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저중합체, 이의 제조방법, 이를 포함하는 광학 수지조성물, 및 이로부터 제조된 디스플레이용 광학 시이트

  • 기술번호 : KST2015050991
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다음 화학식 1로 표시되는 저중합체, 이의 제조방법, 이를 포함하는 광학 수지 조성물, 및 이로부터 제조된 광학 시이트를 제공한다. 화학식 1본 발명에 따른 저중합체는 자외선에 대한 안정성을 부여할 수 있는 작용기와 대전방지 역할을 하는 작용기를 포함하고 있어 각각 자외선에 의하여 고분자 수지가 황색으로 변하는 것을 막고, 정전기에 의한 불량을 최소화할 수 있으며, 고분자 그물구조 속에 포함될 수 있도록 아크릴 작용기를 가지고 있어, 이로부터 제조된 광학 시이트가 시간이 지남에 따라 오염되는 것을 억제시킬 수 있다. 대전방지*저중합체*광학시트*조성물*황변방지
Int. CL G02F 1/1335 (2006.01) C08F 220/54 (2006.01) C08F 220/00 (2006.01) C08J 5/18 (2006.01)
CPC C08F 220/52(2013.01) C08F 220/52(2013.01) C08F 220/52(2013.01) C08F 220/52(2013.01) C08F 220/52(2013.01) C08F 220/52(2013.01) C08F 220/52(2013.01) C08F 220/52(2013.01)
출원번호/일자 1020080003731 (2008.01.14)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-1330784-0000 (2013.11.12)
공개번호/일자 10-2009-0077994 (2009.07.17) 문서열기
공고번호/일자 (20131118) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.09.07)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 엄준필 대한민국 서울특별시 금천구
2 최관민 대한민국 경기 안산시 상록구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김희곤 대한민국 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2 김인한 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)
3 박용순 대한민국 서울특별시 송파구 법원로*길 **, **층 D-****호(문정동)(주심국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 중구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.01.14 수리 (Accepted) 1-1-2008-0026794-00
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2009.11.13 수리 (Accepted) 1-1-2009-0697298-59
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.02.24 수리 (Accepted) 4-1-2010-5032116-06
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2010.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2010-0580191-87
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.04.26 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.05.23 수리 (Accepted) 9-1-2012-0040903-01
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0306201-12
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.07.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0594505-72
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0594506-17
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.12.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0768019-11
11 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2013.01.17 수리 (Accepted) 7-1-2013-0001826-01
12 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.02.18 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2013-0006068-60
13 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.04.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0233619-37
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.06.03 수리 (Accepted) 1-1-2013-0493030-30
15 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.06.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0493022-75
16 등록결정서
Decision to grant
2013.10.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0728825-13
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음 화학식 1로 표시되는 저중합체
2 2
제 1항에 있어서, 상기 저중합체의 중량평균분자량은 800 내지 4500인 것을 특징으로 하는 저중합체
3 3
아민계 화합물과 산을 중화시켜 4차 암모늄염을 합성하는 단계; 및다관능성 이소시아네이트 화합물에 상기 4차 암모늄염, 아크릴계 화합물 및 자외선 안정제를 첨가하고 반응시키는 단계를 포함하는 다음 화학식 1로 표시되는 저중합체의 제조방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 아민계 화합물은 알킬 사슬 말단에 적어도 1개 이상의 히드록시기(-OH)를 함유하는 탄소수 1 내지 8의 1차, 2차 및 3차 아민; 모노히드록시 일차 아민에 탄소수 1∼8개의 알킬 사슬이 치환된 2차 및 3차 아민; 탄소수 1∼9의 알킬기가 치환된 2차 및 3차 아민; 및 탄소수 1∼8개의 알콕시(Alkoxy)기가 치환된 아민에서 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 저중합체의 제조방법
5 5
제3항에 있어서, 상기 산 성분은 할로겐산 계열, 황산 계열, 인산 계열, 초산 계열, 염화초산 계열, 파라톨루엔 설폰산 계열로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 것을 특징으로 하는 저중합체의 제조방법
6 6
제 5항에 있어서, 상기 산 성분은 염산(chloric acid), 황산(sulfuric acid), 인산(phosphoric acid), 초산(Acetic acid), 모노염화초산(monochloro acetic acid), 삼염화초산(trichloro acetic acid), 삼불화초산(trifluoro acetic acid), 불산(fluoric acid), 브롬산(bromic acid), 파라톨루엔 설폰산(para-toluene sulfonic acid), 디메틸설페이트(dimethyl sulfate), 디에틸설페이트(diethyl sulfate)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 것을 특징으로 하는 저중합체의 제조방법
7 7
제 3항에 있어서, 상기 아크릴계 화합물은 히드록시에틸 아크릴레이트(hydroxy ethyl acrylate), 히드록시에틸 메타아크릴레이트(hydroxyethyl methacrylate), 히드록시프로필 아크릴레이트((hydroxypropyl acrylate), 히드록시프로필 메타아크릴레이트((hydroxypropyl methacrylate), 히드록시 알킬 (메타)아크릴레이트 (hydroxy alkyl (meth)acrylate), 및 이들의 에스테르 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 저중합체의 제조방법
8 8
제 1항 또는 제2항 중 어느 한 항에 따른 저중합체 100중량부에 대하여 부틸 아크릴레이트(butyl acrylate), 히드록시 에틸 아크릴레이트(hydroxyethyl acrylate), 히드록시프로필 아크릴레이트 (hydroxypropyl acrylate) 및 이에 상응하는 아크릴계 단량체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상 100∼300중량부 및 광개시제 0
9 9
삭제
10 10
제 8항에 있어서, 상기 광개시제는 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 및 비이미다졸계 화합물에서 선택되는 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 광학 수지 조성물
11 11
제 8항에 따른 광학 수지 조성물로부터 얻어진 디스플레이용 광학 시이트
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.