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비정질 실리콘을 가열하여 상기 비정질 실리콘을 결정화시키는 가열부; 상기 비정질 실리콘의 결정화 진행 중에 상기 비정질 실리콘 쪽으로 교번 자기장을 공급하는 자기장 공급부; 및상기 비정질 실리콘과 상기 자기장 공급부 사이에 구비되며, 베이스 플레이트 및 상기 베이스 플레이트 상에 형성되며 상기 자기장 공급부에서의 교번 자기장이 집속되는 자성체를 포함하는 적어도 하나의 자성체 마스크를 포함하며,상기 자성체는 상기 비정질 실리콘 전면에 대응되도록 상기 베이스 플레이트 상에 형성되거나, 상기 비정질 실리콘에서 결정화될 영역에만 대응되도록 형성되어, 상기 자기장 공급부에서의 교번 자기장이 상기 자성체를 통과하며 유도 자기장을 생성하여, 상기 비정질 실리콘 중 상기 자성체에 대응되는 영역에만 상기 유도 자기장이 공급되는 것을 특징으로 하는 교번 자기장 결정화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 유도 자기장은 상기 교번 자기장에 비하여 자기장의 세기가 균일하고 강한 것을 특징으로 하는 교번 자기장 결정화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 자성체는 상자성, 강자성, 페리자성 중 어느 하나의 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 교번 자기장 결정화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 베이스 플레이트는 석영을 포함하는 것을 특징으로 하는 교번 자기장 결정화 장치
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기판 상에 폴리 실리콘 액티브 패턴을 형성하는 단계와;상기 폴리 실리콘 액티브 패턴 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계와;상기 게이트 절연막 위에 게이트 전극을 형성하는 단계와;상기 게이트 전극 위에 층간 절연막을 형성하는 단계와;상기 층간 절연막 및 게이트 절연막을 관통하여 상기 폴리 실리콘 액티브패턴의 소스 영역과 접촉되는 소스전극과, 상기 층간 절연막 및 게이트 절연막을 관통하여 상기 폴리 실리콘 액티브층의 드레인 영역과 접촉되는 드레인 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 폴리 실리콘 액티브 패턴을 형성하는 단계는 상기 기판 상에 비정질 실리콘막을 형성하는 단계와;상기 제 1 항, 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 의한 교번 자기장 결정화 장치를 이용하여 상기 비정질 실리콘을 결정화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 자성체는 상기 실리콘막에서 상기 폴리 실리콘형 액티브 패턴으로 형성될 영역에만 선택적으로 유도 자기장을 공급하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 유도 자기장은 상기 교번 자기장에 비하여 자기장의 세기가 균일하고 강한 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 자성체는 상자성, 강자성, 페리자성 중 어느 하나의 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 드레인 전극을 노출시키는 접촉홀을 갖는 보호막을 형성하는 단계와;상기 접촉홀을 통해 상기 드레인 전극과 접촉되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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