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포토공정 파티클 제거장치

  • 기술번호 : KST2015046969
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요약 본 발명은 현상(developing) 공정 후 잔여 포토레지스트 등의 파티클에 의한 기판의 불량 원인을 제거하기 위하여 탈이온수(DI water)를 분사하는 분사노즐의 구조 변형을 통해 그 분사력을 증가시켜 파티클 제거를 강화하려는 포토공정 파티클 제거장치에 관한 것으로서, 그 구성은 유리기판이 로딩되는 척(chuck); 및 상기 척의 상측에 위치하고, 외부로부터 유입되는 탈이온수가 분사공에의 일시적으로 좁아지는 조임부를 지나면서 유속이 증가하여 유리기판상에 강하게 분사되는 분사노즐을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.분사노즐, 노즐 팁, 스프레이분사
Int. CL G03F 7/36 (2006.01) G02F 1/13 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC G03F 7/70916(2013.01) G03F 7/70916(2013.01) G03F 7/70916(2013.01) G03F 7/70916(2013.01) G03F 7/70916(2013.01) G03F 7/70916(2013.01)
출원번호/일자 1020060139090 (2006.12.29)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1354548-0000 (2014.01.16)
공개번호/일자 10-2008-0062903 (2008.07.03) 문서열기
공고번호/일자 (20140123) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.23)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오영택 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2006-0986073-81
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-1027479-17
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.01.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.02.06 수리 (Accepted) 9-1-2013-0007478-13
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.06.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0419529-33
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.08.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0750558-31
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.08.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0750538-28
12 등록결정서
Decision to grant
2013.12.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0906248-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
유리기판이 로딩되는 척(chuck); 및상기 척의 상측에 위치하고, 끝단 측부에 일시적으로 좁아지는 조임부가 형성된 분사공이 적어도 하나 경사지게 형성되며, 외부로부터 유입되는 탈이온수가 상기 분사공의 상기 조임부를 지나면서 유속이 증가하여 상기 유리기판 상에 강하게 분사되는 하나 이상의 분사노즐을 포함하여 구성되는 포토공정 파티클 제거장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 분사노즐은 상기 탈이온수가 유입되는 중공형(中孔型)을 갖는 노즐 본체; 및 상기 노즐 본체의 단부에 체결되고, 측부에 상기 중공형보다 작은 직경을 가지는 상기 분사공이 적어도 하나 형성된 노즐 팁을 포함하여 구성되는 포토공정 파티클 제거장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 분사공을 통하여 분사되는 상기 탈이온수의 분사력은 동일한 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
4 4
제2항에 있어서, 상기 노즐 본체와 상기 노즐 팁은 볼트와 너트의 구조로 형성되어 체결되는 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 분사공은 내측에서 외측으로 갈수록 좁아지는 끝조임(혹은 수축) 형상인 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
6 6
제1항에 있어서, 상기 분사공은 내측에서 외측으로 갈수록 넓어지는 발산(혹은 확대) 형상인 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
7 7
제1항에 있어서, 상기 분사공은 내측 및 외측의 분사공 직경이 서로 다른 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
8 8
제1항에 있어서, 상기 분사공은 가운데 영역의 분사공 직경이 내측 및 외측의 분사공 직경과 서로 다른 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
9 9
제1항에 있어서, 상기 탈이온수는 상기 분사공을 통해 스프레이방식으로 분사되는 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
10 10
제1항에 있어서, 상기 분사 노즐은 테프론(teflon)을 재질로 하여 형성되는 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
11 11
삭제
12 12
제1항에 있어서, 상기 척의 가장자리영역으로는 상측에 로딩되는 상기 유리기판과 직접적으로 맞닿는 것을 방지하는 지지핀(supprot pin)이 추가적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
13 13
제1항에 있어서, 상기 척은 별도의 모터와 연동하여 회전할 수 있는 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치
14 14
탈이온수가 유입되는 중공형(中孔型)을 갖는 노즐 본체; 및 상기 노즐 본체의 단부에 체결되고, 측부에 상기 중공형보다 작은 직경을 가지며 일시적으로 좁아지는 조임부가 형성된 분사공이 적어도 하나 경사지게 형성되고, 상기 탈이온수가 상기 분사공의 상기 조임부를 지나면서 유속이 증가하여 외부로 강하게 분사되는 노즐 팁을 포함하여 구성되는 포토공정 파티클 제거장치의 분사노즐
15 15
제14항에 있어서, 상기 분사공은 내측에서 외측으로 갈수록 좁아지는 끝조임(혹은 수축) 형상인 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치의 분사노즐
16 16
제14항에 있어서, 상기 분사공은 내측에서 외측으로 갈수록 넓어지는 발산 형상인 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치의 분사노즐
17 17
제14항에 있어서, 상기 분사공은 내측 및 외측의 분사공 직경이 서로 다른 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치의 분사노즐
18 18
제14항에 있어서, 상기 분사공은 가운데 영역의 분사공 직경이 내측 및 외측의 분사공 직경과 서로 다른 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치의 분사노즐
19 19
제14항에 있어서, 상기 노즐 본체 및 상기 노즐 팁은 볼트와 너트의 구조로 형성되어 체결되는 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치의 분사노즐
20 20
제14항에 있어서, 상기 분사공을 통해 스프레이방식으로 분사되는 상기 탈이온수의 분사력은 동일한 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치의 분사노즐
21 21
제14항에 있어서, 상기 노즐 본체 및 상기 노즐 팁은 테프론(teflon)을 재질로 하여 형성되는 것을 특징으로 하는 포토공정 파티클 제거장치의 분사노즐
22 22
삭제
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