맞춤기술찾기

이전대상기술

프로세스 키를 포함하는 표시장치 및 그 포토 얼라인 방법

  • 기술번호 : KST2015052625
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 포토 얼라인 공정 중 미스 얼라인에 의한 공정 불량을 개선할 수 있는 프로세스 키를 포함하는 표시장치 및 그 포토 얼라인 방법에 관한 것이다.이를 위한 본 발명에 따른 표시장치는 노광척 상에 화상을 구현하는 표시 영역과, 이를 제외한 비표시 영역으로 구분되고, 상기 비표시 영역의 일측 더미 부분에 검사 영역이 정의되는 불투명한 도전성 물질로 이루어진 기판을 마스크와 정렬시키기 위한 포토 얼라인 공정을 진행하는 데 있어서, 상기 기판의 상부에 레진 계열의 물질로 이루어진 버퍼층과; 상기 버퍼층 상의 상기 검사 영역에 대응하여 각각 이격 구성된 다수의 프로세스 키와; 상기 다수의 프로세스 키의 상부를 덮는 절연막과; 상기 절연막 상의 반도체 물질층을 포함하는 것을 특징으로 한다.전술한 구성은 기판 상에 빛을 흡수할 수 있는 레진으로 이루어진 버퍼층에 의해 프로세스 키를 이용한 얼라인 공정 중 기판의 스크래치나 이물에 의한 간섭에 따른 노이즈 불량을 방지할 수 있는 장점으로 포토 얼라인 공정을 정밀하게 제어할 수 있게 된다.
Int. CL G02F 1/1345 (2006.01) G02F 1/167 (2006.01)
CPC G03F 9/708(2013.01) G03F 9/708(2013.01) G03F 9/708(2013.01) G03F 9/708(2013.01)
출원번호/일자 1020080057289 (2008.06.18)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1474259-0000 (2014.12.12)
공개번호/일자 10-2009-0131425 (2009.12.29) 문서열기
공고번호/일자 (20141218) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.06.07)
심사청구항수 7

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 안재준 대한민국 경상북도 구미시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 네이트특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.06.18 수리 (Accepted) 1-1-2008-0435466-11
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.06.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0506079-61
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.12.26 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.02.11 수리 (Accepted) 9-1-2014-0009488-40
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.03.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0194566-91
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.05.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0466813-85
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.05.19 수리 (Accepted) 1-1-2014-0466812-39
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.09.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0647159-14
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.11.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1116698-89
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.11.19 수리 (Accepted) 1-1-2014-1116696-98
14 등록결정서
Decision to grant
2014.12.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0852235-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
노광척 상에 화상을 구현하는 표시 영역과, 이를 제외한 비표시 영역으로 구분되고, 상기 비표시 영역의 일측 더미 부분에 검사 영역이 정의되는 불투명한 도전성 물질로 이루어진 기판을 마스크와 정렬시키기 위한 포토 얼라인 공정을 진행하는 데 있어서,상기 기판의 상부에 레진 계열의 물질로 이루어진 버퍼층과;상기 버퍼층 상의 상기 검사 영역에 대응하여 각각 이격 구성된 다수의 프로세스 키와;상기 다수의 프로세스 키의 상부를 덮는 절연막과;상기 절연막 상의 반도체 물질층을 포함하고,상기 버퍼층은 적, 녹, 청 및 흑을 포함하는 레진 계열의 물질 그룹 중 선택된 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 표시장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 버퍼층과 다수의 프로세스 키의 사이 공간에는 무기절연물질이나 유기절연물질 그룹 중 선택된 하나로 층간 절연막이 형성된 것을 특징으로 하는 표시장치
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서,상기 버퍼층은 1
5 5
제 1 항에 있어서,상기 버퍼층은 1012 ~ 1020 의 유전율을 가지는 것을 특징으로 하는 표시장치
6 6
제 1 항에 있어서,상기 다수의 프로세스 키는 게이트 배선 또는 데이터 배선과 동일층 동일 물질로 형성된 것을 특징으로 하는 표시장치
7 7
제 1 항에 있어서,상기 기판은 SUS와 크롬을 포함하는 도전성 물질 그룹 중 선택된 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 표시장치
8 8
제 1 항에 의한 표시장치의 제조를 위한 노광기와 검사 장비를 이용한 포토 얼라인 방법에 있어서,상기 반도체 물질층의 상부를 덮는 감광층을 형성하는 단계와;상기 감광층과 이격된 상부로 마스크와, 상기 마스크와 이격된 일 측으로 검사 장비를 배치시키는 단계와;상기 마스크와 이격된 상부에 위치하는 노광기로부터의 광원을 상기 검사 영역에 대응된 기판에 조사하는 단계와;상기 검사 영역에 대응된 상기 다수의 프로세스 키를 제외한 부분으로 조사된 빛은 상기 버퍼층에 모두 흡수되고, 상기 다수의 프로세스 키에 반사된 빛만을 상기 검사 장비로 검출하여 상기 기판과 마스크를 얼라인하는 단계를 포함하는 노광기와 검사 장비를 이용한 포토 얼라인 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.