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클리체 형성방법 및 이를 포함하는 레지스트 패턴 인쇄장치

  • 기술번호 : KST2015052081
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 레지스트 패턴 인쇄장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 미세패턴의 불량이 없는 레지스트 패턴 인쇄장치용 클리체 형성방법에 관한 것이다. 본 발명의 특징은 클리체 상에 홈을 형성하는 과정에서, 제 1 및 제 2 폭을 가지는 홈을 선택적으로 식각 형성함으로써, 클리체에 서로 다른 폭과 깊이를 가지는 다수의 홈을 형성하는 것이다. 이로 인하여 인쇄용 블랑켓의 레지스트 전사 패턴이 클리체 홈의 바닥면에 일부 전사됨으로써 발생되었던 패턴 불량과 같은 문제점을 방지할 수 있다. 클리체, 인쇄용 블랑켓, 역 오프셋(reverse offset) 인쇄패턴
Int. CL G02F 1/13 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01)
CPC B41N 10/02(2013.01) B41N 10/02(2013.01)
출원번호/일자 1020080045343 (2008.05.16)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1403870-0000 (2014.05.29)
공개번호/일자 10-2009-0119358 (2009.11.19) 문서열기
공고번호/일자 (20140609) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.04.30)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김남국 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 국윤호 대한민국 서울특별시 금천구
3 류순성 대한민국 경기도 군포시 고산로***번길 **, 금강APT *
4 장윤경 대한민국 경기도 안양시 동안구
5 남승희 대한민국 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 네이트특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2008-0347313-58
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.04.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0380641-00
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0070055-08
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.03.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0284140-42
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.03.25 수리 (Accepted) 1-1-2014-0284139-06
9 등록결정서
Decision to grant
2014.05.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0366513-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
인쇄용 테이블과; 상기 인쇄용 테이블 상에 놓이며, 제 1 및 제 2 폭을 각각 갖는 제 1 및 제 2 홈이 구성된 클리체와; 상기 클리체의 상면으로 회전하면서 레지스트를 전사하는 인쇄용 블랑켓을 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 홈은 각각 제 1 깊이와 상기 제 1 깊이보다 더 큰 제 2 깊이를 가지는 역테이퍼구조이며, 상기 레지스트가 전사된 상기 인쇄용 블랑켓의 외주면에는 상기 제 1 및 제 2 홈에 대응하는 레지스트패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 인쇄장치
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 홈은 상기 제 1 및 제 2 폭과 상기 제 1 및 제 2 깊이가 서로 비례하는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 인쇄장치
4 4
삭제
5 5
기판 상에 제 1 금속층 및 제 1 감광층을 순차적으로 형성하는 단계와; 상기 제 1 감광층을 현상하여 제 1 감광패턴을 형성하는 단계와; 상기 제 1 감광패턴 사이에 노출된 상기 제 1 금속층 및 상기 기판을 식각하여, 서로 동일한 제 1 폭과 제 1 깊이를 갖는 제 1 및 제 2 홈을 형성하는 단계와;상기 제 1 감광패턴과 상기 제 1 금속층을 제거하고, 식각된 상기 기판 상부에 제 2 금속층 및 제 2 감광층을 순차적으로 형성하는 단계와;상기 제 2 감광층을 형성하여 제 2 감광패턴을 형성하는 단계와; 상기 제 2 감광패턴 사이에 상기 제 2 홈을 노출시키고, 상기 제 1 홈의 제 1 폭 및 제 1 깊이와 다른 제 2 폭 및 제 2 깊이를 갖도록 상기 제 2 홈을 더 식각하는 단계와; 상기 제 2 감광패턴과 상기 제 2 금속층을 제거하는 단계를 포함하는 레지스트 패턴 인쇄장치용 클리체 형성방법
6 6
삭제
7 7
제 5 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 홈은 상기 제 1 및 제 2 폭과 상기 제 1 및 제 2 깊이가 서로 비례하는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 인쇄장치용 클리체 형성방법
8 8
제 5 항에 있어서, 상기 제 2 깊이는 상기 제 1 깊이에 비해 상기 제 2 폭이 상기 제 1 폭에서부터 늘어난 폭의 1/2 만큼 더욱 깊게 식각 되는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 인쇄장치용 클리체 형성방법
9 9
제 5 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 홈은 등방성 식각되는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 인쇄장치용 클리체 형성방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.