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저순도 실리콘 스크랩을 정련하여 태양 전지급 고순도실리콘 주괴를 제조하기 위한 시스템, 방법 및 그에 의해제조된 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴

  • 기술번호 : KST2015051778
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 의하면, 저순도 실리콘 스크랩을 정련하여 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 연속 제조하기 위한 시스템으로서, 진공 체임버; 상기 진공 체임버 내에 배치되고, 수직축을 가지며, 상부의 열도가니와 하부의 냉도가니로 이루어지고, 유도코일에 의해 둘러싸여 있으며, 상기 열도가니는 냉각이 되지 아니하며, 전기전도성의 비금속 재료로 이루어지고, 상기 냉도가니는 수냉구조를 가지고 있으며, 열전도성 및 전기전도성의 금속 재료로 이루어지는 하부개방형 도가니; 상기 진공 체임버 내에 배치되며, 상기 하부 개방형 도가니에 상기 저순도 실리콘 스크랩을 공급하는 실리콘 스크랩 공급 수단; 상기 진공 체임버 내에 배치되며, 상기 하부 개방형 도가니에 공급된 상기 저순도 실리콘 스크랩에 플라즈마를 조사하는 플라즈마 아크 가열원;및 상기 진공 체임버 내에 배치되고, 상기 저순도 실리콘 스크랩으로부터 얻어진 용탕 표면에 반응성 가스를 공급하는 반응성 가스 공급 수단을 포함하는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 연속 제조하기 위한 시스템이 제공된다. 태양전지, 실리콘, 정련
Int. CL C30B 15/08 (2006.01) C30B 29/06 (2006.01)
CPC C30B 29/06(2013.01) C30B 29/06(2013.01) C30B 29/06(2013.01) C30B 29/06(2013.01)
출원번호/일자 1020080027488 (2008.03.25)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-0981134-0000 (2010.09.02)
공개번호/일자 10-2009-0102199 (2009.09.30) 문서열기
공고번호/일자 (20100910) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.03.25)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문병문 대한민국 서울특별시 구로구
2 신제식 대한민국 인천광역시 연수구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인세신 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 *** (가산동, 월드메르디앙벤처센터II)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.03.25 수리 (Accepted) 1-1-2008-0216415-78
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2008-5164358-96
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5178457-80
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.11.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.12.15 수리 (Accepted) 9-1-2008-0082377-29
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2009-5013686-94
7 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.11.16 수리 (Accepted) 1-1-2009-0700325-77
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.02.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0089343-37
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.04.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0209041-90
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.04.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0209040-44
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
12 등록결정서
Decision to grant
2010.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0381288-96
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
저순도 실리콘 스크랩을 정련하여 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 연속 제조하기 위한 시스템으로서, 진공 체임버; 상기 진공 체임버 내에 배치되고, 수직축을 가지며, 상부의 열도가니와 하부의 냉도가니로 이루어지고, 유도코일에 의해 둘러싸여 있으며, 상기 열도가니는 냉각이 되지 아니하며, 전기전도성의 비금속 재료로 이루어지고, 상기 냉도가니는 수냉구조를 가지고 있으며, 열전도성 및 전기전도성의 금속 재료로 이루어지는 하부개방형 도가니; 상기 진공 체임버 내에 배치되며, 상기 하부 개방형 도가니에 상기 저순도 실리콘 스크랩을 공급하는 실리콘 스크랩 공급 수단; 상기 진공 체임버 내에 배치되며, 상기 하부 개방형 도가니에 공급된 상기 저순도 실리콘 스크랩에 플라즈마를 조사하는 플라즈마 아크 가열원;및 상기 진공 체임버 내에 배치되고, 상기 저순도 실리콘 스크랩으로부터 얻어진 용탕 표면에 반응성 가스를 공급하는 반응성 가스 공급 수단을 포함하는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 연속 제조하기 위한 시스템
