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a) 유기실록산·금속산화물 중합체; b) 2-나이트로벤질카바메이트류, 술폰 아마이드류, o-아실옥심류 및 니페디핀류로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 광염기 발생제(photobase generator); 및c) 유기용매를 포함하고,상기 b) 광염기 발생제를 상기 a) 유기실록산·금속산화물 중합체의 고형분 총 중량에 대하여 0
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청구항 1에 있어서, 상기 유기실록산·금속산화물 중합체는 a) 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 모노머, b) 상기 모노머로부터 제조되는 다이머, 및 c) 상기 모노머, 다이머, 또는 이들의 혼합물로부터 제조되는 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 실란 화합물로부터 중합되는 유기실록산과, d) 하기 화학식 3으로 표시되는 금속 알콕사이드 (alkoxide) 또는 그 가수분해물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 모노머, e) 상기 모노머로부터 제조되는 다이머, 및 f) 상기 모노머, 다이머, 또는 이들의 혼합물로부터 제조되는 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 금속산화물의 혼합물로부터 얻어진 중합체인 것인 고굴절막 형성용 조성물:[화학식 1]SiR1pR24-p상기 화학식 1에서,R1은 불소로 치환된 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 20의 알킬, 불소로 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬, 수소, 아릴, 비닐 또는 알릴이고,R2는 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 아세톡시, 또는 클로린으로 이루어진 가수분해성 관능기이며, p는 0 내지 2의 정수이다
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청구항 1에 있어서, 상기 유기용매는 지방족 탄화수소계 용매, 방향족 탄화수소계 용매, 알코올계 용매, 케톤계 용매, 에테르계 용매, 에스테르계 용매 및 아미드계 용매로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것인 고굴절막 형성용 조성물
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청구항 1에 있어서 상기 광염기 발생제는 나이트로벤질사이클로헥실카바메이트, 3,5-디메톡시벤질사이클로헥실카바메이트, 3-나이트로페닐사이클로헥실카바메이트, 벤질사이클로헥실카바메이트, [[(2-나이트로벤질)옥시]카보닐]옥틸아민, [[(2-나이트로벤질)옥시]카보닐]사이클로헥실아민, [[(2-나이트로벤질)옥시]카보닐]피페라진, 비스[[(2-나이트로벤질)옥시]카보닐]헥산-1,6-디아민, [[(2,6-디나이트로벤질)옥시]카보닐]사이클로헥실아민, 비스[[(2,6-디나이트로벤질)옥시]카보닐]헥산-1,6-디아민, N-[[(2-나이트로페닐)-1-메틸메톡시]카보닐]사이클로헥실아민, N-[[(2-나이트로페닐)-1-메틸메톡시]카보닐]-옥타데실아민, bis[[(α-메틸-2-나이트로벤질)옥시]카보닐]헥산, 1,6-디아민, N-[[(2,6,-디나이트로페닐)-1-메틸메톡시]카보닐]사이클로헥실아민, N-[[(2-나이트로페닐)-1-(2’-나이트로페닐)메톡시]카보닐]사이클로헥실아민, N-[[(2,6-디나이트로페닐)-1-(2’6’-디나이트로페닐)메톡시]카보닐]사이클로헥실아민, N-사이클로헥실-4-메틸페닐술폰아마이드, N-사이클로헥실-2-나프틸술폰아마이드, o-페닐아세틸-2-아세토나프소노심 및 N-메틸니페디핀으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것인 고굴절막 형성용 조성물
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청구항 1에 있어서, 상기 고굴절막 형성용 조성물의 고형분의 농도는 2 내지 60 중량%인 것인 고굴절막 형성용 조성물
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청구항 1에 있어서, 상기 고굴절막 형성용 조성물은 실리카 입자, 고굴절 입자, 대전 방지 부여제, 실란 커플링제, 착색제 또는 레벨링제 중 선택되는 1종 이상의 첨가제를 포함하는 고굴절막 형성용 조성물
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a) 기재상에 청구항 1 내지 3, 5, 7 또는 8 중 어느 한 항에 따른 고굴절막 형성용 조성물을 코팅하는 단계; 및b) 상기 조성물을 건조, 노광 및 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고굴절막의 제조방법
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청구항 9에 있어서, 상기 기재는 플리스틱 기판 또는 유리 기판인 것인 고굴절막 제조방법
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청구항 9에 있어서, 상기 건조는 0 내지 100 ℃의 온도에서 수행하는 것인 고굴절막의 제조방법
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청구항 9에 있어서, 상기 열처리는 100 내지 250 ℃의 온도에서 수행하는 것인 고굴절막 제조방법
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청구항 1 내지 3, 5, 7 또는 8 중 어느 한 항에 따른 고굴절막 형성용 조성물로부터 제조된 고굴절막
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14
청구항 13에 있어서, 상기 고굴절막의 두께는 0
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15
청구항 13의 고굴절막을 포함하는 기재
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청구항 15에 있어서, 상기 기재는 플리스틱 기판 또는 유리 기판인 것인 기재
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청구항 13의 고굴절막을 포함하는 부품
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청구항 13의 고굴절막을 포함하는 소자
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