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농도구배에 따라 고농도에서 저농도로 조성이 달라지는 주석(Sn)을 포함하는 버퍼층이 투명전도막과 반도체층 사이에 적어도 하나 이상의 층으로 구비되는 광기전력 변환소자
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제 1항에 있어서, 상기 버퍼층은 수소화된 SiSn, 수소화된 SiSnO, 수소화된 SiSnC, 수소화된 SiSnCO로 구성된 그룹에서 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자
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제 1항에 있어서, 상기 버퍼층이 다층의 버퍼층을 포함하고, 상기 다층의 버퍼층은 수소화된 SiSn, 수소화된 SiSnO, 수소화된 SiSnC, 수소화된 SiSnCO로 구성된 그룹에서 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 초기 버퍼층과, 수소화된 Si, 수소화된 SiC로 구성된 그룹에서 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 후기 버퍼층인 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자
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제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 버퍼층의 결정구조는 비정질, 미세 결정질, 및 다결정질 구조 중에서 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자
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제 1항에 있어서, 상기 투명전도막은 불소(F)가 도핑된 산화주석(SnO2) 또는 도핑되지 않은 산화주석(SnO2)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자
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제 1항에 있어서, 상기 반도체층은 수소화된 Si 또는 수소화된 SiC로 구성되는 p형 반도체층인 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자
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투명전도막 위에 농도구배에 따라 고농도에서 저농도로 조성이 달라지는 주석(Sn)을 포함하는 버퍼층을 형성하는 단계; 및 상기 버퍼층 위에 반도체층을 형성하는 단계를 포함하는 광기전력 변환소자의 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 버퍼층은 단층으로 형성하고, 수소화된 SiSn, 수소화된 SiSnO, 수소화된 SiSnC, 수소화된 SiSnCO로 구성된 그룹에서 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자의 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 버퍼층은 초기 버퍼층으로부터 후기 형성 버퍼층으로 연속적으로 성장되는 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자의 제조방법
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10
제 9항에 있어서, 상기 초기 버퍼층은,Sn층 또는 산소결함 SnO층을 형성하는 단계와, 및상기 Sn층 또는 산소결함 SnO층이 수소화된 Si, 수소화된 C, 수소화된 SiH4, 및 수소화된 CH4로 구성된 그룹에서 선택되는 하나 이상의 가스분위기 하에서 수소화된 SiSn층, 수소화된 SiSnO층, 수소화된 SiSnC층, 수소화된 SiSnCO층으로 구성된 그룹에서 선택되는 하나 이상의 층으로 전환되는 단계에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 초기 버퍼층의 두께는 Sn층 또는 산소결함 SnO층을 형성할 때 주입되는 수소(H2) 양에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자의 제조방법
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제 11항에 있어서, 상기 초기 버퍼층의 두께는 1nm 내지 90nm인 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자의 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 후기 버퍼층은 초기 버퍼층이 계속 성장하여 Sn이 존재하지 않는 수소화된 Si 또는 수소화된 SiC으로 조성된 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자의 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 투명전도막은 불소(F)가 도핑된 산화주석(SnO2) 또는 도핑되지 않은 산화주석(SnO2)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자의 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 반도체층은 수소화된 Si 또는 수소화된 SiC로 구성되는 p형 반도체층인 것을 특징으로 하는 광기전력 변환소자의 제조방법
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