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광학 플레이트 및 이를 구비한 백라이트 어셈블리

  • 기술번호 : KST2015046600
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 구조를 단순화하고 광 효율을 향상시키고 비용을 절감할 수 있는 광학 플레이트 및 이를 구비한 백라이트 어셈블리가 개시된다. 본 발명의 광학 플레이트는, 베이스 플레이트; 및 상기 베이스 플레이트 상에 형성된 다수의 프리즘 패턴을 포함하고, 상기 각 프리즘 패턴의 산 각도는 서로 상이하도록 형성된다.광학 플레이트, 프리즘 플레이트, 프리즘 패턴, 산 각도, 광 효율
Int. CL G02B 5/04 (2006.01) G02F 1/1335 (2006.01) G02B 5/02 (2006.01)
CPC G02B 5/0231(2013.01) G02B 5/0231(2013.01) G02B 5/0231(2013.01) G02B 5/0231(2013.01) G02B 5/0231(2013.01) G02B 5/0231(2013.01) G02B 5/0231(2013.01) G02B 5/0231(2013.01) G02B 5/0231(2013.01)
출원번호/일자 1020060135000 (2006.12.27)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1354358-0000 (2014.01.15)
공개번호/일자 10-2008-0060654 (2008.07.02) 문서열기
공고번호/일자 (20140123) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.20)
심사청구항수 22

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문종원 대한민국 경기 안양시 동안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서교준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2006-0970154-62
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2011.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2011-1013666-87
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.12.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-1013667-22
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
8 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2012.09.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-0711879-99
9 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.09.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
10 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.10.15 수리 (Accepted) 9-1-2012-0077903-56
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0773802-73
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.02.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0136150-82
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.02.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0136151-27
14 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2013.06.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0394120-43
15 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.08.01 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-0700491-65
16 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.08.01 수리 (Accepted) 1-1-2013-0700489-73
17 등록결정서
Decision to grant		 2013.11.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0775386-51
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번호 청구항
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베이스 플레이트; 및상기 베이스 플레이트 상에 형성된 다수의 프리즘 패턴을 포함하고,상기 각 프리즘 패턴의 산 각도 및 높이 중 어느 하나가 서로 상이하도록 형성되며,상기 베이스 플레이트는 정면 광 투과율이 50% 내지 100%의 범위를 가질 수 있는 광 투과 물질을 함유하고,상기 베이스 플레이트 상의 중심부에 형성된 제1 프리즘 패턴과, 상기 제1 프리즘 패턴에 인접하게 형성된 제2 프리즘 패턴은 광의 일부를 확산시키고,상기 프리즘 패턴은 광 투과 물질을 함유하며, 상기 베이스 플레이트와 프리즘 패턴은 개별적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 플레이트
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제13항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 산 각도는 중앙 영역에서 가장자리 영역으로 갈수록 작아지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 플레이트
15 15
제13항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 산 각도는 중앙 영역에서 가장자리 영역으로 갈수록 커지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 플레이트
16 16
제13항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 산 각도는 반복적으로 감소되고 증가되는 것을 특징으로 하는 광학 플레이트
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제16항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 산 각도 사이는 0
18 18
제13항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 높이는 중앙 영역에서 가장자리 영역으로 갈수록 커지는 것을 특징으로 하는 광학 플레이트
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제18항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 높이 사이는 0
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제13항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 높이는 중앙 영역에서 가장자리 영역으로 갈수록 작아지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 플레이트
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제13항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 높이는 반복적으로 감소되고 증가되는 것을 특징으로 하는 광학 플레이트
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제13항에 있어서, 상기 베이스 플레이트의 두께는 0
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바텀 커버;상기 바텀 커버 상에 배치된 다수의 광원; 및상기 다수의 광원 상에 배치된 프리즘 플레이트를 포함하고,상기 프리즘 플레이트는, 베이스 플레이트; 및상기 베이스 플레이트 상에 형성된 다수의 프리즘 패턴을 포함하고,상기 각 프리즘 패턴의 산 각도 및 높이 중 어느 하나가 서로 상이하도록 형성되며,상기 베이스 플레이트는 정면 광 투과율이 50% 내지 100%의 범위를 가질 수 있는 광 투과 물질을 함유하고,상기 베이스 플레이트 상의 중심부에 형성된 제1 프리즘 패턴과, 상기 제1 프리즘 패턴에 인접하게 형성된 제2 프리즘 패턴은 광원에서 조사된 광의 일부를 확산시키고,상기 프리즘 패턴은 광 투과 물질을 함유하며, 상기 베이스 플레이트와 프리즘 패턴은 개별적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
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제34항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 산 각도는 중앙 영역에서 가장자리 영역으로 갈수록 작아지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
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제35항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 산 각도 사이는 0
37 37
제34항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 산 각도는 중앙 영역에서 가장자리 영역으로 갈수록 커지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
38 38
제34항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 산 각도는 반복적으로 감소되고 증가되는 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
39 39
제34항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 높이는 중앙 영역에서 가장자리 영역으로 갈수록 커지는 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
40 40
제39항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 높이 사이는 0
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제34항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 높이는 중앙 영역에서 가장자리 영역으로 갈수록 작아지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
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제34항에 있어서, 상기 각 프리즘 패턴의 높이는 반복적으로 감소되고 증가되는 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
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제34항에 있어서, 상기 광원은 냉음극 형광램프, 외부전극 형광램프 및 발광 다이오드 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
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제34항에 있어서, 상기 프리즘 패턴은 상기 광원의 길이 방향을 따라 형성되는 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
46 46
제34항에 있어서, 상기 프리즘 패턴은 상기 광원의 길이 방향에 수직되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 백라이트 어셈블리
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.