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반사판, 반사판 제조방법 및 이를 이용한 히팅장치

  • 기술번호 : KST2015047550
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 내구성이 있고 열 반사효율이 우수한 반사판, 반사판 제조방법 및 이를 이용한 히팅장치에 관한 것이다. 본 발명은 고온의 열을 반사시키기 위한 베이스 기판을 형성하는 제1 코팅층, 상기 제1 코팅층의 상면에 구비되며, 금속산화물층을 형성하는 제2 코팅층, 그리고 내열성 및 반사율을 증가시키기 위하여 상기 제2 코팅층의 상면에 졸(Sol) 코팅되는 제3 코팅층을 포함하는 반사판, 반사판 제조방법 및 이를 이용한 히팅장치를 제공한다.반사판, 제1 코팅층, 제2 코팅층, 제3 코팅층
Int. CL F24C 15/22 (2006.01)
CPC F24C 15/22(2013.01) F24C 15/22(2013.01) F24C 15/22(2013.01) F24C 15/22(2013.01)
출원번호/일자 1020070021442 (2007.03.05)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-0793809-0000 (2008.01.04)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080114) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.03.05)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이영준 대한민국 서울 동작구
2 백승조 대한민국 경기 광명시 하
3 김형준 대한민국 서울 강서구
4 박병욱 대한민국 경기 광명시 하

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)
2 박영복 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층(역삼동, 삼화빌딩)(특허법인 두성)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2007-0181125-98
2 등록결정서
Decision to grant
2007.12.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0674423-65
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
고온의 열을 반사시키기 위한 베이스 기판을 형성하는 제1 코팅층;상기 제1 코팅층의 상면에 구비되며, 금속산화물층을 형성하는 제2 코팅층; 그리고,내열성 및 반사율을 증가시키기 위하여 상기 제2 코팅층의 상면에 졸(Sol) 코팅되는 제3 코팅층을 포함하는 반사판
2 2
제1항에 있어서,상기 제1 코팅층은 알루미늄으로 구성되며, 상기 제2 코팅층은 산화알루미늄으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반사판
3 3
제2항에 있어서,상기 제3 코팅층은 이산화규소를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사판
4 4
제2항에 있어서,상기 제2 코팅층은 상기 제1 코팅층의 상면이 아노다이징 처리되어 형성되는 것을 특징으로 하는 반사판
5 5
고온의 열을 발생시키는 적외선 히터; 그리고상기 히터에서 발생하는 열을 반사시키기 위한 반사판을 포함하며, 상기 반사판은 베이스 기판을 형성하는 제1 코팅층과, 상기 제1 코팅층의 상면에 구비되며 금속산화물층을 형성하는 제2 코팅층과, 상기 제2 코팅층의 상면에 졸(Sol) 코팅되는 제3 코팅층을 포함하는 히팅장치
6 6
고온의 열을 반사하기 위한 베이스 기판이 되는 제1 코팅층을 형성하는 제1 코팅층 형성단계;상기 제1 코팅층의 상면에 금속산화물층을 형성하는 제2 코팅층 형성단계; 그리고,내열성 및 반사율을 증가시키기 위하여 상기 제2 코팅층의 상면에 졸(Sol) 코팅을 통하여 제3 코팅층을 형성하는 제3 코팅층 형성단계를 포함하는 반사판 제조방법
7 7
제6항에 있어서,상기 제2 코팅층 형성단계는 알루미늄으로 구성되는 제1 코팅층의 상면을 아노다이징 처리하는 것을 특징으로 하는 반사판 제조방법
8 8
제6항 또는 제7항에 있어서,상기 제3 코팅층 형성단계는 물, 이산화규소, 용매를 포함하는 졸(Sol) 형태의 혼합물을 제조하는 혼합물 제조단계와, 상기 혼합물을 상기 제2 코팅층의 상면에 증착하는 증착단계를 포함하는 반사판 제조방법
9 9
제8항에 있어서,상기 제3 코팅층 형성단계는 상기 제2 코팅층의 상면에 증착된 혼합물을 가열하는 가열단계를 더 포함하는 반사판 제조방법
10 10
제8항에 있어서,상기 증착단계에서 상기 혼합물은 상기 제2 코팅층 위에 분무되는 것을 특징으로 하는 반사판 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.