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유리전이온도가 -50℃ 내지 -10℃인 수분산형 아크릴계 점착 수지; 및 평균입경이 1
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제 1 항에 있어서,아크릴계 점착 수지는 중량평균분자량이 5만 내지 70만인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 가공용 보호 필름용 수성 점착제 조성물
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제 1 항에 있어서,아크릴계 점착 수지는 탄소수 1 내지 12의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르계 단량체 90 내지 99
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제 3 항에 있어서,(메타)아크릴산 에스테르계 단량체는 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, 이소프로필 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, 펜틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸부틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, n-옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, n-테트라데실 (메타)아크릴레이트 및 이소노닐 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 가공용 보호 필름용 수성 점착제 조성물
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제 3 항에 있어서,가교성 관능기 함유 단량체는 히드록시기 함유 단량체, 카복실기 함유 단량체 및 질소 함유 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 가공용 보호 필름용 수성 점착제 조성물
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제 3 항에 있어서,아크릴계 점착 수지는 유리전이온도가 0℃ 내지 110℃인 공단량체를 0
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7
제 1 항에 있어서,다공성 충진제는 직경이 0
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제 1 항에 있어서,다공성 충진제는 실리카, 산화알루미늄, 수산화알루미늄, 산화마그네슘, 수산화마그네슘, 산화칼슘, 수산화칼슘, 카본 블랙, 카본 파이버, 산화안티몬, 오산화안티몬 및 지르코니아로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 가공용 보호 필름용 수성 점착제 조성물
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9 |
9
제 1 항에 있어서,다공성 충진제는 아크릴계 점착 수지 100 중량부에 대하여 0
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10
제 1 항에 있어서,아크릴계 점착 수지 100 중량부에 대하여 0
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11
제 10 항에 있어서,가교제는 아지리딘계 화합물, 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물 및 금속 킬레이트계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 가공용 보호 필름용 수성 점착제 조성물
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12
수분산형 아크릴계 점착 수지를 제조하는 제 1 단계; 및제 1 단계에서 제조된 아크릴계 점착 수지 및 다공성 충진제를 혼합하는 제 2 단계를 포함하는 제 1 항의 수성 점착제 조성물의 제조 방법
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13
제 12 항에 있어서,제 1 단계에서 수분산형 아크릴계 점착 수지가 수거 중합법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 제조 방법
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14
제 12 항에 있어서,제 1 단계는 수분산형 아크릴계 점착 수지의 제조 후에 불순물 이온 성분을 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법
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15
제 12 항에 있어서,제 2 단계에서 가교제를 추가로 혼합하는 것을 특징으로 하는 제조 방법
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16
기재 필름; 및상기 기재 필름의 일면 또는 양면에 형성되고 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 점착제 조성물을 함유하는 점착층을 포함하는 웨이퍼 가공용 보호필름
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17
제 16 항에 있어서,기재 필름은 에틸렌-초산비닐 공중합체 필름, 폴리 부타디엔 필름, 연질 염화비닐 수지 필름, 폴리올레핀 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 디엔계 합성 고무, 니트릴계 합성 고무, 실리콘계 합성 고무 및 아크릴계 합성 고무로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 상기 중 2 이상이 적층된 필름인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 가공용 보호필름
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제 16 항에 있어서,점착층의 가교 밀도가 80 내지 99%인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 가공용 보호필름
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제 16 항에 있어서,점착층 상에 형성된 박리 필름을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 가공용 보호필름
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20
(1) 웨이퍼에 제 16 항에 따른 보호필름을 부착하는 단계; 및(2) 보호필름이 부착된 웨이퍼의 이면을 연삭하는 단계를 포함하는 백그라인딩 방법
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