를 한 픽셀의 길이 단위로 이동시켜, 상기 지문 이미지를 스캐닝하여 상기 지문 이미지의 특징점을 검색함을 특징으로 하는 지문 인식 장치
10 10
제 9 항에 있어서,상기 특징점은,상기 융선의 단점, 분기점 또는 변곡점 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 이식 장치
11 11
제 10 항에 있어서,상기 검색부는,상기 특징점의 위치 및 방향을 검색함을 특징으로 하는 지문 인식 장치
12 12
제 11 항에 있어서,상기 필터는,상기 융선이미지 중 상기 검색부에 의해 검색된 특징점을 제외한 부분을 제거하고, 이미지 크기를 설정된 기준 크기로 변환하여 특징점 이미지를 생성함을 특징으로 하는 지문 인식 장치
13 13
제 1 항에 있어서,사용자로부터 입력된 지문 영상 중 융선이 포함된 영역만을 선택적으로 취하는 영역선택부를 더 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 지문 인식 장치
14 14
제 13 항에 있어서,상기 영역 선택부에 의해 선택된 지문영상의 히스토그램 분포를 동일 수준으로 조정하여 지문이미지를 생성하는 정규화부를 더 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 지문 인식 장치
15 15
제 14 항에 있어서,상기 특징점 추출부로부터 추출된 특징점이미지을 데이터 베이스에 저장된 기준정보와 비교 검색하는 매칭부를 더 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 지문 인식 장치
16 16
(A) 사용자로부터 지문 영상을 입력받는 입력단계와;(B) 상기 입력된 지문영상의 히스토그램 분포를 동일 수준으로 일치시켜 지문이미지를 생성하는 정규화 단계와;(C) 상기 정규화된 지문이미지의 융선을 평균값으로 정규화하여 융선이미지를 생성하는 융선 정규화 단계; 그리고(D) 상기 융선의 평균폭으로 마스크를 생성하고, 상기 마스크를 이용하여 상기 융선이미지를 스캐닝하여 특징점을 추출하여 특징점이미지를 생성하는 특징점 추출 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법
17 17
제 16 항에 있어서,상기 (C) 단계는,(C1) 상기 지문이미지를 스캔하면서 융선의 두께를 측정하는 단계와;(C2) 상기 측정된 융선의 두께로부터 평균폭을 산출하는 연산단계; 그리고(C3) 상기 연산된 평균폭으로 지문 이미지를 수정하여 융선이미지를 생성하는 보정단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법
18 18
제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,상기 (D) 단계는,(D1) 상기 평균폭을 한 변의 길이로 하는 다수개의 정방형 픽셀로 이루어진 장방형의 마스크를 생성하는 단계와;(D2) 생성된 상기 마스크를 이용하여 지문의 특징점을 검색하는 검색 단계; 그리고(D3) 상기 특징점의 영상만을 추출하기 위하여 상기 검색된 특징점 이외의 지문영상을 제거하는 필터링 단계와;(D4) 상기 필터링된 이미지의 크기를 설정된 기준크기로 변환하여 특징점이미지를 생성하는 변환단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법
19 19
제 18 항에 있어서,상기 마스크는,3행 3열 이상의 픽셀을 갖는 정방형 매트릭스 마스크임을 특징으로 하는 지문 인식 방법
20 20
제 19 항에 있어서,상기 특징점은,융선의 단점, 분기점 또는 변곡점 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법
21 21
제 20 항에 있어서,상기 특징점이미지와, 데이터 베이스에 저장된 지문정보를 비교하여 사용자의 지문이 저장된 데이터 베이스의 지문과 일치하는지 여부를 검사하는 매칭단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.