2 2
제1 항에 있어서, 상기 열도가니는 상단부가 둘레방향으로 일체화되어 있고, 하단부는 둘레방향의 적어도 일부가 종방향의 슬릿들에 의해 세그먼트로 분할된 구조를 이루며, 상기 냉도가니는 둘레방향의 적어도 일부분이 종방향의 슬릿들에 의해 상단부로부터 하단부까지 세그먼트로 분할되는 구조를 이루는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 시스템
3 3
제2 항에 있어서, 상기 종방향의 슬릿들중 적어도 일부가 상기 열도가니와 상기 냉도가니에 걸쳐서 직선적으로 이어지는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 시스템
4 4
제1 항에 있어서, 상기 전기전도성의 비금속재료는 흑연인 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 시스템
5 5
제1 항에 있어서, 상기 열도가니의 외부는 자기장을 투과시키는 단열재로 둘러싸이는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 시스템
6 6
제1 항에 있어서, 상기 반응성 가스 공급 수단에 의해 공급되는 상기 반응성 가스는 산소와 수소의 혼합물인 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 시스템
7 7
제6 항에 있어서, 상기 반응성 가스 공급 수단에 의해 공급되는 상기 반응성 가스는 고순도 물을 가스화하여 얻어지는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 시스템
8 8
저순도 실리콘 스크랩을 정련하여 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 연속 제조하기 위한 방법으로서, 상기 저순도 실리콘 스크랩을 진공 체임버 내에 배치된 하부 개방형 도가니에 공급하는 단계; 상기 저순도 실리콘 스크랩을 용융시키고 및 상기 저순도 실리콘 스크랩으로 부터 얻어진 용탕에 포함된 휘발성 불순물을 휘발시키기 위하여, 상기 하부 개방형 도가니에 유도 가열열을 인가하고 상기 저순도 실리콘 스크랩에 플라즈마를 조사하는 단계; 상기 저순도 실리콘 스크랩으로부터 얻어진 용탕에 포함된 난휘발성 불순물을 상기 휘발성 불순물 형태로 반응시키기 위해서, 상기 저순도 실리콘 스크랩으로부터 얻어진 용탕의 표면에 반응성 가스를 공급하는 단계;및 상기 휘발성 불순물 및 상기 난휘발성 불순물이 제거된 용탕을 서냉하여 방향성 응고를 행하는 단계를 포함하고, 여기서, 상기 하부 개방형 도가니는, 수직축을 가지며, 상부의 열도가니와 하부의 냉도가니로 이루어지고, 유도코일에 의해 둘러싸여 있으며, 상기 열도가니는 냉각이 되지 아니하며, 전기전도성의 비금속 재료로 이루어지고, 상기 냉도가니는 수냉구조를 가지고 있으며, 열전도성 및 전기전도성의 금속 재료로 이루어지는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 연속 제조하기 위한 방법
9 9
제 8항에 있어서, 상기 휘발성 불순물은 Si보다 끓는점이 낮으면서 방향성응고에 의한 제거가 불가능한 정도의 평형 분배 계수를 갖는 불순물이고, 상기 난휘발성 물질은 Si 보다 끓는점이 높으면서 방향성응고에 의한 제거가 불가능한 정도의 평형 분배 계수를 갖는 불순물인 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 연속 제조하기 위한 방법
10 10
제8 항에 있어서, 상기 하부 개방형 도가니의 상기 열도가니는 상단부가 둘레방향으로 일체화되어 있고, 하단부는 둘레방향의 적어도 일부가 종방향의 슬릿들에 의해 세그먼트로 분할된 구조를 이루며, 상기 냉도가니는 둘레방향의 적어도 일부분이 종방향의 슬릿들에 의해 상단부로부터 하단부까지 세그먼트로 분할되는 구조를 이루는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 방법
11 11
제10 항에 있어서, 상기 하부 개방형 도가니의 상기 종방향의 슬릿들중 적어도 일부가 상기 열도가니와 상기 냉도가니에 걸쳐서 직선적으로 이어지는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 방법
12 12
제8 항에 있어서, 상기 하부 개방형 도가니의 상기 전기전도성의 비금속재료는 흑연인 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 방법
13 13
제8 항에 있어서, 상기 열도가니의 외부는 자기장을 투과시키는 단열재로 둘러싸이는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 방법
14 14
제8 항에 있어서, 상기 공급되는 반응성 가스는 산소와 수소의 혼합물로 이루어지는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 방법
15 15
제14 항에 있어서, 상기 공급되는 반응성 가스는 고순도 물을 가스화하여 얻어지는 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴를 제조하기 위한 방법
16 16
제8 항 내지 제 15항 중 어느 한 항 따른 방법을 이용하여 얻어진 태양 전지급 고순도 실리콘 주괴
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.