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단분산 가교 고분자 입자 제조용 조성물 및 이를 이용한단분산 가교 고분자 입자 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015051114
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 단분산 가교 고분자 입자 제조용 조성물 및 이를 이용한 단분산 가교 고분자 입자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르는 단분산 가교 고분자 입자 제조용 조성물은, 라디칼 중합이 가능한 비닐계 단량체; 상기 비닐계 단량체 100 중량부 대비 200 내지 2,000 중량부의 용매; 상기 용매 100 중량부 대비 0.1 내지 10 중량부의 분산안정제; 및 상기 비닐계 단량체 100 중량부 대비 0.1 내지 10 중량부의 라디칼 중합개시제;를 포함하여 이루어진 시드 고분자 입자 제조용 조성물에 가교도가 높은 제2가교제를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 시드 분산 중합을 통하여 5 중량% 이상의 가교도를 가지는 단분산 가교 고분자 입자를 제조 할 수 있으며, 가교도가 높은 가교제의 사용으로 인해 유기 용매에 대한 안정성이 우수한 입자를 제조 할 수 있다. 시드, 분산, 중합, 가교제, 단분산, 라디칼, 분산안정제
Int. CL C08F 2/44 (2006.01) C08F 2/38 (2006.01) C08J 3/12 (2006.01)
CPC C08F 2/14(2013.01) C08F 2/14(2013.01) C08F 2/14(2013.01) C08F 2/14(2013.01) C08F 2/14(2013.01)
출원번호/일자 1020080004605 (2008.01.15)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1313069-0000 (2013.09.24)
공개번호/일자 10-2009-0078668 (2009.07.20) 문서열기
공고번호/일자 (20130930) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020120080215;
심사청구여부/일자 Y (2009.12.21)
심사청구항수 23

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임상혁 대한민국 대전광역시 유성구
2 구재필 대한민국 대전광역시 유성구
3 장영래 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인필앤온지 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, *층(서초동, 준영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2008-0034421-28
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2008.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2008-0180573-95
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2009.12.21 수리 (Accepted) 1-1-2009-0789668-29
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0419161-66
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0759106-04
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0848062-48
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.11.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0942579-13
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0942578-78
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.04.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0233660-65
10 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2012.05.23 수리 (Accepted) 7-1-2012-0024737-84
11 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2012.07.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2012-0034920-12
12 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2012.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2012-0588185-68
13 심사전치출원의 심사결과통지서
Notice of Result of Reexamination		 2012.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0508837-11
14 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner		 2012.11.06 수리 (Accepted) 7-8-2012-0035986-01
15 등록결정서
Decision to grant		 2013.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0625901-47
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
시드 고분자 입자 및 상기 시드 고분자 입자 상에 형성된 제1가교제의 가교 결과물을 포함하고, 5 중량% 이상의 가교도를 갖는 단분산 가교 고분자 입자로서,상기 시드 고분자 입자가 라디칼 중합이 가능한 비닐계 단량체 100 중량부;상기 비닐계 단량체 100 중량부 대비 200 내지 2,000 중량부의 용매;상기 용매 100 중량부 대비 0
2 2
제1항에 있어서,상기 시드 고분자 입자 제조용 조성물은, 상기 비닐계 단량체 100 중량부 대비 0 초과 5 중량부 미만 함량의 제2가교제를 더 포함하여 이루어지고,상기 제2가교제는, 디비닐벤젠, 다관능성 아크릴레이트계 가교제, 및 올리고머계 가교제 중 선택된 하나에 속하는 물질인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자
3 3
삭제
4 4
제2항에 있어서,상기 다관능성 아크릴레이트계 가교제는, 에틸렌글리콜디메타아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸렌 프로필 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세롤 트리아크릴레이트, 트리메틸로프로판 에톡시 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세로 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 하이드록시 펜타아크릴레이트, 및 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물이며,상기 올리고머계 가교제는, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트, 및 폴리에테르 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서,상기 방향족 비닐계 단량체는, 스티렌, 알파메틸스티렌, 및 클로로스티렌 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물이며,상기 아크릴계 비닐계 단량체는, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴 레이트, 및 벤질(메타)아크릴레이트 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자
7 7
삭제
8 8
제1항에 있어서,상기 알코올계 용매는, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 2-부탄올, 이소부탄올, 메톡시 메탄올, 에톡시 메탄올, 메톡시 프로판올, 에톡시 프로판올, 및 디아세톤 알코올 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물이며,상기 셀로솔브계 용매는, 메틸솔로솔브, 에틸셀로솔브, 및 이소프로필셀로솔브 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자
9 9
제1항, 제2항 또는 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 분산 안정제는, 메틸셀룰로스, 에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐메틸에테르, 폴리비닐아세테이트, 폴리아크릴산, 및 폴리비닐술폰산 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자
