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음이온성 계면활성제 및 스타일링 폴리머를 포함하는 스타일링 샴푸 조성물에 있어서,상기 스타일링 폴리머는 친수성 모노머와 소수성 모노머의 공중합체이며,상기 친수성 모노머는 아크릴산, 메타아크릴산, N,N-디메칠아크릴아미드, 디메칠 아미노에틸메타아크릴레이트, 사급화된 디메칠아미노에틸메타아크릴레이트, 메타아크릴아미드, N-t-부틸아크릴아미드, 말레인산, 크로토산, 아크랄아미드, 아크릴레이트 알코올, 하이드록시에틸메타아크릴레이트, 디알릴디메틸 암모니움 클로라이드, 비닐 에테르, 비닐 피리딘, 비닐 이미다졸, 비닐 피롤리돈, 스타이렌 설포네이트 및 비닐알콜로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상이며,상기 소수성 모노머는 n-부틸 메타아크릴레이트, 아이소부틸메타아크릴레이트, t-부틸아크렐리에트, t-부틸 메타아크릴레이트, 2-에틸헥실 메타아크릴레이트, 메틸 메타아크릴레이트, 스타이렌, 비닐 아세테이트, 비닐클로라이드, 비닐프로피오네이트, 알파 메틸스타이렌, t-부틸스타이렌, 부타디엔, 사이클로헥사디엔, 에텔렌, 프로필렌, 비닐톨루엔 및 폴리 실록산으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상이며,하기 화학식 1로 표시되는 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 스타일링 샴푸 조성물: 003c#화학식 1003e#상기 화학식 1에서, R은 탄소수가 12 내지 22인 직쇄상 알킬기, 분지상 알킬기, 알케닐기 및 알킬아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나이고, n은 0 내지 10의 정수이며, X는 할로겐, 설페이트 및 아세테이트로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나임
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제1항에 있어서, 상기 조성물은 실리콘 엘라스토머를 포함하고,상기 실리콘 엘라스토머는 실리콘 쿼터늄-16/글라이시독시 디메티콘 크로스 폴리머, 디메티콘/비닐디메티콘 크로스 폴리머, 디비닐디메티콘/디메티콘 크로스 폴리머, C30-45 알킬 세테아릴 디메티콘 크로스 폴리머, 디메티콘 크로스 폴리머, 디메티콘/피이지-10 크로스 폴리머, 디메티콘/피이지-10/15 크로스 폴리머, 디메티콘/폴리글리세린-3 크로스 폴리머, 피이지-10 디메티콘 크로스 폴리머, 피이지-12 디메티콘 크로스 폴리머 및 피이지-10 디메티콘/비닐 디메티콘 크로스 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 스타일링 샴푸 조성물
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