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시료의 식각면에 광을 제공하고, 상기 광의 경로를 변경하는 광원부와;상기 식각면으로부터 반사 및 투과된 광을 측정하고, 상기 측정된 광 신호를 분석하여 식각정도를 검출하고, 상기 검출된 식각 정도로부터 식각율을 제어하는 식각 종점 검출부;를 포함하고,상기 광원부는 시료의 식각면에 광을 조사하는 광원 발생수단을 포함하고,상기 광원 발생수단은 상기 식각면의 제1영역에 광을 조사하는 제1광원 발생수단과 상기 제1영역과 다른 제2영역에 광을 조사하는 제2광원 발생수단을 구비하는 식각 종말점 검출장치
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제 1항에 있어서,상기 광원부는 상기 광원 발생수단에 결합하여 상기 식각면에 대한 상기 광원부의 조사광 경로를 변경하는 광경로 변경수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 식각 종말점 검출장치
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제 2항에 있어서,상기 광원부는 상기 식각면에 레이저 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 식각 종말점 검출장치
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제 1항에 있어서,상기 식각 종점 검출부는식각면을 투과한 광 또는 식각면에 반사된 광을 감지하여 광도를 측정하는 광측정 모듈과;상기 광측정 모듈을 통해 측정된 광도와 기준 광도를 비교하여 식각 정도를 검출하는 식각정도 검출모듈과;상기 검출된 식각 정도를 식각 장치로 전송하는 식각정보 전송모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 식각 종말점 검출장치
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제 4항에 있어서,상기 식각정도 검출모듈은 상기 광측정 모듈을 통해 측정된 광도가 기준 광도를 벗어난 경우 이를 표시 또는 경고하는 것을 특징으로 하는 식각 종말점 검출장치
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제 4항에 있어서,상기 식각정도 검출모듈은식각 깊이에 따라 식각면을 투과한 광 또는 반사된 광의 기준 광도 값을 미리 저장하는 것을 특징으로 하는 식각 종말점 검출장치
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제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항의 식각 종말점 검출장치; 및식각액을 이용하여 시료를 습식 식각하는 식각 공정을 제어하는 제어부;를 포함하고,상기 식각 종말점 검출장치는 상기 시료의 습식 식각 정도를 검출하여 상기 제어부에 전송하는 것을 특징으로 하는 습식 식각 장치
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(a) 시료의 식각면의 제1영역에 광을 조사하고 상기 제1영역과 다른 상기 식각면의 제2영역에 광을 조사하는 단계와;(b) 상기 제1영역 및 상기 제2영역에서 상기 식각면을 투과한 광 또는 상기 식각면에서 반사된 광을 각각 감지하는 단계;(c) 상기 감지된 광의 광도와 기준 광도를 비교하여 상기 제1영역과 상기 제2영역에서의 식각 정도를 검출하는 단계와;(d) 상기 검출된 식각 정도를 식각 장치에 전송하여 식각율을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 종말점 검출 방법
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제 8항에 있어서,상기 (a) 단계는광원으로 레이저 광을 사용하는 것을 특징으로 하는 종말점 검출 방법
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제 8항에 있어서,상기 (a) 단계는식각면에 따라 광의 경로를 변경하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 종말점 검출 방법
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제 8항에 있어서,상기 (c) 단계는상기 감지된 광도와 기준 광도의 비교결과, 상기 감지된 광도가 상기 기준 광도를 벗어난 경우 이를 표시 또는 경고하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 종말점 검출 방법
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