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하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 신나메이트기가 도입된 폴리이미드:[화학식 1]상기 화학식 1에 있어서, A는 4가의 유기기로 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되고,D는 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 21의 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기이며,p는 1 내지 5의 정수이며,B는 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 3가의 유기기이고,여기서,E는 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 21의 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기이고,r은 1 내지 3이며,F는 2가의 유기기로 -CH2-, -(CH2)m-O-(여기서, m은 1 내지 15) 및 -(CH2)kㅡOCO-(여기서, k는 1 내지 20)로 이루어진 군으로부터 선택되고,상기 폴리이미드의 수평균 분자량은 30,000 내지 100,000이다
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청구항 1에 있어서, 상기 폴리이미드는 하기 화학식 2로 표시되는 디안하이드라이드 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 디아민 화합물로부터 제조되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드:[화학식 2]상기 화학식 2에서, X1은 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되고,[화학식 3]상기 화학식 3에서, X2는 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되며,여기서, E, F, D, r 및 p는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다
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청구항 2에 있어서, 상기 화학식 2의 디안하이드라이드 화합물은 PMDA(피로멜리틱 디안하이드라이드), CBDA(시클로부탄-1,2,3,4-테트라카복실릭 디안하이드라이드), BPDA(3,3'',4,4''-바이페닐테트라-카복실릭 디안하이드라이드) 및 ODPA(4,4''-옥시디프탈릭 안하이드라이드) 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드
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1) 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 따른 신나메이트기가 도입된 폴리이미드를 용매에 용해시킨 후 기판 표면 위에 도포하여 도막을 형성하는 단계,2) 상기 도막에 포함된 용매를 건조시키는 단계, 및3) 상기 건조된 도막면에 편광 자외선을 조사하여 배향 처리하는 단계를 포함하며,상기 신나메이트기가 도입된 폴리이미드의 고형분 농도는 0
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5
청구항 4에 있어서, 상기 1) 단계의 용매는 시클로펜타논, 시클로헥사논, N-메틸피롤리돈, DMF(Dimethylformamide), THF(Tetrahydrofuran), CCl4 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 액정배향막의 제조방법
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청구항 5에 있어서, 상기 용매에 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 에틸렌 글리콜 모노이소프로필 에테르 또는 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르를 첨가하는 것을 특징으로 하는 액정배향막의 제조방법
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삭제
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청구항 4에 있어서, 상기 2) 단계에서 건조는 35 내지 80 ℃에서 1 시간 이내에 수행하는 것을 특징으로 하는 액정배향막의 제조방법
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청구항 1 내지 3 중 어느 하나의 항에 따른 폴리이미드를 포함하는 액정배향막
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청구항 9에 있어서, 액정배향막의 막두께는 0
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청구항 9의 액정배향막을 포함하는 액정 디스플레이
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