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후면 접촉층 상에 형성된 n 형 반도체층의 표면에 입사광의 반사를 최소화시키기 위한 반사방지층을 형성하는 단계;상기 반사방지층 및 상기 후면 접촉층에 각각 접촉하는 전극을 형성하는 단계; 및 열처리하는 단계를 포함하고, 상기 반사방지층이 실리콘을 산화하여 형성되는 실리콘 산화물을 포함하고, 상기 열처리하는 단계에서, 상기 후면 접촉층의 재질이 상기 n 형 반도체층의 일부에 확산하여 p형 반도체층을 형성하는 벌크형 실리콘 태양 전지의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 n 형 반도체층은 초크랄스키(Czochralski, Cz) 실리콘 단결정 성장법으로 형성되고 표면 요철 구조를 가지는 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 벌크형 실리콘 태양 전지의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 후면 접촉층의 재질은 알루미늄 (Al) 또는 붕소 (B) 인 것을 특징으로 하는 벌크형 실리콘 태양 전지의 제조 방법
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후면 접촉층 상에 형성된 n 형 반도체층의 표면에 입사광의 반사를 최소화시키기 위한 반사방지층을 형성하는 단계;상기 반사방지층 및 상기 후면 접촉층에 각각 접촉하는 전극을 형성하는 단계; 및 열처리하는 단계를 포함하고, 상기 열처리하는 단계에서, 상기 후면 접촉층의 재질이 상기 n 형 반도체층의 일부에 확산하여 p형 반도체층을 형성하고, 상기 반사방지층에 접촉하는 상기 전극이 상기 반사방지층을 뚫고 들어가 상기 n형 반도체층과 전기적인 접촉을 형성하는 벌크형 실리콘 태양 전지의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 전극의 재질은, 은 (Ag) 인 것을 특징으로 하는 벌크형 실리콘 태양 전지의 제조 방법
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후면 접촉층과 상기 후면 접촉층 상에 순차로 형성되며 실리콘을 포함하는 p형 반도체층 및 n형 반도체층;상기 n 형 반도체층의 표면에 형성되어 입사광의 반사를 최소화시키며 실리콘의 산화에 의하여 형성되는 실리콘 산화물을 포함하는 반사방지층;상기 n 형 반도체층의 일부에 접촉하는 전극; 및상기 후면 접촉층의 일부에 접촉하는 전극을 포함하는 벌크형 실리콘 태양 전지
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제 6 항에 있어서, 상기 n 형 반도체층은 초크랄스키(Czochralski, Cz) 실리콘 단결정 성장법으로 형성되고 표면 요철 구조를 가지는 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 벌크형 실리콘 태양 전지
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8
제 6 항에 있어서, 상기 후면 접촉층의 재질은 알루미늄 (Al) 또는 붕소 (B) 인 것을 특징으로 하는 벌크형 실리콘 태양 전지
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제 6 항에 있어서, 상기 전극의 재질은, 은 (Ag) 인 것을 특징으로 하는 벌크형 실리콘 태양 전지
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