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방열회로기판 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015046449
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요약 본 발명은 방열회로기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 기판의 구조를 열전도도가 좋은 이종합금층으로 하고, 발열소자가 실장되는 발열소자 실장패드가 상기 이종합금층에 접촉되게 함으로써, 방열 특성을 향상시킬 수 있고, 고가의 세라믹 재질을 사용하지 않고도 방열 효율을 증대시킬 수 있는 방열회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.본 발명인 방열회로기판을 이루는 구성수단은, 서로 다른 금속이 적층되어 형성되는 이종합금층과, 상기 이종합금층 상에 형성되되, 홀이 구비되는 절연층과, 상기 절연층 상에 적층되는 도전층이 패터닝되어 형성되는 회로 패턴층과, 상기 절연층에 구비되는 홀을 통하여 상기 이종합금층에 접촉되는 발열소자 실장패드를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.방열회로기판
Int. CL H05K 7/20 (2006.01) H05K 1/02 (2006.01)
CPC H05K 7/2039(2013.01) H05K 7/2039(2013.01) H05K 7/2039(2013.01)
출원번호/일자 1020060125194 (2006.12.09)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-1148127-0000 (2012.05.15)
공개번호/일자 10-2008-0053153 (2008.06.12) 문서열기
공고번호/일자 (20120523) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.06.09)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이정오 대한민국 경기 의정부시
2 박상준 대한민국 경기도 안산시 상록구
3 김영남 대한민국 대구광역시 달성
4 윤성운 대한민국 부산광역시 부산진구
5 박재만 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김희곤 대한민국 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2 김인한 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 강서구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.12.09 수리 (Accepted) 1-1-2006-0913189-89
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2009.11.13 수리 (Accepted) 1-1-2009-0696852-76
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.02.24 수리 (Accepted) 4-1-2010-5032116-06
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2010.06.09 수리 (Accepted) 1-1-2010-0369128-71
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.09.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0521235-62
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.11.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0900425-28
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.11.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0900426-74
8 등록결정서
Decision to grant
2012.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0224777-97
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
서로 다른 금속이 적층되어 형성되는 이종합금층과;상기 이종합금층 상에 형성되되, 홀이 구비되는 절연층과;상기 절연층 상에 적층되는 도전층이 패터닝되어 형성되는 회로 패턴층과;상기 절연층에 구비되는 홀을 통하여 상기 이종합금층에 접촉되는 발열소자 실장패드를 포함하되,상기 이종합금층은,알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어진 금속 플레이트와,상기 금속 플레이트 상부 또는 상하부에 형성되고 구리 또는 구리 합금으로 이루어진 금속 박막으로 이루어진 것을 특징으로 하는 방열회로기판
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
청구항 1에 있어서,상기 도전층은 얇은 구리가 적층되어 형성되는 동박층인 것을 특징으로 하는 방열회로기판
5 5
청구항 1에 있어서,상기 발열소자 실장패드에 LED가 실장되어, 백라이트용 광원 또는 조명용 광원으로 이용되는 것을 특징으로 하는 방열회로기판
6 6
알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어진 금속 플레이트의 상부 또는 상하부에 구리 또는 구리 합금으로 이루어진 금속 박막을 형성하여 이종합금층을 형성하는 단계;상기 이종합금층 상부에 절연층과 도전층을 순차적으로 형성한 후, 상기 도전층을 에칭으로 패터닝하여 상기 절연층 상에 회로 패턴층을 형성하는 단계;상기 절연층에 홀을 형성하고, 상기 홀을 통해 상기 이종합금층 상부와 접촉되는 발열소자 실장패드를 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 방열회로기판 제조방법
7 7
청구항 6에 있어서, 상기 이종합금층을 형성하는 단계는,상기 금속 플레이트에 대하여 알칼리 세정→수세→산 에칭→수세→밀착개량 공정을 수행하는 전처리 공정과, 상기 전처리된 금속 플레이트의 상부 또는 상하부면에 아연치환을 수행하고, 니켈 도금을 수행하는 공정과, 상기 니켈 도금된 상기 금속 플레이트 상부 또는 상하부면에 구리 또는 구리 합금으로 이루어진 금속 박막을 도금하는 공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 방열회로기판 제조방법
8 8
청구항 6에 있어서, 상기 이종합금층을 형성하는 단계는,스퍼터링법, 증발법 및 화학기상증착법 중 어느 하나를 이용하여 상기 금속 플레이트 상부 또는 하부면에 상기 금속 박막을 증착시키는 단계인 것을 특징으로 하는 방열회로기판 제조방법
9 9
청구항 6에 있어서,상기 절연층에 형성된 홀은 레이져 또는 드릴 가공에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 방열회로기판 제조방법
10 10
청구항 6에 있어서,상기 발열소자 실장패드는 사전에 제작되되, 금형제조법 또는 조각기 가공으로 형성되는 것을 특징으로 하는 방열회로기판 제조방법
11 11
청구항 6에 있어서,상기 발열소자 실장패드는 상기 절연층의 홀에 전도성 물질을 도금하거나, 전도성 페이스트를 채워서 형성되는 것을 특징으로 하는 방열회로기판 제조방법
12 12
청구항 6에 있어서,상기 발열소자 실장패드에 LED가 실장되는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방열회로기판 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.