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마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법

  • 기술번호 : KST2015049325
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요약 본 발명은 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법에 관한 것으로, 상기 마스크를 세정함에 있어서, 마스크를 세정 공정한 후, 간접 샤워 린스를 진행하여 종래의 세정 장치 및 세정 방법으로 세정하는 것에 비해 마스크의 세정 특성을 더욱 우수하게 할 수 있는 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.마스크, 유기물, 세정, 린스, 간접
Int. CL H05B 33/10 (2006.01) C23C 14/04 (2006.01) H01L 51/56 (2006.01)
CPC G03F 7/70925(2013.01) G03F 7/70925(2013.01) G03F 7/70925(2013.01) G03F 7/70925(2013.01) G03F 7/70925(2013.01)
출원번호/일자 1020070088854 (2007.09.03)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1386317-0000 (2014.04.10)
공개번호/일자 10-2009-0023807 (2009.03.06) 문서열기
공고번호/일자 (20140418) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.09.03)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송창현 대한민국 경북 구미시
2 배성일 대한민국 경상북도 영주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서교준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.09.03 수리 (Accepted) 1-1-2007-0639141-83
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
6 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2012.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2012-0706442-33
7 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.09.03 수리 (Accepted) 1-1-2012-0706883-54
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.06.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.07.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0055964-50
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.09.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0610580-33
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.11.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-1000259-83
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.11.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1000260-29
13 등록결정서
Decision to grant
2014.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0094352-15
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
그 내부에 세정액이 담긴 하나 이상의 세정 배스;린스 가이드 및 린스 분사기를 구비한 린스 샤워 배스;그 내부에 장입되는 대상물을 건조시키는 건조기; 및상기 세정 배스, 린스 샤워 배스 및 건조기 사이에서 마스크를 이송시키는 이송 장치를 포함하고,상기 린스 샤워 배스에는 마스크 상단에 상기 린스 가이드를 위치시키고,상기 린스 가이드와 대응되도록 린스 분사기를 배치한 다음, 상기 린스 분사기에서 상기 린스 가이드로 린스액을 분사하며,상기 린스 가이드에서 흐르는 린스 액을 통해 상기 마스크를 샤워 린스 시키는 것을 특징으로 하는 마스크 세정장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 세정 배스 및 상기 린스 샤워 배스 사이에 배치되며, 그 내부에 린스액이 담긴 하나 이상의 린스 디핑 배스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 린스 샤워 배스에 구비되며 상기 마스크에 잔류하는 린스액을 제거하는 에어 나이프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치
4 4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 린스 가이드는 평탄한 형상 또는 주름진 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치
5 5
마스크를 세정액에 디핑한 후 세정 공정을 진행하는 단계;상기 마스크를 린스 샤워 배스로 이송하여 간접 샤워 린스하는 단계; 및상기 간접 샤워 린스 공정 후, 상기 마스크를 건조기로 이송하여 건조하는 단계를 포함하고,상기 마스크를 린스 샤워 배스로 이송하여 간접 샤워 린스하는 단계:는상기 마스크를 린스 샤워 배스로 이송하는 단계;상기 린스 샤워 배스에 이송된 마스크의 상단에 린스 가이드를 위치시키는 단계;상기 린스 가이드에 린스액이 분사되도록 린스 분사기를 위치시키는 단계; 및상기 린스 분사기에서 상기 린스 가이드로 린스액을 분사시켜 상기 린스 가이드에서 상기 린스액이 흘러내리도록 하고, 상기 린스 가이드를 통해 상기 마스크의 표면을 흘러내리도록 하여 상기 마스크의 표면이 린스되도록 하는 간접 린스 샤워를 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 세정 공정을 진행한 후, 상기 간접 샤워 린스를 하는 공정 이전에,상기 마스크를 린스 디핑 배스로 이송하여 디핑 린스하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 마스크를 린스 디핑 배스로 이송하여 디핑 린스하는 단계:는상기 마스크를 세정 공정한 후, 상기 마스크를 린스액이 담긴 린스 디핑 배스로 이송하여 린스액에 디핑하는 단계; 및상기 린스 디핑 배스에 구비된 초음파 발생기에서 발생된 초음파로 상기 마스크를 린스하여 디핑 린스 공정을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법
8 8
제 5 항에 있어서,상기 마스크를 세정액에 디핑한 후 세정 공정을 진행하는 단계:는상기 마스크를 세정액이 담긴 세정 배스로 이송하여 상기 세정액에 디핑하는 단계; 및상기 세정 배스에 구비된 초음파 발생기에서 발생된 초음파로 상기 마스크를 세정하여 세정 공정을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법
9 9
삭제
10 10
제 5 항에 있어서,상기 간접 샤워 린스 공정 후, 상기 마스크를 건조기로 이송하여 건조하는 단계:는상기 간접 샤워 린스 공정이 끝난 마스크를 상기 건조기로 이송시키기 위해 상기 린스 샤워 배스로부터 마스크를 꺼냄과 동시에 상기 린스 샤워 배스에 구비된 에어 나이프로 상기 마스크의 표면에 잔류하는 린스액을 제거하는 린스액 제거 공정을 진행하는 단계;상기 린스액 제거 공정이 완료된 마스크를 이송하여 건조기에 장입하는 단계; 및상기 건조기에 장입된 마스크를 건조시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.