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3 내지 10 중량부의 산화 규소(SiO2), 17 내지 35 중량부의 붕소 옥사이드(B2O3), 25 내지 48 중량부의 산화 아연(ZnO) 및 10 내지 20 중량부의 산화 바륨(BaO)을 포함하며, 인산(P2O5)을 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물
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제 1항에 있어서,상기 인산(P2O5)은 0 초과 10 중량부 이하로 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물
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제 1항에 있어서,상기 조성물로 형성된 유전체는 543 내지 605℃의 유리연화온도(Ts)를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물
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5 |
5
제 1항에 있어서,상기 조성물로 형성된 유전체는 520 내지 556℃의 유리전이온도(Tg)를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물
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6
제 1항에 있어서,상기 조성물로 형성된 유전체는 7 내지 9의 유전율(C2/N㎡)을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물
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7
제 1항에 있어서,상기 조성물로 형성된 유전체는 57 내지 73%의 투과율을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물
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8 |
8
제 1항에 있어서,상기 조성물로 형성된 유전체는 투명한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물
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전면 기판;상기 전면 기판과 대향하는 후면 기판; 및상기 전면 기판 상에 형성된 유전체를 포함하고,상기 유전체는 3 내지 10 중량부의 산화 규소(SiO2), 17 내지 35 중량부의 붕소 옥사이드(B2O3), 25 내지 48 중량부의 산화 아연(ZnO) 및 10 내지 20 중량부의 산화 바륨(BaO)을 포함하며,인산(P2O5)을 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널
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제 9항에 있어서,상기 인산(P2O5)은 0 초과 10 중량부 이하로 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널
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제 9항에 있어서,상기 유전체는 543 내지 605℃의 유리연화온도(Ts)를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널
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13
제 9항에 있어서,상기 유전체는 520 내지 556℃의 유리전이온도(Tg)를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널
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14
제 9항에 있어서,상기 유전체는 7 내지 9의 유전율(C2/N㎡)을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널
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제 9항에 있어서,상기 유전체는 57 내지 73%의 투과율을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널
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