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CMP용 산화세륨 슬러리의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015050347
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요약 본 발명은 a)원료인 탄산세륨을 소성하여 산화세륨을 제조하는 단계; b)상기 산화세륨을 1차로 분쇄하는 단계; c)상기 1차 분쇄된 산화세륨을 용매 및 분산제와 함께 혼합하여 슬러리를 제조하는 단계; 및 d)상기 혼합된 산화세륨 슬러리를, 20 ~ 120 rpm 범위의 밀링속도로, 직경 0.5 mm ~ 2 mm범위의 비드(bead)를 사용하여 밀링(milling)하는 단계를 포함하여 산화세륨 슬러리를 제조하는 방법, 상기 방법으로 제조된 산화세륨 슬러리 및 상기 슬러리를 사용하는 얕은 트렌치소자 분리방법을 제공한다. 본 발명은 산화세륨 슬러리를 제조하는 방법에 있어서, 밀링시 밀링속도와 비드의 크기를 조절하여 산화세륨 입자에 낮은 에너지를 가함으로써, 웨이퍼 연마시 마이크로 스크래치의 원인이 되는 거대입자를 감소시킬 수 있으며, 슬러리 내의 산화세륨 미립자의 입도를 균일하게 하고 분산안정성을 향상시켜 연마재의 응집을 최소화할 수 있다. 따라서, 초미세 패턴을 요하는 반도체 소자의 제조에 적용되는 연마공정에서 연마성능을 향상시킬 수 있어 반도체 제조 공정의 신뢰도 및 생산성을 향상시킬 수 있다. CMP, 산화세륨, 거대입자, 마이크로 스크래치
Int. CL C09K 3/14 (2006.01)
CPC C09K 3/1454(2013.01) C09K 3/1454(2013.01) C09K 3/1454(2013.01) C09K 3/1454(2013.01) C09K 3/1454(2013.01) C09K 3/1454(2013.01)
출원번호/일자 1020070126306 (2007.12.06)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1091532-0000 (2011.12.02)
공개번호/일자 10-2009-0059443 (2009.06.11) 문서열기
공고번호/일자 (20111213) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.10)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김장열 대한민국 대전 대덕구
2 조승범 대한민국 대전 유성구
3 노준석 대한민국 대전 유성구
4 김종필 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍원진 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층 (역삼동, 신성빌딩)(특허법인천문)
2 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엠.씨.케이 (주) 충청북도 청주시 청원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.12.06 수리 (Accepted) 1-1-2007-0879585-03
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2009.09.10 수리 (Accepted) 1-1-2009-0556343-09
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.03.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2011.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-0211377-52
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.04.15 수리 (Accepted) 9-1-2011-0032606-78
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0211977-83
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.06.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0452311-91
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0452312-36
9 등록결정서
Decision to grant
2011.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0695249-81
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
15 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2020.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2020-0055466-13
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a)원료인 탄산세륨을 소성하여 산화세륨을 제조하는 단계; b)상기 산화세륨을 1차로 분쇄하는 단계; c)상기 1차 분쇄된 산화세륨을 용매 및 분산제와 함께 혼합하여 슬러리를 제조하는 단계; 및 d)상기 혼합된 산화세륨 슬러리를, 20 ~ 120 rpm 범위의 밀링속도로, 직경 0
2 2
제 1항에 있어서, 상기 밀링은 50 ~ 100rpm 범위의 밀링속도로, 직경 0
3 3
제 1항에 있어서, 상기 1차 분쇄 후 산화세륨 입자의 평균입경은 500 ~ 1
4 4
제 1항에 있어서, 상기 밀링 후 산화세륨 슬러리 중의 산화세륨 입자의 평균입경은 50 nm ~ 1 ㎛ 범위인 것이 특징인 제조방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 1차 분쇄는 제트밀(Jet Mill) 방법에 의하는 것이 특징인 제조방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 밀링된 산화세륨 슬러리에 초음파를 가하여(sonication) 분산시키는 단계를 더 포함하는 것이 특징인 제조방법
7 7
제 1항에 있어서, 상기 밀링된 산화세륨 슬러리를 여과(filtration)하여 대립자를 제거하는 단계를 더 포함하는 것이 특징인 제조방법
8 8
제 1항에 있어서, 상기 분산제는 폴리비닐알코올, 에틸렌글리콜, 글리세린, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리비닐 피놀리돈, 폴리 아크릴산, 폴리 아크릴산 암모늄염 및 폴리아크릴 말레익산으로 이루어진 군에서 선택된 것이 특징인 제조방법
9 9
제 1항에 있어서, 상기 분산제의 함량은 산화세륨 100 중량부 대비 0
10 10
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11 11
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.