1 |
1
고온의 열을 반사시키기 위한 베이스 기판을 형성하는 제1 코팅층;상기 제1 코팅층의 상면에 구비되며, 금속산화물층을 형성하는 제2 코팅층; 그리고,내열성 및 반사율을 증가시키기 위하여 상기 제2 코팅층의 상면에 졸(Sol) 코팅되는 제3 코팅층을 포함하는 반사판
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 제1 코팅층은 알루미늄으로 구성되며, 상기 제2 코팅층은 산화알루미늄으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반사판
|
3 |
3
제2항에 있어서,상기 제3 코팅층은 이산화규소를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사판
|
4 |
4
제2항에 있어서,상기 제2 코팅층은 상기 제1 코팅층의 상면이 아노다이징 처리되어 형성되는 것을 특징으로 하는 반사판
|
5 |
5
고온의 열을 발생시키는 적외선 히터; 그리고상기 히터에서 발생하는 열을 반사시키기 위한 반사판을 포함하며, 상기 반사판은 베이스 기판을 형성하는 제1 코팅층과, 상기 제1 코팅층의 상면에 구비되며 금속산화물층을 형성하는 제2 코팅층과, 상기 제2 코팅층의 상면에 졸(Sol) 코팅되는 제3 코팅층을 포함하는 히팅장치
|
6 |
6
고온의 열을 반사하기 위한 베이스 기판이 되는 제1 코팅층을 형성하는 제1 코팅층 형성단계;상기 제1 코팅층의 상면에 금속산화물층을 형성하는 제2 코팅층 형성단계; 그리고,내열성 및 반사율을 증가시키기 위하여 상기 제2 코팅층의 상면에 졸(Sol) 코팅을 통하여 제3 코팅층을 형성하는 제3 코팅층 형성단계를 포함하는 반사판 제조방법
|
7 |
7
제6항에 있어서,상기 제2 코팅층 형성단계는 알루미늄으로 구성되는 제1 코팅층의 상면을 아노다이징 처리하는 것을 특징으로 하는 반사판 제조방법
|
8 |
8
제6항 또는 제7항에 있어서,상기 제3 코팅층 형성단계는 물, 이산화규소, 용매를 포함하는 졸(Sol) 형태의 혼합물을 제조하는 혼합물 제조단계와, 상기 혼합물을 상기 제2 코팅층의 상면에 증착하는 증착단계를 포함하는 반사판 제조방법
|
9 |
9
제8항에 있어서,상기 제3 코팅층 형성단계는 상기 제2 코팅층의 상면에 증착된 혼합물을 가열하는 가열단계를 더 포함하는 반사판 제조방법
|
10 |
10
제8항에 있어서,상기 증착단계에서 상기 혼합물은 상기 제2 코팅층 위에 분무되는 것을 특징으로 하는 반사판 제조방법
|