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하부 기판 상에 박막 트랜지스터와;상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 접속된 화소 전극과;상기 화소 전극 상에 형성된 제1 전극과;상기 제1 전극 상에 발광층을 포함하는 유기층과;상기 유기층 상에 형성된 제2 전극과;상기 제 2 전극과 직접 접촉되도록 상기 하부 기판 상에 상기 발광층과 대응되는 영역에 다수의 마이크로 렌즈를 구비한 렌즈 형성층을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 표시 패널
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제1항에 있어서,상기 다수의 마이크로 렌즈는 반구 형태를 가지거나, 삼각형 형태, 사각형 형태, 다각형 형태를 가지는 것을 특징으로 하는 발광 표시 패널
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제1항에 있어서,상기 다수의 마이크로 렌즈는 상기 제2 전극에서부터 렌즈 하부까지의 거리가 0
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제1항에 있어서,상기 렌즈 형성층은 유기 절연 레진으로 형성되는 것을 특징으로 하는 발광 표시 패널
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하부 기판 상에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계와;상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 접속되도록 화소 전극을 증착하는 단계와;상기 화소 전극 상에 제1 전극, 발광층을 포함하는 유기층, 제2 전극을 증착하는 단계와;상기 박막 트랜지스터, 화소 전극, 제1 전극, 유기층, 제2 전극이 형성된 하부 기판 상에 상기 발광층과 대응되는 영역에 상기 제2 전극과 직접 접촉되도록 다수의 마이크로 렌즈를 가지는 렌즈 형성층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 표시 패널의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 렌즈 형성층 상에 형성된 다수의 마이크로 렌즈는 나노 임프린트용 몰드를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 발광 표시 패널의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 나노 임프린트용 몰드를 형성하는 단계는제1 유리 기판 상에 금속층 및 포토레지스트를 도포하는 단계와;포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 상기 금속층을 패터닝하여 다수의 반구 형태의 렌즈 모양을 형성하는 단계와;상기 다수의 반구 형태의 렌즈 모양이 형성된 상기 제1 유리 기판 상에 레진이 형성된 제2 유리 기판을 서로 마주보도록 상기 제1 유리 기판 상에 상기 제2 유리 기판을 덮어 상기 레진이 반전된 다수의 반구 형태의 모양을 가지는 나노 임프린트용 몰드를 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 표시 패널의 제조 방법
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제7항에 있어서,상기 박막 트랜지스터, 화소 전극, 제1 전극, 유기층, 제2 전극이 형성된 하부 기판 상에 상기 발광층과 대응되는 영역에 다수의 마이크로 렌즈를 가지는 렌즈 형성층을 형성하는 단계는상기 반전된 다수의 반구 형태의 모양을 가지는 나노 임프린트용 몰드를 상기 박막 트랜지스터, 화소 전극, 제1 전극, 유기층, 제2 전극이 형성된 하부 기판 상에 정렬하는 단계와; 상기 나노 임프린트용 몰드를 상기 발광층 영역과 대응되게 상기 렌즈 형성층을 가압하는 단계와;상기 발광층 영역과 대응되는 영역에 다수의 마이크로 렌즈를 포함하는 상기 렌즈 형성층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 표시 패널의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 렌즈 형성층은 유기 절연 레진으로 형성되는 것을 특징으로 하는 발광 표시 패널의 제조 방법
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