맞춤기술찾기

이전대상기술

양극, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 리튬 이차 전지

  • 기술번호 : KST2015051133
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 양극 활물질과 도전재 및 바인더를 믹싱하여 집전체에 코팅한 후, 금속산화물층을 상기 전극 위에 ALD 증착법으로 코팅하는 양극의 제조방법, 양극 및 이를 포함하는 2차전지에 관한 것이다.본 발명은 양극 집전체 상에 양극 합제를 도포시킨 후, 여기에 고유전율의 금속산화물을 ALD 증착법을 이용하여 코팅함으로써 고온 저장시 성능이 우수하고, 양극 구조의 붕괴를 억제하여 사이클 특성이 우수하며, ALD 증착법을 이용하여 얇고 균일한 금속산화물의 코팅이 가능하다. 금속산화물*이차전지*양극*집전체*ALD
Int. CL H01M 4/04 (2006.01) H01M 10/052 (2010.01) H01M 4/02 (2006.01) H01M 4/64 (2006.01)
CPC H01M 4/139(2013.01) H01M 4/139(2013.01) H01M 4/139(2013.01) H01M 4/139(2013.01) H01M 4/139(2013.01) H01M 4/139(2013.01) H01M 4/139(2013.01) H01M 4/139(2013.01)
출원번호/일자 1020080002136 (2008.01.08)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1310556-0000 (2013.09.12)
공개번호/일자 10-2009-0076277 (2009.07.13) 문서열기
공고번호/일자 (20130923) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.10.23)
심사청구항수 17

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 최대식 대한민국 경기 용인시 기흥구
2 박혜웅 대한민국 대전광역시 유성구
3 이한호 대한민국 대전광역시 유성구
4 김지호 대한민국 대전광역시 동구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인태평양 대한민국 서울특별시 중구 청계천로 **, *층(다동, 예금보험공사빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2008-0014784-17
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2012.10.09 수리 (Accepted) 1-1-2012-0819443-06
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2012-0864365-87
4 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2012-0864453-07
5 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2012.11.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2012.11.06 수리 (Accepted) 9-1-2012-0083965-62
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.02.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0129510-08
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2013-0333637-25
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.05.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0455831-15
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.06.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0561783-19
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-0561787-02
12 등록결정서
Decision to grant
2013.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0582608-21
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
집전체 상에 도포된 양극 합제의 일부 또는 전부에 금속산화물층을 포함하며,상기 금속산화물층에 포함되는 금속 원자는 Hf, Ti, Ta, Y, Nb 및 이들의 alloy로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 양극
2 2
삭제
3 3
집전체 상에 양극 합제를 도포하는 단계;상기 양극 합제의 전부 또는 일부에 ALD 증착법으로 금속산화물층을 형성하는 단계를 포함하며,상기 금속산화물층에 포함되는 금속 원자는 Hf, Ti, Ta, Y, Nb 및 이들의 alloy로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 양극의 제조방법
4 4
제 3항에 있어서,상기 ALD 증착법은 상기 양극 합제가 도포된 집전체를 챔버 내에 위치시키는 단계;상기 챔버 내에 금속 원자를 첨가하는 단계;상기 챔버 내에 퍼지 가스를 첨가하는 단계;상기 양극 합제의 상부로 산화제를 첨가하여 금속산화물층을 형성하는 단계; 및상기 챔버 내에 퍼지 가스를 첨가하여 미반응 잔류 산화제를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양극의 제조방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 집전체를 위치시킬 때의 챔버 내부의 온도는 200 내지 500℃로 유지됨을 특징으로 하는 양극의 제조방법
6 6
제 4항에 있어서, 상기 집전체를 위치시킬 때의 챔버 내부의 압력은 0
7 7
제 4항에 있어서, 상기 금속 원자는 Zr, Hf, Ti, Ta, Y, Nb, Ba, Sr 및 이들의 alloy로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 양극의 제조방법
8 8
제 4항에 있어서, 상기 챔버 내에 첨가된 금속원자의 제1부분은 상기 양극 합제에 화학 흡착되고, 상기 제1부분을 제외한 금속원자의 제2부분은 물리 흡착되거나, 또는 챔버 내에 표류하는 것을 특징으로 하는 양극의 제조방법
9 9
제 4항에 있어서, 상기 퍼지 가스는 아르곤 가스 및 질소가스로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 불활성 가스인 것을 특징으로 하는 양극의 제조방법
10 10
제 8항에 있어서, 상기 퍼지 가스의 첨가로 상기 물리 흡착된 금속원자의 제2부분과, 챔버 내에 표류하는 원자는 제거됨을 특징으로 하는 양극의 제조방법
11 11
제 4항에 있어서, 상기 산화제는 O3, O2, H2O, 플라즈마 O2, 및 리모트 플라즈마 O2로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 양극의 제조방법
12 12
제 8항에 있어서, 상기 산화제는 상기 금속원자의 제1부분과 반응하여 금속산화막을 형성함을 특징으로 하는 양극의 제조방법
13 13
제 3항에 있어서, 상기 양극은 양극활물질, 도전재, 및 바인더를 포함하는 양극임을 특징으로 하는 양극의 제조방법
14 14
제 13항에 있어서, 상기 양극활물질은 층상 화합물, 또는 하나 이상의 전이금속으로 치환된 화합물; 화학식 Li1+xMn2-xO4(여기서, x 는 0 ~ 0
15 15
제 13항에 있어서, 상기 도전재는 흑연, 카본블랙, 도전성 섬유, 금속 분말, 도전성 위스키, 도전성 금속 산화물, 및 폴리페닐렌 유도체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 양극의 제조방법
16 16
제 13항에 있어서, 상기 바인더는 폴리비닐리덴플로라이드(PVDF), 폴리비닐알코올, 카르복시메틸셀룰로우즈(CMC), 전분, 히드록시프로필셀룰로우즈, 재생 셀룰로우즈, 폴리비닐피롤리돈, 테트라플루오로에틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌-디엔 폴리머(EPDM), 술폰화-EPDM, 스티렌-부타디엔 고무, 불소 고무, 및 이들의 다양한 공중합체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 양극의 제조방법
17 17
제 1항에 따른 양극을 포함하는 리튬 이차전지
18 18
제 17 항에 있어서, 상기 전지는 중대형 전지 시스템에 사용되는 것을 특징으로 하는 리튬 이차전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.