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pH가 7 초과 내지 10 이하로서 도포되는 부위에 염기성 환경을 형성하며, 모발 구성 아미노산, 음이온성 폴리머 및 음이온성 계면활성제를 함유하는 1제; 및
양이온성 폴리머 및 양이온성 계면활성제를 함유하는 2제
를 포함하는 이제식 모발 컨디셔닝 조성물
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제1항에 있어서,
상기 모발 구성 아미노산은 시스틴, 아스파라긴산, 리신, 알라닌, 알기닌, 글루타민산, 트레오닌, 세린, 트립토판, 메티오닌, 타이로신, 히스티딘, 페닐알라닌, 발린, 글리신, 이소류신, 류신 및 프롤린으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 이제식 모발 컨디셔닝 조성물
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제1항에 있어서,
상기 음이온성 폴리머는 아크릴아미드, 폴리메타크릴릭애씨드, 카르복시비닐폴리머, 폴리아크릴릭애씨드, 설포네이트폴리머, 카르복시메틸셀룰로오스, 아크릴레이트코폴리머, 카르복시구아, 아크릴레이트실리콘코폴리머, 카보머, 알긴익액씨드, 프로필렌글리콜알기네이트, 카라기난검, 잔탄검, 셀룰로오스검, 카라야검, 아카시아검, 아라빅검, PVM/MA 코폴리머, 폴리우레탄/아크릴레이트 코폴리머, VA/크로토네이트 코폴리머로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 이제식 모발 컨디셔닝 조성물
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제1항에 있어서,
상기 음이온성 계면활성제는 사코시네이트, 글루타메이트, 소듐알킬 설페이트, 암모늄 알킬 설페이트, 소듐 알킬에테르 설페이트, 암모늄 알킬에테르 설페이트, 암모늄 라우레트 설페이트, 소듐 라우레트 설페이트, 이세티오네이트, 글리세릴에테르 설포네이트, 설포숙시네이트, 모노알카놀 아민 포스페이트로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 이제식 모발 컨디셔닝 조성물
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삭제
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제1항에 있어서,
상기 양이온성 폴리머는 구아 히드록시프로필트리모늄 클로라이드, 하이드록시프로필 구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드 등의 양이온성 구아, 셀룰로스(폴리쿼터늄-10), 폴리쿼터늄, 디메틸디알릴암모늄클로라이드 폴리머, 아크릴아미드-디메틸디알릴암모늄 클로라이드 코폴리머, 폴리비닐피롤리돈(PVP)-디메틸아미노에틸메타크릴레이트 코폴리머, 아크릴산-디메틸디알릴암모늄 클로라이드 코폴리머, 아크릴아미드-디메틸아미노 에틸메타크릴레이트 메틸 클로라이드 코폴리머, 트리메틸아미노에틸메타크릴레이트 폴리머, 실리콘쿼터늄계 폴리머로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 이제식 모발 컨디셔닝 조성물
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제1항에 있어서,
상기 양이온성 계면활성제는 염화 라우릴 트리메틸 암모늄, 염화 세틸 트리메틸 암모늄, 염화 스테아릴 트리메틸 암모늄 및 염화 베헤닐 트리메틸암모늄으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 염화 알킬 트리메틸 암모늄; 및
염화 디라우릴 디메틸 암모늄, 염화 디세틸 디메틸 암모늄, 염화 디스테아릴 디메틸 암모늄 및 염화 디베헤닐 디메틸 암모늄으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 염화 디아릴 디메틸 암모늄
으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 이제식 모발 컨디셔닝 조성물
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