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도전성 적층체 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015052727
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라스틱 기재; 상기 플라스틱 기재의 일면 위에 진공증착된 산화인듐계 투명도전막; 및 상기 플라스틱 기재의 나머지 일면 위에 진공증착된 산화아연계 투명도전막을 포함하는 도전성 적층체에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 (i) 플라스틱 기재의 일면 위에 산화인듐계 투명도전막을 진공증착하는 단계; 및 (ii) 상기 플라스틱 기재의 나머지 일면 위에 산화아연계 투명도전막을 진공증착하는 단계를 포함하는 것이 특징인 상기 도전성 적층체의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL B32B 15/00 (2006.01) B32B 27/00 (2006.01) B32B 27/36 (2006.01)
CPC B32B 15/09(2013.01)B32B 15/09(2013.01)B32B 15/09(2013.01)B32B 15/09(2013.01)
출원번호/일자 1020080068308 (2008.07.14)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1642511-0000 (2016.07.19)
공개번호/일자 10-2010-0007605 (2010.01.22) 문서열기
공고번호/일자 (20160725) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020130130497;
심사청구여부/일자 Y (2011.01.19)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이승정 대한민국 대전광역시 서구
2 방정식 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.07.14 수리 (Accepted) 1-1-2008-0505641-81
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2011.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0043186-97
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2011.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0044216-47
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2011.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2011-0258936-10
5 선행기술조사의뢰서(내부)
Request for Prior Art Search (Inside)		 2012.04.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.05.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2012-0003957-15
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.07.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0413572-12
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.09.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0730489-86
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.09.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-0730490-22
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0056520-64
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.03.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0268643-96
12 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0378071-82
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0467961-67
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.05.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0467964-04
15 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2013.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0670657-45
16 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2013.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0988269-11
17 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner		 2014.01.15 수리 (Accepted) 7-8-2014-0001356-96
18 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0420480-54
19 협의요구서
Request for Consultation		 2014.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0420479-18
20 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.08.20 수리 (Accepted) 1-1-2014-0788644-28
21 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.08.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0788645-74
22 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0713491-40
23 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2014.11.20 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2014-0044065-48
24 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2014.12.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0893084-47
25 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
26 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2015.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2015-0207310-14
27 심사전치출원의 심사결과통지서
Notice of Result of Reexamination		 2015.04.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0235369-33
28 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner		 2015.05.15 수리 (Accepted) 7-8-2015-0012355-32
29 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
30 등록결정서
Decision to grant		 2016.04.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0294549-17
31 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
32 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
33 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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(i) 아웃개싱의 전처리가 되지 않은 플라스틱 기재의 일면 위에 산화인듐계 투명도전막을 진공증착하는 단계; 및(ii) 상기 플라스틱 기재의 나머지 일면 위에 산화아연계 투명도전막을 진공증착하는 단계를 포함하는 도전성 적층체의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 진공증착은 스퍼터링(sputtering)에 의해 수행되는 도전성 적층체의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 플라스틱 기재는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 폴리아릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리에테르설폰(PES), 비스페놀A폴리설폰, 폴리이미드(PI), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리비닐클로라이트(PVC), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리비닐알코올(PVA), 폴리노보넨, 아로마틱 플로렌 폴리에스터 및 환상형 올레핀 공중합체로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자로 이루어진 필름 또는 시트이거나; 또는 상기 선택되는 1종 이상의 고분자에 유기 또는 무기 첨가물이 함유된 고분자 복합 재료로 이루어진 필름 또는 시트인 도전성 적층체의 제조방법
14 14
제10항에 있어서, 상기 산화인듐계 투명도전막은 Sn, Ti, W, Ce 및 Zn로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 원소 또는 상기 원소의 산화물을 도판트로서 0
15 15
제10항에 있어서, 상기 산화아연계 투명도전막은 Ga, Si, Ge, Al, Sn, B, In, Tl, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Co 및 Ni로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 원소 또는 상기 원소의 산화물을 도판트로서 0
16 16
제10항에 있어서, (i)단계 이전; 또는 (ii)단계 이전; 또는 (i)단계 이전과 (ii)단계 이전에, 유기물, 무기물 및 유기-무기 하이브리드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 중간층(interlayer)을 상기 플라스틱 기재의 일면 또는 양면 위에 형성하는 단계를 더 포함하는 도전성 적층체의 제조방법
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