10 10
제1항, 제2항 또는 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 분산 안정제는, 메틸셀룰로스, 에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐메틸에테르, 폴리비닐아세테이트, 폴리아크릴산, 및 폴리비닐술폰산 중 선택된 둘 이상의 물질의 공중합체인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자
11 11
제1항, 제2항 또는 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 라디칼 중합개시제는, 퍼옥사이드계 및 아조계 중 선택된 하나에 속하는 물질인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자
12 12
제11항에 있어서,상기 퍼옥사이드계화합물은, 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, o-클로로벤조일퍼옥사이드, o-메톡시벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 및 t-부틸퍼옥시이소부티레이트 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물이며,상기 아조계화합물은, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2메틸이소부티로니트릴), 및 2,2'-아조비스(2,4디메틸발레로니트릴)과 같은 아조계화합물 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자
13 13
삭제
14 14
제1항에 있어서,상기 다관능성 아크릴레이트계 가교제는, 디펜타에리스리톨 하이드록시 펜타아크릴레이트, 및 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘의 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자
15 15
(S1) 라디칼 중합이 가능한 비닐계 단량체, 상기 비닐계 단량체 100 중량부 대비 200 내지 2,000 중량부의 용매, 상기 용매 100 중량부 대비 0
16 16
제15항에 있어서,상기 (S1)단계의 시드 고분자 입자 제조용 조성물은, 상기 비닐계 단량체 100 중량부 대비 0 초과 5 중량부 미만 함량의 제2가교제를 더 포함하여 이루어지고,상기 제2가교제는, 디비닐벤젠, 다관능성 아크릴레이트계 가교제, 및 올리고머계 가교제 중 선택된 하나에 속하는 물질인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
17 17
삭제
18 18
제16항에 있어서,상기 다관능성 아크릴레이트계 가교제는, 에틸렌글리콜디메타아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸렌 프로필 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세롤 트리아크릴레이트, 트리메틸로프로판 에톡시 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세로 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 하이드록시 펜타아크릴레이트, 및 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물이며,상기 올리고머계 가교제는, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트, 및 폴리에테르 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
19 19
제15항에 있어서,상기 (S3) 단계의 제1가교제의 첨가는, 상기 (S1)단계에서 제조되는 시드 입자 전환율이 포화된 이후에 이루어지는 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
20 20
제15항에 있어서,상기 (S3) 단계의 제1가교제 첨가 후, 시드 고분자 입자에 대한 50 내지 80 ℃의 온도 조건하에서 8 시간 이하의 시간 동안 팽윤과정을 더 포함하여 진행한 후, 상기 (S4)단계의 가교 반응을 진행하는 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
21 21
제15항에 있어서,상기 (S3)단계에서, 상기 (S1)단계에서 사용된 라디칼 중합개시제 사용량의 5 내지 15%에 해당하는 양의 라디칼 중합개시제를 추가 투입하는 단계를 더 포함하여 진행하는 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
22 22
삭제
23 23
제15항에 있어서,상기 방향족 비닐계 단량체는, 스티렌, 알파메틸스티렌, 및 클로로스티렌 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물이며,상기 아크릴계 비닐계 단량체는, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴 레이트, 및 벤질(메타)아크릴레이트 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
24 24
삭제
25 25
제15항에 있어서,상기 알코올계 용매는, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 2-부탄올, 이소부탄올, 메톡시 메탄올, 에톡시 메탄올, 메톡시 프로판올, 에톡시 프로판올, 및 디아세톤 알코올 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물이며,상기 셀로솔브계 용매는, 메틸솔로솔브, 에틸셀로솔브, 및 이소프로필셀로솔브 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
26 26
제15항, 제16항 및 제18항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 분산 안정제는, 메틸셀룰로스, 에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐메틸에테르, 폴리비닐아세테이트, 폴리아크릴산, 및 폴리비닐술폰산 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상으로 이루어진 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
27 27
제15항, 제16항 및 제18항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 분산 안정제는, 메틸셀룰로스, 에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐메틸에테르, 폴리비닐아세테이트, 폴리아크릴산, 및 폴리비닐술폰산 중 선택된 둘 이상의 물질의 공중합체인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
28 28
제15항, 제16항 및 제18항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 라디칼 중합개시제는, 퍼옥사이드계 및 아조계 중 선택된 하나에 속하는 물질인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
29 29
제28항에 있어서,상기 퍼옥사이드계화합물은, 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, o-클로로벤조일퍼옥사이드, o-메톡시벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 및 t-부틸퍼옥시이소부티레이트 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물이며,상기 아조계화합물은, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2메틸이소부티로니트릴), 및 2,2'--조비스(2,4디메틸발레로니트릴)과 같은 아조계화합물 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
30 30
삭제
31 31
제15항에 있어서,상기 다관능성 아크릴레이트계 가교제는, 디펜타에리스리톨 하이드록시 펜타아크릴레이트, 및 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘의 혼합물인 것을 특징으로 하는 단분산 가교 고분자 입자 제조 방법
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1 KR1020120098560 KR 대한민국 FAMILY

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DOCDB 패밀리 정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.