맞춤기술찾기

이전대상기술

표시소자 제조방법

  • 기술번호 : KST2015049388
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 표시소자 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 표시소자 제조방법은 다수의 결함이 표면에 존재하는 기판상에 제1 도전층을 형성하는 단계; 상기 제1 도전층을 선택적으로 패터닝하여 게이트전극과 얼라인키를 형성하는 단계; 상기 게이트전극과 얼라인키를 포함한 기판상에 게이트절연막과 반도체층을 형성하는 단계; 상기 반도체층을 포함한 기판상에 제2 도전층을 형성하는 단계; 및 포토마스크 얼라인공정을 통해 상기 제2 도전층을 선택적으로 패터닝하여 소스/드레인전극과 상기 얼라인키와 중첩되는 더미패턴을 동시에 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 기판, 얼라인키, 얼라인마크, 포토마스크, 더미패턴
Int. CL G02F 1/13 (2006.01) G02F 1/136 (2006.01)
CPC G02F 1/1303(2013.01) G02F 1/1303(2013.01) G02F 1/1303(2013.01) G02F 1/1303(2013.01)
출원번호/일자 1020070088580 (2007.08.31)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1390767-0000 (2014.04.24)
공개번호/일자 10-2009-0022903 (2009.03.04) 문서열기
공고번호/일자 (20140430) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.08.08)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 안재준 대한민국 경상북도 구미시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2007-0637645-35
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.08.08 수리 (Accepted) 1-1-2012-0635108-55
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.08.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.08.26 수리 (Accepted) 9-1-2013-0071304-12
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.11.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0778762-30
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.01.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0033100-17
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.01.13 수리 (Accepted) 1-1-2014-0033086-54
12 등록결정서
Decision to grant
2014.04.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0264324-24
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
표면에 다수의 스크래치 또는 이물로 이루어진 스크래치성 결함(D)이 존재하는 기판상에 제1 도전층을 형성하는 단계;상기 제1 도전층을 선택적으로 패터닝하여 게이트전극과 얼라인키를 형성하는 단계;상기 게이트전극과 얼라인키를 포함한 기판상에 게이트절연막과 반도체층을 형성하는 단계;상기 반도체층을 포함한 기판상에 투과율이 낮은 제2 도전층을 형성하여 얼라인 공정을 위한 레이저 조사시에 인식되지 않는 상기 다수의 스크래치성 결함(D)을 가려 줌은 물론, 상기 레이저 조사시에 식별이 가능한 상기 게이트전극 및 얼라이키를 덮어 주는 단계; 및상기 레이저를 이용한 포토마스크 얼라인 공정을 통해 투과율이 낮은 상기 제2 도전층을 선택적으로 패터닝하여 소스/드레인전극과 함께 상기 레이저에 의해 식별이 가능한 상기 얼라인키와 중첩되는 더미패턴을 동시에 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 표시소자 제조방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 얼라인키는 상기 기판의 최외곽부의 모서리 지점에 형성되는 것을 특징으로 하는 표시소자 제조방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 얼라인키는 X축 방향의 복수개의 얼라인마크와 Y축 방향의 복수개의 얼라인마크들로 구성된 것을 특징으로 하는 표시소자 제조방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 레이저를 이용한 포토마스크 얼라인공정은, 상기 반도체층을 포함한 기판상에 형성된 제2 도전층상에 포토레지스트막을 형성하는 단계; 상기 얼라인키를 기준으로 포토마스크를 위치시킨 상태에서 레이저 조사에 의한 노광공정 및 현상공정을 진행하는 단계; 상기 노광 및 현상공정을 진행한후 상기 포토레지스트막을 선택적으로 패터닝하여 포토레지스트막패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트막패턴을 마스크로 상기 제2 도전층을 선택적으로 패터닝하여 소스/드레인전극과 함께 더미패턴을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 표시소자 제조방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 기판은 스테인레스 스틸(stainless steel), 기타 금속재질 또는 투명성 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시소자 제조방법
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
제 1항에 있어서, 상기 제조방법은, 소스/드레인전극 및 더미패턴이 형성된 기판상에 보호막을 형성하는 단계; 상기 보호막을 선택적으로 제거하여 콘택홀을 형성하는 단계; 상기 보호막상에 상기 콘택홀을 통해 드레인전극과 접속되는 화소전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시소자 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.